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1. 发明专利

TWI307822B 感光性樹脂組成物、使用其製造圖型之方法及電子零件失效
简体标题：感光性树脂组成物、使用其制造图型之方法及电子零件
公开(公告)号：TWI307822B
公开(公告)日：2009-03-21
申请号：TW091114760
申请日：2002-07-03
申请人：日立化成工業股份有限公司 HITACHI CHEMICAL CO., LTD.
发明人：名兒耶友宏 NAGOYA, TOMOHIRO , 松浦秀一 MATSUURA, HIDEKAZU , 清水健博 SHIMIZU, TAKEHIRO
IPC分类号： G03F , C08G
CPC分类号： G03F7/0758 , C08L77/00 , C08L79/08 , G03F7/037 , G03F7/0387 , G03F7/0388 , G03F7/0755 , Y10S430/107 , C08L2666/20
摘要：本發明係揭示含有,具有下列一般式(I)所示重覆單位(U1)之聚醯胺樹脂(A)及具有一般式(Ⅱ)所示重覆單位(U2)之聚醯胺醯亞胺樹脂(B)中至少一方之感光性樹脂,與具有光聚合性不飽和鍵之矽烷偶合劑(C)及含有分子內具有5個以上光聚合性不飽和鍵之單體(d1)的光聚合性不飽和單體(D)中至少一方之光聚合性化合物的感光性樹脂組成物,以及使用其製造圖型之方法及電子零件。
一般式(Ⅰ):

(式中,X1為具有芳香環之3價有機基;Y1為具有芳香環之2價有機基;R1為具有感光性基之1價有機基)
一般式(Ⅱ):

(式中,X2及Y2為具有芳香環之3價有機基;R2為具有感光性基之1價有機基)。
简体摘要：本发明系揭示含有,具有下列一般式(I)所示重复单位(U1)之聚酰胺树脂(A)及具有一般式(Ⅱ)所示重复单位(U2)之聚酰胺酰亚胺树脂(B)中至少一方之感光性树脂,与具有光聚合性不饱和键之硅烷偶合剂(C)及含有分子内具有5个以上光聚合性不饱和键之单体(d1)的光聚合性不饱和单体(D)中至少一方之光聚合性化合物的感光性树脂组成物,以及使用其制造图型之方法及电子零件。一般式(Ⅰ): (式中,X1为具有芳香环之3价有机基;Y1为具有芳香环之2价有机基;R1为具有感光性基之1价有机基) 一般式(Ⅱ): (式中,X2及Y2为具有芳香环之3价有机基;R2为具有感光性基之1价有机基)。

2. 发明专利

TW200712773A 負片型感光性樹脂組成物、圖案形成方法以及電子零件 NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITE, METHOD OF FORMING PATTERN AND ELECTRONIC COMPONENT 审中-公开
简体标题：负片型感光性树脂组成物、图案形成方法以及电子零件 NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITE, METHOD OF FORMING PATTERN AND ELECTRONIC COMPONENT
公开(公告)号：TW200712773A
公开(公告)日：2007-04-01
申请号：TW095122118
申请日：2006-06-20
申请人：日立化成杜邦微系統股份有限公司 HITACHI CHEMICAL DUPONT MICROSYSTEMS LTD.
发明人： 岸知典 MINEGISHI, TOMONORI
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/085 , G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0382 , G03F7/0387 , G03F7/38 , Y10S430/107 , Y10T428/24802 , Y10T428/24851
摘要：提供一種具有良好靈敏度及解析度之耐熱性負片型感光性樹脂組成物;使用其之可獲得可以鹼性水溶液進行顯影,且靈敏度、解析度以及耐熱性優良之形狀良好的圖案之圖案形成方法;以及可靠性較高之電子零件。於形成有第1導體層3、第2導體層7以及層間絕緣膜4之半導體基板1上,旋塗負片型感光性樹脂組成物且進行乾燥,自於特定部分形成有窗口6C之圖案之罩幕上照射光。以鹼性水溶液進行顯影之後,進行加熱(硬化),從而形成表面保護膜8。上述負片型感光性樹脂組成物含有:(a)於末端具有苯酚性羥基之鹼性水溶液可溶性聚合物;(b)藉由照射活性光線而產生酸之化合物;以及(c)可藉由酸之作用進行交聯或者聚合之化合物。
095122118-p01.bmp
简体摘要：提供一种具有良好灵敏度及分辨率之耐热性负片型感光性树脂组成物;使用其之可获得可以碱性水溶液进行显影,且灵敏度、分辨率以及耐热性优良之形状良好的图案之图案形成方法;以及可靠性较高之电子零件。于形成有第1导体层3、第2导体层7以及层间绝缘膜4之半导体基板1上,旋涂负片型感光性树脂组成物且进行干燥,自于特定部分形成有窗口6C之图案之罩幕上照射光。以碱性水溶液进行显影之后,进行加热(硬化),从而形成表面保护膜8。上述负片型感光性树脂组成物含有:(a)于末端具有苯酚性羟基之碱性水溶液可溶性聚合物;(b)借由照射活性光线而产生酸之化合物;以及(c)可借由酸之作用进行交联或者聚合之化合物。 095122118-p01.bmp

