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1. 发明专利

TWI616932B 曝光裝置及元件製造方法有权
简体标题：曝光设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI616932B
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW105115519
申请日：2004-05-21
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：小林直行 , KOBAYASHI, NAOYUKI , 谷元昭一 , TANIMOTO, AKIKAZU , 水野恭志 , MIZUNO, YASUSHI , 白石健一 , SHIRAISHI, KENICHI , 中野勝志 , NAKANO, KATSUSHI , 大和壯一 , OWA, SOICHI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03B27/52 , G03F7/00 , G03F7/2041 , G03F7/70316 , G03F7/70341 , G03F7/70775 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70958 , G03F9/7015 , G03F9/7088 , G03F9/7096

2. 发明专利

TWI575339B 微影術系統及其使用方法有权
简体标题：微影术系统及其使用方法
公开(公告)号：TWI575339B
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：TW104139740
申请日：2015-11-27
申请人：台灣積體電路製造股份有限公司 , TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD.
发明人：張書豪 , CHANG, SHU HAO , 陳家楨 , CHEN, NORMAN , 陳政宏 , CHEN, JENG HORNG , 高國璋 , KAU, KUO CHANG , 簡銘進 , CHIEN, MING CHIN , 簡上傑 , CHIEN, SHANG CHIEH , 嚴濤南 , YEN, ANTHONY , 黃建元 , HUANG, KEVIN
IPC分类号： G03F7/20 , G03F1/82
CPC分类号： G03F7/70866 , G03F7/70925

3. 发明专利

TW201635343A 半導體裝置之製造設備及半導體裝置之製造設備之管理方法审中-公开
简体标题：半导体设备之制造设备及半导体设备之制造设备之管理方法
公开(公告)号：TW201635343A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW104128710
申请日：2015-08-31
申请人：東芝股份有限公司 , KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
发明人：塩原英志 , SHIOBARA, EISHI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G01N5/02
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/2004 , G03F7/70033 , G03F7/70591 , G03F7/7085 , H01L22/12
摘要：根據一項實施例，本發明揭示一種一半導體裝置之一製造設備之管理方法，該方法包含：量測一曝光前基板之一重量(S13)，該曝光前基板包含一半導體基板及提供於該半導體基板上之一抗蝕劑膜；對該抗蝕劑膜執行一曝光程序(S14)；量測一曝光後基板之一重量(S15)，該曝光後基板包含該半導體基板及執行該曝光程序之後的該抗蝕劑膜；及獲取該曝光前基板之該重量與該曝光後基板之該重量之間的一重量差(S17)。
简体摘要：根据一项实施例，本发明揭示一种一半导体设备之一制造设备之管理方法，该方法包含：量测一曝光前基板之一重量(S13)，该曝光前基板包含一半导体基板及提供于该半导体基板上之一抗蚀剂膜；对该抗蚀剂膜运行一曝光进程(S14)；量测一曝光后基板之一重量(S15)，该曝光后基板包含该半导体基板及运行该曝光进程之后的该抗蚀剂膜；及获取该曝光前基板之该重量与该曝光后基板之该重量之间的一重量差(S17)。

4. 发明专利

TW201541197A 裝置审中-公开
简体标题：设备
公开(公告)号：TW201541197A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW104109817
申请日：2015-03-26
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：凡德威克郎諾 , VAN DER WILK, RONALD , 估爾修斯傑維姆詹 , GOORHUIS, GER-WIM JAN
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/70925 , H01L21/67028
摘要：一種用於清潔一物件之裝置，該裝置包含：一物件支撐件，其用於支撐該物件；一低壓力腔室，其用於在該物件配置於該物件支撐件上時將該物件之一第一表面曝露至一低壓力；一電極，其經配置成在該物件配置於該物件支撐件上時鄰近於該物件之該第一表面且與該物件之該第一表面分離，該電極與鄰近於該物件之該第一表面的該物件支撐件之一表面進行電連通；及一電力供應器，其經配置以在該電極與該物件之間施加一電壓；藉此在該物件與該電極之間產生一放電。
简体摘要：一种用于清洁一对象之设备，该设备包含：一对象支撑件，其用于支撑该对象；一低压力腔室，其用于在该对象配置于该对象支撑件上时将该对象之一第一表面曝露至一低压力；一电极，其经配置成在该对象配置于该对象支撑件上时邻近于该对象之该第一表面且与该对象之该第一表面分离，该电极与邻近于该对象之该第一表面的该对象支撑件之一表面进行电连通；及一电力供应器，其经配置以在该电极与该对象之间施加一电压；借此在该对象与该电极之间产生一放电。

