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1. 发明专利

TW201726805A 導電性高分子組成物、被覆品及圖型形成方法审中-公开
简体标题：导电性高分子组成物、被覆品及图型形成方法
公开(公告)号：TW201726805A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105130854
申请日：2016-09-23
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：長澤賢幸 , NAGASAWA, TAKAYUKI , 畠山潤 , HATAKEYAMA, JUN
IPC分类号： C08L65/00 , C08F20/38 , C08F12/30 , C08G61/12 , C08K5/09 , C08K5/42 , G03F7/11
CPC分类号： G03F7/093 , C09D5/24 , C09D7/00 , C09D165/00 , G03F7/2059 , G03F7/322 , H01J37/3174 , H01L21/0277
摘要：本發明之課題在於提供一種過濾性以及對基板之塗佈性與成膜性良好，可形成膜質良好的導電膜，依據H2O或鹼性水溶液所進行之剝離性優異，成膜後之導電膜可顯現電荷發散能力高之抗帶電能，對於所接觸之鄰接層亦不會賦予由酸所帶來之影響，所以可較佳地使用在採用電子束等之光阻微影技術中的抗帶電膜，以及有機薄膜裝置的透明電極或載體注入層、移動層等之導電性高分子組成物。本發明之解決手段為一種導電性高分子組成物，其係含有：(A)具有下述一般式(1-1)、(1-2)、及(1-3)所示之重複單位中的至少1種之π-共軛系導電性高分子，(B)含有下述一般式(2)所示之重複單位a，且重量平均分子量為1,000~500,000的範圍之摻雜劑聚合物，以及(C)下述一般式(3)所示之雙性離子化合物。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种过滤性以及对基板之涂布性与成膜性良好，可形成膜质良好的导电膜，依据H2O或碱性水溶液所进行之剥离性优异，成膜后之导电膜可显现电荷发散能力高之抗带电能，对于所接触之邻接层亦不会赋予由酸所带来之影响，所以可较佳地使用在采用电子束等之光阻微影技术中的抗带电膜，以及有机薄膜设备的透明电极或载体注入层、移动层等之导电性高分子组成物。本发明之解决手段为一种导电性高分子组成物，其系含有：(A)具有下述一般式(1-1)、(1-2)、及(1-3)所示之重复单位中的至少1种之π-共轭系导电性高分子，(B)含有下述一般式(2)所示之重复单位a，且重量平均分子量为1,000~500,000的范围之掺杂剂聚合物，以及(C)下述一般式(3)所示之双性离子化合物。

2. 发明专利

TW201546824A 導電性組成物、帶電防止膜、積層體及其製造方法、以及光罩的製造方法审中-公开
简体标题：导电性组成物、带电防止膜、积层体及其制造方法、以及光罩的制造方法
公开(公告)号：TW201546824A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：TW104115221
申请日：2015-05-13
申请人：三菱麗陽股份有限公司 , MITSUBISHI RAYON CO., LTD.
发明人：山嵜明 , YAMAZAKI, AKIRA , 鵜澤正志 , UZAWA, MASASHI , 福田紘也 , FUKUDA, HIROYA
IPC分类号： H01B1/12 , C08L79/02 , C09K3/16 , B32B27/28 , B32B37/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/093 , B32B27/18 , C08G73/00 , C08K5/3432 , C08L29/04 , C08L79/00 , C08L79/02 , C08L101/06 , C08L101/14 , G03F1/40 , G03F1/76 , G03F1/80 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/094 , G03F7/16 , G03F7/2037 , G03F7/2039 , G03F7/322 , G03F7/325 , H01B1/12
摘要：本發明的導電性組成物包含：具有磺酸基及/或羧基的導電性聚合物（a）、具有至少一個含氮雜環及胺基的鹼性化合物（b）、具有羥基的水溶性聚合物（c）（其中，所述導電性聚合物（a）除外）、親水性有機溶劑（d）、及水（e）。
简体摘要：本发明的导电性组成物包含：具有磺酸基及/或羧基的导电性聚合物（a）、具有至少一个含氮杂环及胺基的碱性化合物（b）、具有羟基的水溶性聚合物（c）（其中，所述导电性聚合物（a）除外）、亲水性有机溶剂（d）、及水（e）。