3. 发明专利

TW200502699A 新穎的正型光敏性樹脂組成物 NOVEL POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS 审中-公开
简体标题：新颖的正型光敏性树脂组成物 NOVEL POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITIONS
公开(公告)号：TW200502699A
公开(公告)日：2005-01-16
申请号：TW093116129
申请日：2004-06-04
申请人：亞契專業化學公司 ARCH SPECIALTY CHEMICALS, INC.
发明人：魯斯金艾亞 RUSHKIN, ILYA , 奈伊尼亞曼德A. NAIINI, AHMAD A. , 赫普拉理察 HOPLA, RICHARD , 渥特森派梅拉J. WATERSON, PAMELA J. , 偉柏威廉D. WEBER, WILLIAM D.
IPC分类号： G03F
CPC分类号： C08G73/22 , C09D179/04 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0758 , Y10S430/107
摘要：一種具有酸不穩定官能基之有端帽之聚苯并唑前驅物，其正型光敏性組成物及該組成物用於製造耐熱凸紋影像於基材之用途。
简体摘要：一种具有酸不稳定官能基之有端帽之聚苯并唑前驱物，其正型光敏性组成物及该组成物用于制造耐热凸纹影像于基材之用途。

4. 发明专利

TW457403B 含有封端異氰酸酯化合物之光吸收膜形成性組成物及由此形成之反射防止膜失效
简体标题：含有封端异氰酸酯化合物之光吸收膜形成性组成物及由此形成之反射防止膜
公开(公告)号：TW457403B
公开(公告)日：2001-10-01
申请号：TW088109292
申请日：1999-06-04
申请人：克拉瑞國際股份有限公司
发明人：康文兵 , 木村健 , 松尾祥子 , 西良典 , 田中初幸
IPC分类号： G03F
CPC分类号： C08G18/80 , C09D175/04 , G02B1/111 , G03F7/091 , Y10S430/106 , Y10S430/107 , Y10S430/108 , Y10S430/115 , Y10S430/151
摘要：目的:提供一種反射防止膜般的光吸收膜製造用之光吸收膜形成性組成物,不與抗蝕劑膜交混,且由抗蝕劑因曝光所形成酸不會擴散浸透,可形成長腳、浮渣均無之抗蝕劑圖像。
構成:於光吸收性聚合物,或光吸收性物質溶於有機溶劑所得膜形成性組成物,添加,含有封端異氰酸酯基的交聯性成份做為交聯劑成份,而得光吸收膜形成性組成物,以及用此形成之反射防止膜。
简体摘要：目的:提供一种反射防止膜般的光吸收膜制造用之光吸收膜形成性组成物,不与抗蚀剂膜交混,且由抗蚀剂因曝光所形成酸不会扩散浸透,可形成长脚、浮渣均无之抗蚀剂图像。构成:于光吸收性聚合物,或光吸收性物质溶于有机溶剂所得膜形成性组成物,添加,含有封端异氰酸酯基的交联性成份做为交联剂成份,而得光吸收膜形成性组成物,以及用此形成之反射防止膜。

