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1. 发明专利

TW201816844A 曝光裝置、曝光方法、及元件製造方法审中-公开
简体标题：曝光设备、曝光方法、及组件制造方法
公开(公告)号：TW201816844A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106145839
申请日：2005-03-23
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：原英明 , HARA, HIDEAKI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G03B27/42
摘要：提供一種曝光方法，可以所希望的狀態進行液體的供給及回收，且可抑制投影至基板上的圖案像的劣化。曝光裝置具備噴嘴構件(70)，及防振機構(60)。噴嘴構件(70)具有供給液體(LQ)的供給口(12)與回收液體(LQ)的回收口(22)。防振機構(60)是相對於主柱(1)的下側段部(7)防振支撐著噴嘴構件(70)。
简体摘要：提供一种曝光方法，可以所希望的状态进行液体的供给及回收，且可抑制投影至基板上的图案像的劣化。曝光设备具备喷嘴构件(70)，及防振机构(60)。喷嘴构件(70)具有供给液体(LQ)的供给口(12)与回收液体(LQ)的回收口(22)。防振机构(60)是相对于主柱(1)的下侧段部(7)防振支撑着喷嘴构件(70)。

2. 发明专利

TWI578091B 浸沒曝光設備、浸沒曝光方法和元件製造方法有权
简体标题：浸没曝光设备、浸没曝光方法和组件制造方法
公开(公告)号：TWI578091B
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：TW104142913
申请日：2004-04-09
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：比納德麥克比斯克 , BINNARD, MICHAEL BISK
IPC分类号： G03B27/32 , G03B27/42 , G03B27/58 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/52 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733

3. 发明专利

TWI437351B 浸沒曝光設備和浸沒曝光方法有权
简体标题：浸没曝光设备和浸没曝光方法
公开(公告)号：TWI437351B
公开(公告)日：2014-05-11
申请号：TW102115386
申请日：2004-04-09
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：比納德麥克比斯克 , BINNARD, MICHAEL BISK
IPC分类号： G03B27/32 , G03B27/42 , G03B27/58 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/52 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733

4. 发明专利

TWI614564B 浸沒曝光設備、浸沒曝光方法和元件製造方法有权
简体标题：浸没曝光设备、浸没曝光方法和组件制造方法
公开(公告)号：TWI614564B
公开(公告)日：2018-02-11
申请号：TW106103664
申请日：2004-04-09
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：比納德麥克比斯克 , BINNARD, MICHAEL BISK
IPC分类号： G03B27/32 , G03B27/42 , G03B27/58 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/52 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733

5. 发明专利

TWI606485B 曝光裝置、曝光方法、及元件製造方法有权
简体标题：曝光设备、曝光方法、及组件制造方法
公开(公告)号：TWI606485B
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：TW104127306
申请日：2005-03-23
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：原英明 , HARA, HIDEAKI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G03B27/42
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03F7/2041 , G03F7/70325 , G03F7/70758 , G03F7/70833 , G03F7/709

6. 发明专利

TW201612618A 浸沒曝光設備、浸沒曝光方法和元件製造方法审中-公开
简体标题：浸没曝光设备、浸没曝光方法和组件制造方法
公开(公告)号：TW201612618A
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW104142913
申请日：2004-04-09
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：比納德麥克比斯克 , BINNARD, MICHAEL BISK
IPC分类号： G03B27/32 , G03B27/42 , G03B27/58 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/52 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733
摘要：一種在浸沒式微影機(10)中之工件(208)的交換期間、將浸沒流體(212)維持於鄰近投影透鏡(16)之間隙中的裝置和方法係被揭示。該裝置和方法係包含一個被構型以將一影像投射在一工件(208)上的光學組件(16)，以及一個包含一工件桌台(204)的平台組件(202)，該工件桌台(204)係被構型以支承工件(208)為鄰近於光學組件(16)。一個環境系統(26)係被提供以將一浸沒流體(212)提供至以及移離一個介於光學組件(16)與平台組件(202)上之工件(208)間的間隙處。在工件(208)的曝光完成之時，一個交換系統(216)係將工件(208)移離並更換以一第二工件。一浸沒流體容納系統(214)係被提供以於第一工件(208)之移除以及第二工件之更換期間將浸沒流體(212)維持於間隙中。
简体摘要：一种在浸没式微影机(10)中之工件(208)的交换期间、将浸没流体(212)维持于邻近投影透镜(16)之间隙中的设备和方法系被揭示。该设备和方法系包含一个被构型以将一影像投射在一工件(208)上的光学组件(16)，以及一个包含一工件桌台(204)的平台组件(202)，该工件桌台(204)系被构型以支承工件(208)为邻近于光学组件(16)。一个环境系统(26)系被提供以将一浸没流体(212)提供至以及移离一个介于光学组件(16)与平台组件(202)上之工件(208)间的间隙处。在工件(208)的曝光完成之时，一个交换系统(216)系将工件(208)移离并更换以一第二工件。一浸没流体容纳系统(214)系被提供以于第一工件(208)之移除以及第二工件之更换期间将浸没流体(212)维持于间隙中。