5. 发明专利

TW201428873A 處理設備及裝置製造方法审中-公开
简体标题：处理设备及设备制造方法
公开(公告)号：TW201428873A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：TW102145878
申请日：2013-12-12
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：平野真一 , HIRANO, SHINICHI , 山田幸平 , YAMADA, KOHEI
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/68707 , G03F7/707 , G03F7/70783 , G03F7/70925 , H01L21/67288 , Y10T279/34
摘要：一種處理設備，用於處理由被安裝在階台上的夾具所夾持的基板，該處理設備包括：傳送單元，其配置來將該基板傳送到該夾具；機器人，其配置來選擇性地將，能夠加壓該基板來減少被該夾具所夾持的該基板的翹曲之加壓構件、以及能夠清潔夾具表面的清潔構件，傳送到該階台；以及控制器，其配置來使得固持該加壓構件的該機器人去執行加壓處理，以校正該基板的該翹曲，並使得固持該清潔構件的該機器人去執行該夾具表面的清潔處理。
简体摘要：一种处理设备，用于处理由被安装在阶台上的夹具所夹持的基板，该处理设备包括：发送单元，其配置来将该基板发送到该夹具；机器人，其配置来选择性地将，能够加压该基板来减少被该夹具所夹持的该基板的翘曲之加压构件、以及能够清洁夹具表面的清洁构件，发送到该阶台；以及控制器，其配置来使得固持该加压构件的该机器人去运行加压处理，以校正该基板的该翘曲，并使得固持该清洁构件的该机器人去运行该夹具表面的清洁处理。

6. 发明专利

TW201351064A 集光器鏡面清潔技術审中-公开
简体标题：集光器镜面清洁技术
公开(公告)号：TW201351064A
公开(公告)日：2013-12-16
申请号：TW102114799
申请日：2013-04-25
申请人：希瑪股份有限公司 , CYMER, INC.
发明人：戴迪西爾維亞 , DE DEA, SILVIA , 瓦爾瓜麥可T , VARGA, MICHAEL T. , 艾瑟夫亞歷山大I , ERSHOV, ALEXANDER I. , 摩斯羅伯特L , MORSE, ROBERT L.
IPC分类号： G03F7/20 , B08B13/00
CPC分类号： B08B11/02 , B08B3/02 , B23K26/0643 , B23K26/16 , G02B27/0006 , G03F7/70925
摘要：一種極端紫外光源之集光器鏡面係藉由將該集光器鏡面自該極端紫外光源之一腔室移開；將該集光器鏡面安裝至一載具；將該具有集光器鏡面之載具插入一清潔槽中；藉由經由導向至該集光器鏡面的反射表面的複數之噴嘴噴灑清潔劑直至該集光器鏡面的反射表面清潔為止；自該集光器鏡面的反射表面清洗該施加的清潔劑；以及將該集光器鏡面的反射表面加以乾燥而得以清潔。
简体摘要：一种极端紫外光源之集光器镜面系借由将该集光器镜面自该极端紫外光源之一腔室移开；将该集光器镜面安装至一载具；将该具有集光器镜面之载具插入一清洁槽中；借由经由导向至该集光器镜面的反射表面的复数之喷嘴喷洒清洁剂直至该集光器镜面的反射表面清洁为止；自该集光器镜面的反射表面清洗该施加的清洁剂；以及将该集光器镜面的反射表面加以干燥而得以清洁。