3. 发明专利

TWI445473B 導電圖型之製作方法有权
简体标题：导电图型之制作方法
公开(公告)号：TWI445473B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW098103046
申请日：2009-01-23
申请人：三菱製紙股份有限公司 , MITSUBISHI PAPER MILLS LIMITED
发明人：入澤宗利 , IRISAWA, MUNETOSHI , 豐田裕二 , TOYODA, YUJI , 金田安生 , KANEDA, YASUO , 中川邦弘 , NAKAGAWA, KUNIHIRO
IPC分类号： H05K3/06
CPC分类号： H05K3/064 , G03F7/093 , G03F7/168 , G03F7/2022 , H05K3/0094 , H05K3/427 , H05K2203/0505 , H05K2203/0769 , H05K2203/0793 , H05K2203/1394 , H05K2203/1476

4. 发明专利

TW200609663A 抗靜電膜、其製法、及使用它之記錄元件 ANTISTATIC FILM, METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND RECORDING ELEMENT USING THE SAME 审中-公开
简体标题：抗静电膜、其制法、及使用它之记录组件 ANTISTATIC FILM, METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND RECORDING ELEMENT USING THE SAME
公开(公告)号：TW200609663A
公开(公告)日：2006-03-16
申请号：TW094122499
申请日：2005-07-04
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：今村直也 IMAMURA, NAOYA , 田中慎二 TANAKA, SHINJI , 山晶 HATAKEYAMA, AKIRA
IPC分类号： G03C
CPC分类号： G03C1/04 , B41M5/24 , B41M5/368 , B41M5/41 , B41M5/42 , B41M5/423 , B41M5/426 , B41M5/44 , B41M2205/02 , B41M2205/06 , B41M2205/36 , B41M2205/38 , G03C1/7954 , G03C1/853 , G03F7/093
摘要：本發明提供一種具有支撐體和在支撐體之至少一側所形成之導電層之抗靜電膜，其中該導電層係包含：在分子中具有數個羧酸基且重量平均分子量為2,000或以上之樹脂與在分子中具有數個碳化二亞胺結構之化合物的反應產物、及藉由電子傳導以顯示導電性之導電性材料。本發明又提供一種製造抗靜電膜及包含抗靜電膜和在該抗靜電膜之一側形成具有光敏性或熱敏性之記錄層之記錄元件的方法。
简体摘要：本发明提供一种具有支撑体和在支撑体之至少一侧所形成之导电层之抗静电膜，其中该导电层系包含：在分子中具有数个羧酸基且重量平均分子量为2,000或以上之树脂与在分子中具有数个碳化二亚胺结构之化合物的反应产物、及借由电子传导以显示导电性之导电性材料。本发明又提供一种制造抗静电膜及包含抗静电膜和在该抗静电膜之一侧形成具有光敏性或热敏性之记录层之记录组件的方法。