5. 发明专利

TW269018B 含有締合增稠劑之水性光阻材料失效
简体标题：含有缔合增稠剂之水性光阻材料
公开(公告)号：TW269018B
公开(公告)日：1996-01-21
申请号：TW083107966
申请日：1994-08-30
申请人：馬頓國際有限公司
发明人：羅伯特.巴爾
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/033 , H05K3/0076 , Y10S430/107 , Y10S430/111
摘要：一種水性感光影像組成物或光阻材料，它是由具有足夠羧酸官能性而使其可在鹼性含水溶液中顯影的乳膠黏合劑聚合物，一個光可聚合化單體部份，一個光引發劑和一個負載單體部份乳化液之在含水媒質中的聚醚聚胺基甲酸酯締合增稠劑所構成，其中該乳膠黏合劑聚合物為苯乙烯／丙烯酸系聚合物，該光可聚合化單體為多官能性丙烯酸系單體，以及該聚醚聚胺基甲酸酯締合增稠劑為聚異氰酸酯和聚（氧化烯烴）（ poly（alkylene oxide ））之反應產物。乳膠黏合劑聚合物羧酸官能性是在約０至約２０％時被中和。
简体摘要：一种水性感光影像组成物或光阻材料，它是由具有足够羧酸官能性而使其可在碱性含水溶液中显影的乳胶黏合剂聚合物，一个光可聚合化单体部份，一个光引发剂和一个负载单体部份乳化液之在含水媒质中的聚醚聚胺基甲酸酯缔合增稠剂所构成，其中该乳胶黏合剂聚合物为苯乙烯／丙烯酸系聚合物，该光可聚合化单体为多官能性丙烯酸系单体，以及该聚醚聚胺基甲酸酯缔合增稠剂为聚异氰酸酯和聚（氧化烯烃）（ poly（alkylene oxide ））之反应产物。乳胶黏合剂聚合物羧酸官能性是在约０至约２０％时被中和。

6. 发明专利

TWI463256B 正型光敏樹脂組合物和使用其的顯示裝置及有機發光裝置有权
简体标题：正型光敏树脂组合物和使用其的显示设备及有机发光设备
公开(公告)号：TWI463256B
公开(公告)日：2014-12-01
申请号：TW101133142
申请日：2012-09-11
申请人：第一毛織股份有限公司 , CHEIL INDUSTRIES INC.
发明人：尹銀卿 , YOON, EUN KYUNG , 黃銀夏 , HWANG, EUN HA , 李種和 , LEE, JONG HWA , 權志倫 , KWON, JI YUN , 金大潤 , KIM, DAE YUN , 金上權 , KIM, SANG KYEON , 金相均 , KIM, SANG KYUN , 金尚洙 , KIM, SANG SOO , 盧健培 , NOH, KUN BAE , 李俊昊 , LEE, JUN HO , 李珍泳 , LEE, JIN YOUNG , 趙顯龍 , CHO, HYUN YONG , 洪忠範 , HONG, CHUNG BEOM
IPC分类号： G03F7/004 , H01L51/54 , H01L27/32
CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0236 , G03F7/0755 , G03F7/085 , Y10S430/107

7. 发明专利

TWI401536B 正型光敏性樹脂組成物（一）有权
简体标题：正型光敏性树脂组成物（一）
公开(公告)号：TWI401536B
公开(公告)日：2013-07-11
申请号：TW098108403
申请日：2009-03-16
申请人：第一毛織股份有限公司 , CHEIL INDUSTRIES INC.
发明人：趙顯龍 , CHO, HYUN-YONG , 鄭斗瑛 , JUNG, DOO-YOUNG , 俞龍植 , YOO, YONG-SIK , 鄭知英 , JEONG, JI-YOUNG , 李種和 , LEE, JONG-HWA , 鄭閔鞠 , CHUNG, MIN-KOOK , 李吉成 , LEE, KIL-SUNG , 車明煥 , CHA, MYOUNG-HWAN
IPC分类号： G03F7/039 , C08G69/42 , C08G73/10 , G03F7/075 , G03F7/022 , C08J5/18 , H01L21/31
CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0751 , Y10S430/107