7. 发明专利

TW201601198A 曝光裝置、曝光方法、及元件製造方法审中-公开
简体标题：曝光设备、曝光方法、及组件制造方法
公开(公告)号：TW201601198A
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW104127306
申请日：2005-03-23
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：原英明 , HARA, HIDEAKI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G03B27/42
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03F7/2041 , G03F7/70325 , G03F7/70758 , G03F7/70833 , G03F7/709
摘要：提供一種曝光方法，可以所希望的狀態進行液體的供給及回收，且可抑制投影至基板上的圖案像的劣化。曝光裝置具備噴嘴構件(70)，及防振機構(60)。噴嘴構件(70)具有供給液體(LQ)的供給口(12)與回收液體(LQ)的回收口(22)。防振機構(60)是相對於主柱(1)的下側段部(7)防振支撐著噴嘴構件(70)。
简体摘要：提供一种曝光方法，可以所希望的状态进行液体的供给及回收，且可抑制投影至基板上的图案像的劣化。曝光设备具备喷嘴构件(70)，及防振机构(60)。喷嘴构件(70)具有供给液体(LQ)的供给口(12)与回收液体(LQ)的回收口(22)。防振机构(60)是相对于主柱(1)的下侧段部(7)防振支撑着喷嘴构件(70)。

8. 发明专利

TWI486701B 浸沒曝光設備、浸沒曝光方法和元件製造方法有权
简体标题：浸没曝光设备、浸没曝光方法和组件制造方法
公开(公告)号：TWI486701B
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW102115385
申请日：2004-04-09
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：比納德麥克比斯克 , BINNARD, MICHAEL BISK
IPC分类号： G03B27/32 , G03B27/42 , G03B27/58 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/52 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733

9. 发明专利

TWI628697B 曝光裝置、及元件製造方法有权
简体标题：曝光设备、及组件制造方法
公开(公告)号：TWI628697B
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106109736
申请日：2005-03-23
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：原英明 , HARA, HIDEAKI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G03B27/42

10. 发明专利

TW201721277A 浸沒曝光設備、浸沒曝光方法和元件製造方法审中-公开
简体标题：浸没曝光设备、浸没曝光方法和组件制造方法
公开(公告)号：TW201721277A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW106103664
申请日：2004-04-09
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：比納德麥克比斯克 , BINNARD, MICHAEL BISK
IPC分类号： G03B27/32 , G03B27/42 , G03B27/58 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/52 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733
摘要：一種在浸沒式微影機(10)中之工件(208)的交換期間、將浸沒流體(212)維持於鄰近投影透鏡(16)之間隙中的裝置和方法係被揭示。該裝置和方法係包含一個被構型以將一影像投射在一工件(208)上的光學組件(16)，以及一個包含一工件桌台(204)的平台組件(202)，該工件桌台(204)係被構型以支承工件(208)為鄰近於光學組件(16)。一個環境系統(26)係被提供以將一浸沒流體(212)提供至以及移離一個介於光學組件(16)與平台組件(202)上之工件(208)間的間隙處。在工件(208)的曝光完成之時，一個交換系統(216)係將工件(208)移離並更換以一第二工件。一浸沒流體容納系統(214)係被提供以於第一工件(208)之移除以及第二工件之更換期間將浸沒流體(212)維持於間隙中。
简体摘要：一种在浸没式微影机(10)中之工件(208)的交换期间、将浸没流体(212)维持于邻近投影透镜(16)之间隙中的设备和方法系被揭示。该设备和方法系包含一个被构型以将一影像投射在一工件(208)上的光学组件(16)，以及一个包含一工件桌台(204)的平台组件(202)，该工件桌台(204)系被构型以支承工件(208)为邻近于光学组件(16)。一个环境系统(26)系被提供以将一浸没流体(212)提供至以及移离一个介于光学组件(16)与平台组件(202)上之工件(208)间的间隙处。在工件(208)的曝光完成之时，一个交换系统(216)系将工件(208)移离并更换以一第二工件。一浸没流体容纳系统(214)系被提供以于第一工件(208)之移除以及第二工件之更换期间将浸没流体(212)维持于间隙中。

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