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1. 发明专利

TW201716340A 工業水系統的處理审中-公开
简体标题：工业水系统的处理
公开(公告)号：TW201716340A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105139675
申请日：2013-02-25
申请人：奈寇公司 , NALCO COMPANY
发明人：勞那拉辛哈M , RAO, NARASIMHA M. , 海曲史蒂芬R , HATCH, STEVEN R. , 帆崔斯克威廉A , VON DRASEK, WILLIAM A.
IPC分类号： C02F9/00 , C02F1/68 , G01N21/64 , G01N33/18 , G05D21/00
CPC分类号： B01D61/00 , B01D2311/10 , B01D2311/14 , B01D2311/16 , B01D2311/18 , B01D2311/243 , C02F1/008 , C02F1/44 , C02F1/686 , C02F1/687 , C02F2103/023 , C02F2103/18 , C02F2103/28 , C02F2103/365 , C02F2103/42 , C02F2209/006 , C02F2209/01 , C02F2209/02 , C02F2209/04 , C02F2209/06 , C02F2209/11 , C02F2209/40
摘要：本發明揭示一種控制工業水系統之處理的方法。該方法包含以下步驟：提供一種用於控制至少一種處理化學品之傳遞的設備，該設備包含至少一個感測器及執行方案之電子輸入/輸出裝置；使用該至少一個感測器量測工業水系統之參數；將所量測之參數中繼至該電子裝置；基於所量測之參數調整方案；根據所調整之方案將濃縮之處理化學品傳遞至工業水系統之液流中，該濃縮之處理化學品包含活性成分，必要時追蹤該活性成分，該活性成分具有一定濃度；重複量測、調整及傳遞；且視情況重複該等步驟以獲取參數之n值、活性成分之n值及/或濃縮之處理化學品之n值。
简体摘要：本发明揭示一种控制工业水系统之处理的方法。该方法包含以下步骤：提供一种用于控制至少一种处理化学品之传递的设备，该设备包含至少一个传感器及运行方案之电子输入/输出设备；使用该至少一个传感器量测工业水系统之参数；将所量测之参数中继至该电子设备；基于所量测之参数调整方案；根据所调整之方案将浓缩之处理化学品传递至工业水系统之液流中，该浓缩之处理化学品包含活性成分，必要时追踪该活性成分，该活性成分具有一定浓度；重复量测、调整及传递；且视情况重复该等步骤以获取参数之n值、活性成分之n值及/或浓缩之处理化学品之n值。

2. 发明专利

TW201708124A 低氘飽和氫水之製造方法审中-公开
简体标题：低氘饱和氢水之制造方法
公开(公告)号：TW201708124A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW104128277
申请日：2015-08-28
申请人：漢氫科技股份有限公司 , H BANK TECHNOLOGY INC.
发明人：安憶心 , AN, I-HSIN , 施志剛 , SHIH, CHIH-KANG
IPC分类号： C02F1/68
CPC分类号： A61K33/00 , A23L2/54 , A23V2002/00 , C02F1/008 , C02F1/4693 , C02F1/68 , C02F2103/026 , C02F2201/46
摘要：本發明係關於一種低氘飽和氫水之製造方法，包括：(a)提供一蒸餾水或礦泉水；(b)提供一固態儲氫器，藉由該固態儲氫器提供一高純氫氣；(c)在10~28℃的作業環境溫度下，控制該高純氫氣之壓力在3~8bar之範圍；(d)控制該高純氫氣之流速在3~5L/min之範圍，並將該高純氫氣通入該蒸餾水或礦泉水中，藉由將該高純氫氣通入該蒸餾水或礦泉水中所產生之一壓力差而將該蒸餾水或礦泉水中之氘置換溢出；以及(e)控制作業時間為30~90分鐘之間，以形成一低氘飽和氫水。藉此，可提供一種低耗能且低生產成本之低氘飽和氫水之製造方法。
简体摘要：本发明系关于一种低氘饱和氢水之制造方法，包括：(a)提供一蒸馏水或矿泉水；(b)提供一固态储氢器，借由该固态储氢器提供一高纯氢气；(c)在10~28℃的作业环境温度下，控制该高纯氢气之压力在3~8bar之范围；(d)控制该高纯氢气之流速在3~5L/min之范围，并将该高纯氢气通入该蒸馏水或矿泉水中，借由将该高纯氢气通入该蒸馏水或矿泉水中所产生之一压力差而将该蒸馏水或矿泉水中之氘置换溢出；以及(e)控制作业时间为30~90分钟之间，以形成一低氘饱和氢水。借此，可提供一种低耗能且低生产成本之低氘饱和氢水之制造方法。