5. 发明专利

TW200530277A 含導電性聚合物之光呈像導電電極層 PHOTOPATTERNING OF CONDUCTIVE ELECTRODE LAYERS CONTAINING ELECTRICALLY-CONDUCTIVE POLYMER 审中-公开
简体标题：含导电性聚合物之光呈像导电电极层 PHOTOPATTERNING OF CONDUCTIVE ELECTRODE LAYERS CONTAINING ELECTRICALLY-CONDUCTIVE POLYMER
公开(公告)号：TW200530277A
公开(公告)日：2005-09-16
申请号：TW093125640
申请日：2004-08-26
申请人：柯達公司 EASTMAN KODAK COMPANY
发明人：馬克雷蘭托 LELENTAL, MARK , 查爾斯C 安德森 ANDERSON, CHARLES C. , 詠凱瓦恩 WANG, YONGCAI
IPC分类号： C08F , C08K
CPC分类号： H05K3/02 , G03F7/002 , G03F7/093 , H01L51/0015 , H01L51/0037 , H05K3/105 , H05K2201/0329
摘要：本發明係關於一種在一安置於一基材上之導電性聚合物中產生一電極圖案的方法，該方法包括以下步驟：在一基材上塗覆一含一導電性聚合物之層；且使用一含導電性增強試劑之印刷溶液在該層上印刷一圖案，使得與該印刷溶液相接觸之區域的電阻率會減少至少10倍。本發明還揭示了用於執行該方法之一調配物及一薄膜元件。093125640-p01.bmp
简体摘要：本发明系关于一种在一安置于一基材上之导电性聚合物中产生一电极图案的方法，该方法包括以下步骤：在一基材上涂覆一含一导电性聚合物之层；且使用一含导电性增强试剂之印刷溶液在该层上印刷一图案，使得与该印刷溶液相接触之区域的电阻率会减少至少10倍。本发明还揭示了用于运行该方法之一调配物及一薄膜组件。093125640-p01.bmp

6. 发明专利

TW200300568A 一種影像直接寫入在光阻上期間延長該光阻穩定性之方法 METHOD OF EXTENDING THE STABILITY OF A PHOTORESIST DURING DIRECT WRITING OF AN IMAGE UPON THE PHOTORESIST 失效
简体标题：一种影像直接写入在光阻上期间延长该光阻稳定性之方法 METHOD OF EXTENDING THE STABILITY OF A PHOTORESIST DURING DIRECT WRITING OF AN IMAGE UPON THE PHOTORESIST
公开(公告)号：TW200300568A
公开(公告)日：2003-06-01
申请号：TW091134006
申请日：2002-11-21
申请人：應用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：梅爾文華倫蒙哥馬利 MELVIN WARREN MONTGOMERY , 雪希莉安妮特蒙哥馬利 CECILIA ANNETTE MONTGOMERY
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/091 , G03F7/092 , G03F7/093 , G03F7/11 , Y10S430/143 , Y10S430/146
摘要：於光阻製造中，通常藉由一保護但具傳導性材料之一薄塗層(表塗層)以過度塗佈該光阻之方式而消除、或至少充分地減少一化學放大型光阻的環境敏感度。為了改良一光罩圖案於長時間內(一般為20小時)可直接寫入的穩定性，該保護表塗層材料之pH值會因其他製程的變因，儘可能調整為中性。例如，一表塗層之pH值調整後若介於5至8，對穩定性將特別有幫助。於直接寫入的期間，當該保護表塗層之pH值經調整後，其穩定性不僅在化學放大型光阻上變得更好，而且一塗有光阻基材之表面以調整過pH值的表塗層覆蓋後，將可於成像前存放較長時間而無負面影響。
简体摘要：于光阻制造中，通常借由一保护但具传导性材料之一薄涂层(表涂层)以过度涂布该光阻之方式而消除、或至少充分地减少一化学放大型光阻的环境敏感度。为了改良一光罩图案于长时间内(一般为20小时)可直接写入的稳定性，该保护表涂层材料之pH值会因其他制程的变因，尽可能调整为中性。例如，一表涂层之pH值调整后若介于5至8，对稳定性将特别有帮助。于直接写入的期间，当该保护表涂层之pH值经调整后，其稳定性不仅在化学放大型光阻上变得更好，而且一涂有光阻基材之表面以调整过pH值的表涂层覆盖后，将可于成像前存放较长时间而无负面影响。