7. 发明专利

TWI417649B 十字標記運送裝置、曝光裝置、十字標記運送方法以及十字標記的處理方法有权
简体标题：十字标记运送设备、曝光设备、十字标记运送方法以及十字标记的处理方法
公开(公告)号：TWI417649B
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW095140532
申请日：2006-11-02
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：山本一 , YAMAMOTO, HAJIME
IPC分类号： G03F1/28 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F1/62 , G03F1/66 , G03F7/70741 , G03F7/70983

8. 发明专利

TW201348131A 矽醇化合物去除劑、矽醇化合物之去除方法、化學過濾器及曝光裝置审中-公开
简体标题：硅醇化合物去除剂、硅醇化合物之去除方法、化学过滤器及曝光设备
公开(公告)号：TW201348131A
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW102108799
申请日：2013-03-13
申请人：霓佳斯股份有限公司 , NICHIAS CORPORATION
发明人：下津太年 , SHIMOTSU, TAINEN , 石川俊 , ISHIKAWA, SYUN , 今井章博 , IMAI, AKIHIRO
IPC分类号： C01B31/08 , B01J20/20 , B01D53/02 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： B01D53/02 , B01D53/72 , B01D2253/102 , B01D2257/553 , B01J20/20 , B01J20/28057 , B01J20/28069 , B01J20/28078 , C01B32/372 , G03F7/70925
摘要：本發明係一種矽醇化合物去除劑，其特徵在於：其係具有含氧官能基之活性碳，且該活性碳每1g之含氧官能基之量為0.5mmol/g以上。根據本發明，可提供一種矽醇化合物之去除效果較高之矽醇化合物去除劑。
简体摘要：本发明系一种硅醇化合物去除剂，其特征在于：其系具有含氧官能基之活性碳，且该活性碳每1g之含氧官能基之量为0.5mmol/g以上。根据本发明，可提供一种硅醇化合物之去除效果较高之硅醇化合物去除剂。

9. 发明专利

TWI412897B 控制表面污染之方法有权
公开(公告)号：TWI412897B
公开(公告)日：2013-10-21
申请号：TW096119347
申请日：2007-05-30
申请人：愛德華有限公司 , EDWARDS LIMITED , 劍橋企業有限公司 , CAMBRIDGE ENTERPRISE LIMITED
发明人：羅伯特布魯斯葛蘭特 , GRANT, ROBERT BRUCE , 理察麥可嵐柏特 , LAMBERT, RICHARD MICHAEL , 大衛強那森戴維斯 , DAVIS, DAVID JONATHAN , 喬治亞斯克里亞庫 , KYRIAKOU, GEORGIOS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925 , G03F7/70916

10. 发明专利

TWI404662B 清潔光罩儲存器之系統有权
简体标题：清洁光罩存储器之系统
公开(公告)号：TWI404662B
公开(公告)日：2013-08-11
申请号：TW096122041
申请日：2007-06-20
申请人：安堤格里斯公司 , ENTEGRIS, INC.
发明人：歐雷格P 寇許柯維奇 , KISHKOVICH, OLEG P. , 夏菲爾賈巴爾 , GABARRE, XAVIER , 威廉M 古德溫 , GOODWIN, WILLIAM M. , 羅詹思 , LO, JAMES , 卓依思葛金斯 , SCOGGINS, TROY
IPC分类号： B65D85/50 , F26B21/02 , G03B1/08
CPC分类号： H01L21/67769 , G03F1/66 , G03F7/70741 , G03F7/70866 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70933 , H01L21/67017 , H01L21/67253 , H01L21/67353 , H01L21/67359 , H01L21/67386 , H01L21/67389 , H01L21/67393 , Y10S414/135 , Y10S414/137 , Y10S414/139 , Y10S414/14

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