3. 发明专利

TWI551550B 用於除鹽水及淡水之再礦化之微粉化碳酸鈣漿液注入系統有权
简体标题：用于除盐水及淡水之再矿化之微粉化碳酸钙浆液注入系统
公开(公告)号：TWI551550B
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW101125038
申请日：2012-07-12
申请人：歐米亞國際公司 , OMYA INTERNATIONAL AG
发明人：史柯夫比麥可 , SKOVBY, MICHAEL , 波菲特瑪汀 , POFFET, MARTINE
IPC分类号： C02F1/68
CPC分类号： C02F1/68 , C01B5/00 , C02F1/001 , C02F1/008 , C02F1/444 , C02F2001/007 , C02F2103/001 , C02F2103/02 , C02F2103/08 , C02F2209/003 , C02F2209/05 , C02F2209/055 , C02F2209/06 , C02F2209/07 , C02F2209/10 , C02F2209/11 , C02F2209/24 , C02F2301/043 , Y02A20/131

4. 发明专利

TWI511933B 用於控制大型水體內部分水體的微生物性質的方法有权
简体标题：用于控制大型水体内部分水体的微生物性质的方法
公开(公告)号：TWI511933B
公开(公告)日：2015-12-11
申请号：TW102144279
申请日：2013-12-03
申请人：水晶瀉湖(庫拉索)公司 , CRYSTAL LAGOONS (CURACAO) B. V.
发明人：費奇曼費南多 , FISCHMANN, FERNANDO BENJAMIN
IPC分类号： C02F1/50 , C02F9/00 , C02F103/42
CPC分类号： C02F1/72 , C02F1/008 , C02F1/50 , C02F1/76 , C02F1/766 , C02F1/78 , C02F2103/007 , C02F2103/42 , C02F2209/005 , C02F2209/02 , C02F2209/04 , C02F2209/05 , C02F2303/04

5. 发明专利

TWI511776B 固態電解質生產總成及方法有权
简体标题：固态电解质生产总成及方法
公开(公告)号：TWI511776B
公开(公告)日：2015-12-11
申请号：TW099126988
申请日：2010-08-12
申请人：奇異電器公司 , GENERAL ELECTRIC COMPANY
发明人：蔡巍 , CAI, WEI , 熊日華 , XIONG, RIHUA , 魏章 , WEI, CHANG , 所羅門羅伯特李 , SOLOMON, ROBERT LEE , 瑞梅許倫賈瑞金 , RAMESH, RENGARAJAN
IPC分类号： B01D61/46 , B01D61/52 , C02F1/469
CPC分类号： C02F1/4691 , C02F1/001 , C02F1/008 , C02F1/38 , C02F1/385 , C02F1/44 , C02F1/444 , C02F1/4604 , C02F9/00 , C02F2001/007 , C02F2001/5218 , C02F2103/08 , C02F2201/46195 , C02F2301/08 , Y02A20/131