7. 发明专利

TW201634284A 疊層結構审中-公开
简体标题：叠层结构
公开(公告)号：TW201634284A
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW104110527
申请日：2015-03-31
申请人：長興材料工業股份有限公司 , ETERNAL MATERIALS CO., LTD.
发明人：李欣怡 , LI, SHIN YI , 劉人銪 , LIU, JEN YU
IPC分类号： B32B27/36 , C08J5/18
CPC分类号： G03F7/092 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/32 , B32B27/36 , B32B2307/20 , B32B2307/202 , B32B2307/21 , B32B2307/40 , B32B2307/538 , B32B2307/732 , B32B2457/08 , C09J7/29 , G02F1/133305 , G03F7/027 , G03F7/033 , G03F7/093 , G03F7/11 , H01L51/5253 , H05K3/285 , H05K3/287
摘要：本發明係關於一種用作乾膜光阻之疊層結構，其包含支撐層、感光性樹脂層及保護層，其中該保護層為具有介於1500nm至2500nm之間之最大表面粗糙度及介於1×108Ω/□至1×1012Ω/□之片電阻之聚酯膜。本發明之疊層結構尤其適用於感光性元件、印刷電路板或導線架之線路製作。
简体摘要：本发明系关于一种用作干膜光阻之叠层结构，其包含支撑层、感光性树脂层及保护层，其中该保护层为具有介于1500nm至2500nm之间之最大表面粗糙度及介于1×108Ω/□至1×1012Ω/□之片电阻之聚酯膜。本发明之叠层结构尤其适用于感光性组件、印刷电路板或导线架之线路制作。

8. 发明专利

TW201633371A 用於電子束直寫（ＥＢＤＷ）微影之下方吸收或導電層审中-公开
简体标题：用于电子束直写（ＥＢＤＷ）微影之下方吸收或导电层
公开(公告)号：TW201633371A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW104141301
申请日：2015-12-09
申请人：英特爾股份有限公司 , INTEL CORPORATION
发明人：坦登夏庫 , TANDON, SHAKUL , 柏若朵斯基顏 , BORODOVSKY, YAN A. , 沃蘭斯查理斯 , WALLACE, CHARLES H. , 奈赫斯保羅 , NYHUS, PAUL A.
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0277 , G03F7/093 , G03F7/11 , G03F7/2059 , H01L21/31111 , H01L21/31144 , H01L21/32133 , H01L21/32139 , H01L21/823431
摘要：適用於互補式電子束微影術(CEBL)之微影裝置和關於互補式電子束微影術之方法被描述。具體實施例係有關於用於電子束直寫(EBDW)微影之下方吸收和/或導電層的實施。
简体摘要：适用于互补式电子束微影术(CEBL)之微影设备和关于互补式电子束微影术之方法被描述。具体实施例系有关于用于电子束直写(EBDW)微影之下方吸收和/或导电层的实施。

9. 发明专利

TWI507380B 苯胺低聚物化合物之製造方法有权
简体标题：苯胺低聚物化合物之制造方法
公开(公告)号：TWI507380B
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：TW101143752
申请日：2012-11-22
申请人：日產化學工業股份有限公司 , NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
发明人：西田登喜雄 , NISHITA, TOKIO , 水落龍太 , MIZUOCHI, RYUTA , 坂本力丸 , SAKAMOTO, RIKIMARU , 山田智久 , YAMADA, TOMOHISA , 中家直樹 , NAKAIE, NAOKI , 高山祐樹 , TAKAYAMA, YUKI
IPC分类号： C07C211/54 , G03F7/11
CPC分类号： C07C211/54 , C08G73/0266 , C08L79/02 , C09D179/02 , G03F1/00 , G03F7/093 , G03F7/11 , H01B1/128

10. 发明专利

TWI467349B 具有經圖案化的導電性高分子膜之基板的製造方法及具有經圖案化的導電性高分子膜之基板失效
简体标题：具有经图案化的导电性高分子膜之基板的制造方法及具有经图案化的导电性高分子膜之基板
公开(公告)号：TWI467349B
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW098138918
申请日：2009-11-17
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD. , 鶴見曹達股份有限公司 , TSURUMI SODA CO., LTD.
发明人：井原孝 , IHARA, TAKASHI
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/027
CPC分类号： H05K3/06 , G03F7/093 , G03F7/40 , G03F7/422 , H05K1/09 , H05K2201/0329

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