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1. 发明专利

TWI550685B 曝光設備及裝置製造方法有权
简体标题：曝光设备及设备制造方法
公开(公告)号：TWI550685B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW101120140
申请日：2012-06-05
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：平野真一 , HIRANO, SHINICHI , 山田幸平 , YAMADA, KOHEI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G01B11/00 , G01B9/02
CPC分类号： G03F7/70066

2. 发明专利

TWI470377B 曝光設備及裝置製造方法有权
简体标题：曝光设备及设备制造方法
公开(公告)号：TWI470377B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：TW101133761
申请日：2012-09-14
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：平野真一 , HIRANO, SHINICHI , 牧野了太 , MAKINO, RYOTA
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70066

3. 发明专利

TWI388938B 曝光設備及裝置製造方法有权
简体标题：曝光设备及设备制造方法
公开(公告)号：TWI388938B
公开(公告)日：2013-03-11
申请号：TW096145155
申请日：2007-11-28
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：平野真一 , HIRANO, SHINICHI
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70558

4. 发明专利

TWI550755B 處理設備及裝置製造方法有权
简体标题：处理设备及设备制造方法
公开(公告)号：TWI550755B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW102145878
申请日：2013-12-12
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：平野真一 , HIRANO, SHINICHI , 山田幸平 , YAMADA, KOHEI
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/68707 , G03F7/707 , G03F7/70783 , G03F7/70925 , H01L21/67288 , Y10T279/34

5. 发明专利

TW201301347A 曝光設備及裝置製造方法审中-公开
简体标题：曝光设备及设备制造方法
公开(公告)号：TW201301347A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW101120140
申请日：2012-06-05
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：平野真一 , HIRANO, SHINICHI , 山田幸平 , YAMADA, KOHEI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G01B11/00 , G01B9/02
CPC分类号： G03F7/70066
摘要：本發明提供一曝光設備，包含遮光板，該遮光板被放置在與照明光學系統中之投射光學系統的物件平面共軛之平面上，在其一邊緣上包含一與基板的外周邊內側之圓形邊界線重疊的弧形，且在該基板上界定一區域，該圖案將被轉印至該區域；檢測單元，其檢測該基板的中心位置與一層上的一陣列之複數拍攝區域的中心位置間之移位量；及控制單元，其將該遮光板定位在一位置，該遮光板在此位置基於該移位量屏蔽入射在外周邊區域上之光線，而該外周邊區域由該基板的外周邊朝內移位達一預定寬度。
简体摘要：本发明提供一曝光设备，包含遮光板，该遮光板被放置在与照明光学系统中之投射光学系统的对象平面共轭之平面上，在其一边缘上包含一与基板的外周边内侧之圆形边界线重叠的弧形，且在该基板上界定一区域，该图案将被转印至该区域；检测单元，其检测该基板的中心位置与一层上的一数组之复数拍摄区域的中心位置间之移位量；及控制单元，其将该遮光板定位在一位置，该遮光板在此位置基于该移位量屏蔽入射在外周边区域上之光线，而该外周边区域由该基板的外周边朝内移位达一预定宽度。

6. 发明专利

TW201440169A 基板處理裝置、微影裝置及物品的製造方法审中-公开
简体标题：基板处理设备、微影设备及物品的制造方法
公开(公告)号：TW201440169A
公开(公告)日：2014-10-16
申请号：TW103105855
申请日：2014-02-21
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：平野真一 , HIRANO, SHINICHI
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/66
CPC分类号： G03F7/70783 , G03F7/707 , G03F9/7011
摘要：本發明提供一種基板處理裝置，用以執行減少基板之翹曲的過程，該裝置包括基板階台，配置來保持該基板；按壓構件，包括形成來朝向該基板階台按壓該基板的周邊部分的部分；取得單元，配置來取得指示在圖案被形成在該基板上的區域之中心及該基板的中心之間的偏移的資訊；以及控制器，配置來根據由該取得單元所取得的該資訊去控制該基板階台和該按壓構件的相對位置，使得該按壓構件的該部分按壓該基板的該周邊部分。
简体摘要：本发明提供一种基板处理设备，用以运行减少基板之翘曲的过程，该设备包括基板阶台，配置来保持该基板；按压构件，包括形成来朝向该基板阶台按压该基板的周边部分的部分；取得单元，配置来取得指示在图案被形成在该基板上的区域之中心及该基板的中心之间的偏移的信息；以及控制器，配置来根据由该取得单元所取得的该信息去控制该基板阶台和该按压构件的相对位置，使得该按压构件的该部分按压该基板的该周边部分。