8. 发明专利

TW201136997A 光固化性樹脂組成物，圖案形成法和基板保護膜，以及使用該組成物之膜狀黏著劑及黏著片 PHOTO-CURABLE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND SUBSTRATE PROTECTING FILM, AND FILM-SHAPED ADHESIVE AND ADHESIVE SHEET USING SAID COMPOSITION 审中-公开
简体标题：光固化性树脂组成物，图案形成法和基板保护膜，以及使用该组成物之膜状黏着剂及黏着片 PHOTO-CURABLE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND SUBSTRATE PROTECTING FILM, AND FILM-SHAPED ADHESIVE AND ADHESIVE SHEET USING SAID COMPOSITION
公开(公告)号：TW201136997A
公开(公告)日：2011-11-01
申请号：TW099142814
申请日：2010-12-08
申请人：信越化學工業股份有限公司
发明人：古屋昌浩 , 菅生道博 , 加藤英人 , 近藤和紀 , 田上昭平 , 後藤智幸
IPC分类号： C08G , C08L , C08K , G03F , C09J , H01L , B32B
CPC分类号： G03F7/0387 , C08G73/1039 , C08G73/1042 , C08G73/1046 , C08G73/1053 , C08G73/106 , C08K5/3445 , C08K5/34922 , C08K5/41 , C08K5/49 , C08L63/00 , C08L79/08 , C09D179/08 , C09J179/08 , G03F7/0382 , G03F7/0757 , H05K3/287 , H05K2201/0154 , H05K2201/0162 , Y10S430/107 , Y10T428/24802 , Y10T428/269 , C08L2666/22
摘要：本發明係關於一種光固化性樹脂組成物，其包含具有一級醇式羥基之聚醯亞胺聚矽氧，作為成分(A)；至少一種選自由以福馬林或福馬林-醇改質之胺基縮合產物及在其一個分子中具有平均二或多個羥甲基或烷氧基羥甲基之酚化合物所組成之群組的化合物，作為成分(B)；及光酸產生劑作為成分(C)。當用作黏著劑時，該光固化性樹脂組成物另外包含多官能環氧化合物作為成分(D)。
简体摘要：本发明系关于一种光固化性树脂组成物，其包含具有一级醇式羟基之聚酰亚胺聚硅氧，作为成分(A)；至少一种选自由以福马林或福马林-醇改质之胺基缩合产物及在其一个分子中具有平均二或多个羟甲基或烷氧基羟甲基之酚化合物所组成之群组的化合物，作为成分(B)；及光酸产生剂作为成分(C)。当用作黏着剂时，该光固化性树脂组成物另外包含多官能环氧化合物作为成分(D)。

9. 发明专利

TWI345575B 感光性樹脂組成物及使用它之耐熱性樹脂及有機電致發光裝置之製造方法 PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND MENUFACTURING METHOD OF HEAT-RESISTANT RESIN AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE USING IT 有权
简体标题：感光性树脂组成物及使用它之耐热性树脂及有机电致发光设备之制造方法 PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND MENUFACTURING METHOD OF HEAT-RESISTANT RESIN AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT DEVICE USING IT
公开(公告)号：TWI345575B
公开(公告)日：2011-07-21
申请号：TW093115605
申请日：2004-06-01
申请人：東麗股份有限公司
发明人：諏訪充史
IPC分类号： C08L
CPC分类号： G03F7/037 , C08G73/101 , Y10S430/107 , Y10S430/11
摘要：本發明關於可鹼顯像的負型感光性樹脂組成物。
本發明的感光性樹脂組成物之特徵為包含：(a)在聚合物主鏈末端具有至少一個選自於羧基、酚性羥基、磺酸基、硫醇基之基的聚醯亞胺，(b)具有由不飽和雙鍵官能基及/或不飽和三鍵官能基所構成的聚合性基之化合物，及(c)光聚合引發劑。
简体摘要：本发明关于可碱显像的负型感光性树脂组成物。本发明的感光性树脂组成物之特征为包含：(a)在聚合物主链末端具有至少一个选自于羧基、酚性羟基、磺酸基、硫醇基之基的聚酰亚胺，(b)具有由不饱和双键官能基及/或不饱和三键官能基所构成的聚合性基之化合物，及(c)光聚合引发剂。

10. 发明专利

TW201027260A 正型光敏性樹脂組成物 POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION 审中-公开
简体标题：正型光敏性树脂组成物 POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
公开(公告)号：TW201027260A
公开(公告)日：2010-07-16
申请号：TW098135242
申请日：2009-10-19
申请人：第一毛織股份有限公司
发明人：鄭斗瑛 , 鄭知英 , 趙顯龍 , 俞龍植 , 鄭閔鞠 , 李種和 , 李吉成 , 車明煥
IPC分类号： G03F , C08G
CPC分类号： G03F7/0233 , G03F7/0048 , Y10S430/107
摘要：揭示一種正型光敏性樹脂組成物,其包括:(A)第一聚苯并噁唑前驅物,其包括化學式1的重複單元和位於至少一末端之熱可聚合官能基;(B)包括化學式3的重複單元第二聚苯并噁唑前驅物;(C)光敏性重氮類化合物;(D)矽烷化合物;及(E)溶劑。
简体摘要：揭示一种正型光敏性树脂组成物,其包括:(A)第一聚苯并恶唑前驱物,其包括化学式1的重复单元和位于至少一末端之热可聚合官能基;(B)包括化学式3的重复单元第二聚苯并恶唑前驱物;(C)光敏性重氮类化合物;(D)硅烷化合物;及(E)溶剂。

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