6. 发明专利

TW201441162A 用以提供超純水的方法及系統审中-公开
简体标题：用以提供超纯水的方法及系统
公开(公告)号：TW201441162A
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW103124238
申请日：2012-01-17
申请人：伊芙卡水科技有限公司 , EVOQUA WATER TECHNOLOGIES LLC
发明人：寇特布魯斯李 , COULTER, BRUCE LEE
IPC分类号： C02F1/30 , C02F103/04
CPC分类号： C02F9/00 , C02F1/008 , C02F1/325 , C02F1/70 , C02F2103/04 , C02F2201/3227 , C02F2201/326 , C02F2201/328 , C02F2209/001 , C02F2209/003 , C02F2209/005 , C02F2209/008 , C02F2209/20 , C02F2303/18 , C02F2305/023
摘要：本發明是有關一種用以提供超純水給半導體製造設備的方法和系統。水是透過利用一自由基淨化系統和一自由基移除系統來處理。自由基淨化系統可藉一自由基先驅化合物，例如過硫酸銨來進行光化幅射。自由基移除系統可包含一還原劑的使用。超純水可更進一步透過利用離子交換媒介和脫氣裝置加以處理。可利用控制系統來調整先驅化合物的添加量、光化幅射的強度、及還原劑添加入水的量。
简体摘要：本发明是有关一种用以提供超纯水给半导体制造设备的方法和系统。水是透过利用一自由基净化系统和一自由基移除系统来处理。自由基净化系统可藉一自由基先驱化合物，例如过硫酸铵来进行光化幅射。自由基移除系统可包含一还原剂的使用。超纯水可更进一步透过利用离子交换媒介和脱气设备加以处理。可利用控制系统来调整先驱化合物的添加量、光化幅射的强度、及还原剂添加入水的量。

7. 发明专利

TW201427904A 藉由操作液體處理系統而獲致處理資料之方法审中-公开
简体标题：借由操作液体处理系统而获致处理数据之方法
公开(公告)号：TW201427904A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：TW102128050
申请日：2013-08-06
申请人：布利塔專業有限公司 , BRITA PROFESSIONAL GMBH & CO. KG
发明人：內格爾湯瑪士 , NAGEL, THOMAS , 韋德納彼德 , WEIDNER, PETER , 康雷特伯特德 , CONRADT, BERTHOLD
IPC分类号： C02F1/00 , G01N33/18
CPC分类号： C02F1/003 , C02F1/008 , C02F2001/425 , C02F2209/006 , C02F2209/05 , C02F2209/40 , C02F2301/043 , G01N33/1853
摘要：一種藉由操作液體處理系統而獲致處理資料之方法，其中該液體處理系統包括具有至少一液體處理介質之一液體處理部分(4;26;62)，該方法包括：接收一測量訊號，其值表示一第一參數，該第一參數為該液體之一參數，係與藉由液體處理部分(4;26;62)將流經液體處理部分(4;26;62)之液體中之至少一成分移除到至少某程度的濃度部分相關。該訊號為源自於液體處理部分(4;26;62)下游之一偵測器(12;33;57)的一訊號。以該測量訊號之至少個別值為基礎，決定可被液體處理部分(4;26;62)移除之成分的濃度的測量值。決定至少一第二參數的值，每個第二參數對應於從液體處理部分(4;26;62)中之液體處理介質於初始狀態開始在液體流經液體處理部分(4;26;62)的期間內之一變數的一積分。該變數係與使用中液體流經液體處理部分(4;26;62)之速率和使用中液體流經液體處理系統之速率的其中一者至少相關。依據第二參數之至少一者的一目前值，決定是否提供以測量訊號之至少一目前值為基礎而得到的一測量值作為一另外程序的輸入，及/或調整測量值之決定。
简体摘要：一种借由操作液体处理系统而获致处理数据之方法，其中该液体处理系统包括具有至少一液体处理介质之一液体处理部分(4;26;62)，该方法包括：接收一测量信号，其值表示一第一参数，该第一参数为该液体之一参数，系与借由液体处理部分(4;26;62)将流经液体处理部分(4;26;62)之液体中之至少一成分移除到至少某程度的浓度部分相关。该信号为源自于液体处理部分(4;26;62)下游之一侦测器(12;33;57)的一信号。以该测量信号之至少个别值为基础，决定可被液体处理部分(4;26;62)移除之成分的浓度的测量值。决定至少一第二参数的值，每个第二参数对应于从液体处理部分(4;26;62)中之液体处理介质于初始状态开始在液体流经液体处理部分(4;26;62)的期间内之一变量的一积分。该变量系与使用中液体流经液体处理部分(4;26;62)之速率和使用中液体流经液体处理系统之速率的其中一者至少相关。依据第二参数之至少一者的一目前值，决定是否提供以测量信号之至少一目前值为基础而得到的一测量值作为一另外进程的输入，及/或调整测量值之决定。