7. 发明专利

TW201428873A 處理設備及裝置製造方法审中-公开
简体标题：处理设备及设备制造方法
公开(公告)号：TW201428873A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：TW102145878
申请日：2013-12-12
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：平野真一 , HIRANO, SHINICHI , 山田幸平 , YAMADA, KOHEI
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/68707 , G03F7/707 , G03F7/70783 , G03F7/70925 , H01L21/67288 , Y10T279/34
摘要：一種處理設備，用於處理由被安裝在階台上的夾具所夾持的基板，該處理設備包括：傳送單元，其配置來將該基板傳送到該夾具；機器人，其配置來選擇性地將，能夠加壓該基板來減少被該夾具所夾持的該基板的翹曲之加壓構件、以及能夠清潔夾具表面的清潔構件，傳送到該階台；以及控制器，其配置來使得固持該加壓構件的該機器人去執行加壓處理，以校正該基板的該翹曲，並使得固持該清潔構件的該機器人去執行該夾具表面的清潔處理。
简体摘要：一种处理设备，用于处理由被安装在阶台上的夹具所夹持的基板，该处理设备包括：发送单元，其配置来将该基板发送到该夹具；机器人，其配置来选择性地将，能够加压该基板来减少被该夹具所夹持的该基板的翘曲之加压构件、以及能够清洁夹具表面的清洁构件，发送到该阶台；以及控制器，其配置来使得固持该加压构件的该机器人去运行加压处理，以校正该基板的该翘曲，并使得固持该清洁构件的该机器人去运行该夹具表面的清洁处理。

8. 发明专利

TW201314383A 曝光設備及裝置製造方法审中-公开
简体标题：曝光设备及设备制造方法
公开(公告)号：TW201314383A
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW101133761
申请日：2012-09-14
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：平野真一 , HIRANO, SHINICHI , 牧野了太 , MAKINO, RYOTA
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70066
摘要：一種曝光設備，包含光學系統，其包括：光屏蔽板；旋轉驅動單元，係配置成沿光學系統中的光路，繞旋轉軸可旋轉地驅動光屏蔽板；位移驅動單元，係配置成沿與旋轉軸交叉之方向位移驅動光屏蔽板；獲取單元，係配置成獲取有關參考軸與旋轉軸間之相對位置之資訊，該參考軸用來當圖案影像藉光學系統投射於基板上時，作為參考；以及控制單元，係配置來控制旋轉驅動單元及位移驅動單元，使得當投射圖案影像於基板外緣附近之圓周部分上時，光屏蔽板根據有關相對位置之資訊，定位於預定位置。
简体摘要：一种曝光设备，包含光学系统，其包括：光屏蔽板；旋转驱动单元，系配置成沿光学系统中的光路，绕旋转轴可旋转地驱动光屏蔽板；位移驱动单元，系配置成沿与旋转轴交叉之方向位移驱动光屏蔽板；获取单元，系配置成获取有关参考轴与旋转轴间之相对位置之信息，该参考轴用来当图案影像藉光学系统投射于基板上时，作为参考；以及控制单元，系配置来控制旋转驱动单元及位移驱动单元，使得当投射图案影像于基板外缘附近之圆周部分上时，光屏蔽板根据有关相对位置之信息，定位于预定位置。

9. 发明专利

TWI509733B 基板處理裝置、微影裝置及物品的製造方法有权
简体标题：基板处理设备、微影设备及物品的制造方法
公开(公告)号：TWI509733B
公开(公告)日：2015-11-21
申请号：TW103105855
申请日：2014-02-21
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：平野真一 , HIRANO, SHINICHI
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/66
CPC分类号： G03F7/70783 , G03F7/707 , G03F9/7011

10. 发明专利

TWI458037B 處理設備有权
简体标题：处理设备
公开(公告)号：TWI458037B
公开(公告)日：2014-10-21
申请号：TW096147478
申请日：2007-12-12
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：平野真一 , HIRANO, SHINICHI
IPC分类号： H01L21/677 , G03F7/20
CPC分类号： G05B19/41815 , G03F7/7075 , G05B2219/31261 , G05B2219/45031 , H01L21/67253 , H01L21/67259 , H01L21/67745 , Y02P90/08

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