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    • 6. 发明专利
    • 浸沒曝光設備、浸沒曝光方法和元件製造方法
    • 浸没曝光设备、浸没曝光方法和组件制造方法
    • TW201612618A
    • 2016-04-01
    • TW104142913
    • 2004-04-09
    • 尼康股份有限公司NIKON CORPORATION
    • 比納德 麥克 比斯克BINNARD, MICHAEL BISK
    • G03B27/32G03B27/42G03B27/58G03F7/20
    • G03F7/70341G03B27/52G03F7/70716G03F7/70725G03F7/70733
    • 一種在浸沒式微影機(10)中之工件(208)的交換期間、將浸沒流體(212)維持於鄰近投影透鏡(16)之間隙中的裝置和方法係被揭示。該裝置和方法係包含一個被構型以將一影像投射在一工件(208)上的光學組件(16),以及一個包含一工件桌台(204)的平台組件(202),該工件桌台(204)係被構型以支承工件(208)為鄰近於光學組件(16)。一個環境系統(26)係被提供以將一浸沒流體(212)提供至以及移離一個介於光學組件(16)與平台組件(202)上之工件(208)間的間隙處。在工件(208)的曝光完成之時,一個交換系統(216)係將工件(208)移離並更換以一第二工件。一浸沒流體容納系統(214)係被提供以於第一工件(208)之移除以及第二工件之更換期間將浸沒流體(212)維持於間隙中。
    • 一种在浸没式微影机(10)中之工件(208)的交换期间、将浸没流体(212)维持于邻近投影透镜(16)之间隙中的设备和方法系被揭示。该设备和方法系包含一个被构型以将一影像投射在一工件(208)上的光学组件(16),以及一个包含一工件桌台(204)的平台组件(202),该工件桌台(204)系被构型以支承工件(208)为邻近于光学组件(16)。一个环境系统(26)系被提供以将一浸没流体(212)提供至以及移离一个介于光学组件(16)与平台组件(202)上之工件(208)间的间隙处。在工件(208)的曝光完成之时,一个交换系统(216)系将工件(208)移离并更换以一第二工件。一浸没流体容纳系统(214)系被提供以于第一工件(208)之移除以及第二工件之更换期间将浸没流体(212)维持于间隙中。
    • 10. 发明专利
    • 浸沒曝光設備、浸沒曝光方法和元件製造方法
    • 浸没曝光设备、浸没曝光方法和组件制造方法
    • TW201721277A
    • 2017-06-16
    • TW106103664
    • 2004-04-09
    • 尼康股份有限公司NIKON CORPORATION
    • 比納德 麥克 比斯克BINNARD, MICHAEL BISK
    • G03B27/32G03B27/42G03B27/58G03F7/20
    • G03F7/70341G03B27/52G03F7/70716G03F7/70725G03F7/70733
    • 一種在浸沒式微影機(10)中之工件(208)的交換期間、將浸沒流體(212)維持於鄰近投影透鏡(16)之間隙中的裝置和方法係被揭示。該裝置和方法係包含一個被構型以將一影像投射在一工件(208)上的光學組件(16),以及一個包含一工件桌台(204)的平台組件(202),該工件桌台(204)係被構型以支承工件(208)為鄰近於光學組件(16)。一個環境系統(26)係被提供以將一浸沒流體(212)提供至以及移離一個介於光學組件(16)與平台組件(202)上之工件(208)間的間隙處。在工件(208)的曝光完成之時,一個交換系統(216)係將工件(208)移離並更換以一第二工件。一浸沒流體容納系統(214)係被提供以於第一工件(208)之移除以及第二工件之更換期間將浸沒流體(212)維持於間隙中。
    • 一种在浸没式微影机(10)中之工件(208)的交换期间、将浸没流体(212)维持于邻近投影透镜(16)之间隙中的设备和方法系被揭示。该设备和方法系包含一个被构型以将一影像投射在一工件(208)上的光学组件(16),以及一个包含一工件桌台(204)的平台组件(202),该工件桌台(204)系被构型以支承工件(208)为邻近于光学组件(16)。一个环境系统(26)系被提供以将一浸没流体(212)提供至以及移离一个介于光学组件(16)与平台组件(202)上之工件(208)间的间隙处。在工件(208)的曝光完成之时,一个交换系统(216)系将工件(208)移离并更换以一第二工件。一浸没流体容纳系统(214)系被提供以于第一工件(208)之移除以及第二工件之更换期间将浸没流体(212)维持于间隙中。