8. 发明专利

TWI436952B 曝氣裝置及具備有該裝置的海水排煙脫硫裝置以及曝氣裝置之細縫析出物的除去暨防止方法有权
简体标题：曝气设备及具备有该设备的海水排烟脱硫设备以及曝气设备之细缝析出物的除去暨防止方法
公开(公告)号：TWI436952B
公开(公告)日：2014-05-11
申请号：TW100102870
申请日：2011-01-26
申请人：三菱重工業股份有限公司 , MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：園田圭介 , SONODA, KEISUKE , 永尾章造 , NAGAO, SHOZO
IPC分类号： C02F1/20 , B01D53/50 , B01D53/78
CPC分类号： C02F1/74 , B01F3/04269 , B01F2003/04148 , B01F2003/04177 , B01F2003/04319 , B01F2003/04432 , C02F1/008 , C02F1/20 , C02F2101/101 , C02F2103/08 , C02F2209/005 , C02F2209/38 , C02F2303/14

9. 发明专利

TW201326057A 海水洗滌器之污水處理的控制方法及系統审中-公开
简体标题：海水洗涤器之污水处理的控制方法及系统
公开(公告)号：TW201326057A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW101137182
申请日：2012-10-08
申请人：亞斯通科技有限公司 , ALSTOM TECHNOLOGY LTD
发明人：伯格費德利克貞司 , BROGAARD, FREDRIK JENS , 拉森麥凱 , LARSSON, MIKAEL
IPC分类号： C02F1/68 , C02F1/58
CPC分类号： C02F1/72 , B01D53/346 , B01D53/501 , B01D2251/11 , B01D2252/1035 , C02F1/008 , C02F1/463 , C02F1/685 , C02F1/725 , C02F1/727 , C02F1/74 , C02F3/342 , C02F3/345 , C02F2101/101 , C02F2103/18 , C02F2209/003 , C02F2209/005 , C02F2209/06 , C02F2209/19 , C02F2209/22 , C02F2209/38 , C02F2209/40 , C02F2301/08 , G01N33/182
摘要：本發明揭示一種用於處理污染海水之海水氧化池系統(42)。氧化池系統(42)包含：一第一供應管(64)，其用於將氧化強化物質分配至污染海水(75)中；一第二供應管(66)，其用於將氧化強化物質分配至污染海水(75)中；及一控制裝置(76、78)，其用於控制與由第一及第二供應管(64、66)之一者供應之第二數量之氧化強化物質無關之由第一及第二供應管(64、66)之另一者供應之第一數量之氧化強化物質。
简体摘要：本发明揭示一种用于处理污染海水之海水氧化池系统(42)。氧化池系统(42)包含：一第一供应管(64)，其用于将氧化强化物质分配至污染海水(75)中；一第二供应管(66)，其用于将氧化强化物质分配至污染海水(75)中；及一控制设备(76、78)，其用于控制与由第一及第二供应管(64、66)之一者供应之第二数量之氧化强化物质无关之由第一及第二供应管(64、66)之另一者供应之第一数量之氧化强化物质。

10. 发明专利

TWI391964B 感應線圈組件的軸心及其製法有权
简体标题：感应线圈组件的轴心及其制法
公开(公告)号：TWI391964B
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW096149149
申请日：2004-01-29
申请人：通路實業集團國際公司 , ACCESS BUSINESS GROUP INTERNATIONAL LLC
发明人：大衛 W 巴曼 , DAVID W. BAARMAN , 泰瑞 L 勞金海斯 , TERRY L. LAUTZENHEISER
IPC分类号： H01F27/28
CPC分类号： A61L2/10 , C02F1/001 , C02F1/008 , C02F1/325 , C02F9/005 , C02F2201/3228 , C02F2201/326 , C02F2209/005 , C02F2209/008 , C02F2209/40 , F21S6/00 , F21V23/02 , F21V23/04 , H01F5/02 , H01F38/14 , H01F2005/027 , H01F2005/043 , H01F2005/046 , H01J65/048 , H02J7/0027 , H02J7/025 , H02J50/12 , H02J50/90 , H02K11/0094 , H05B37/03 , H05B39/00 , H05B41/24 , H05B41/36

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