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1. 发明专利

TW201620728A 設有管理資訊的產品审中-公开
简体标题：设有管理信息的产品
公开(公告)号：TW201620728A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW104139428
申请日：2015-11-26
申请人：泰谷諾石英股份有限公司 , TECHNO QUARTZ INC.
发明人：加藤征秀 , KATO, MASAHIDE , 梅津康浩 , UMETSU, YASUHIRO
IPC分类号： B42D25/351 , G06Q10/00
CPC分类号： G06Q10/20 , B23K26/0006 , B23K26/0057 , B23K26/0622 , B23K26/53 , B23K2201/40 , B23K2203/54 , B41M5/24 , G05B19/124 , G05B19/402 , G05B19/418 , G05B2219/23363 , G05B2219/40538 , G05B2219/40623 , G06K7/1417 , G06K19/06037 , G06K19/06046 , Y02P90/14
摘要：本發明提供一種經賦予管理資訊的透明產品，其即使在嚴酷的環境下使用亦不會有所標示之管理資訊剝落的情況，而可傳達確實的管理資訊，並提供該透明產品的製造方法。本發明之經賦予管理資訊的透明產品，係標示有用以管理產品之管理資訊的透明產品，其特徵為：該管理資訊設於透明產品之厚度方向上的內部，並且可以目視透過該產品之厚度方向上的至少任一面確認該管理資訊。
简体摘要：本发明提供一种经赋予管理信息的透明产品，其即使在严酷的环境下使用亦不会有所标示之管理信息剥落的情况，而可传达确实的管理信息，并提供该透明产品的制造方法。本发明之经赋予管理信息的透明产品，系标示有用以管理产品之管理信息的透明产品，其特征为：该管理信息设于透明产品之厚度方向上的内部，并且可以目视透过该产品之厚度方向上的至少任一面确认该管理信息。

2. 发明专利

TWI464795B 局部表面處理的遮罩方法有权
简体标题：局部表面处理的遮罩方法
公开(公告)号：TWI464795B
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：TW101125313
申请日：2012-07-13
申请人：崇鼎科技有限公司 , APONE TECHNOLOGY LTD.
发明人：劉維林 , LIU, WEI LIN
IPC分类号： H01L21/30
CPC分类号： B29C59/002 , B29C59/16 , B41C1/05 , B41C1/1008 , B41M5/24 , B41M5/26 , B44C1/22 , C25D5/022

3. 发明专利

TW201403691A 局部表面處理的遮罩方法审中-公开
简体标题：局部表面处理的遮罩方法
公开(公告)号：TW201403691A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW101125313
申请日：2012-07-13
申请人：崇鼎科技有限公司 , APONE TECHNOLOGY LTD.
发明人：劉維林 , LIU, WEI LIN
IPC分类号： H01L21/30
CPC分类号： B29C59/002 , B29C59/16 , B41C1/05 , B41C1/1008 , B41M5/24 , B41M5/26 , B44C1/22 , C25D5/022
摘要：本發明係提供一種局部表面處理的遮罩方法，用以遮罩一工件以對工件進行局部表面處理，工件具有一目標處理區域及一非處理區域，方法包括下列步驟：將一治具遮蓋於工件之非處理區域，而暴露工件之目標處理區域；利用於治具與工件之間的一吸附力，而使治具與工件之非處理區域相互緊貼，並使治具的一開放邊緣貼齊於工件之目標處理區域的邊緣，吸附力為一真空吸附力或一靜電吸附力，藉此表面處理的影響範圍不會超過目標處理區域的邊界，進而減少加工瑕疵產生的機會。
简体摘要：本发明系提供一种局部表面处理的遮罩方法，用以遮罩一工件以对工件进行局部表面处理，工件具有一目标处理区域及一非处理区域，方法包括下列步骤：将一治具遮盖于工件之非处理区域，而暴露工件之目标处理区域；利用于治具与工件之间的一吸附力，而使治具与工件之非处理区域相互紧贴，并使治具的一开放边缘贴齐于工件之目标处理区域的边缘，吸附力为一真空吸附力或一静电吸附力，借此表面处理的影响范围不会超过目标处理区域的边界，进而减少加工瑕疵产生的机会。

4. 发明专利

TW200828199A 雷射標記標籤及含有此標籤的物品 LASER MARKING LABEL AND ARTICLE WITH THE LABEL 审中-公开
简体标题：激光标记标签及含有此标签的物品 LASER MARKING LABEL AND ARTICLE WITH THE LABEL
公开(公告)号：TW200828199A
公开(公告)日：2008-07-01
申请号：TW096136905
申请日：2007-10-02
申请人： 3M新設資產公司 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY
发明人：高野俊輔 TAKANO, SHUNSUKE , 千肇 CHISAKA, HAJIME
IPC分类号： G09F
CPC分类号： G09F3/10 , B41M5/24
摘要：本發明揭示一種雷射標記標籤,其在一黏著層上具有一能夠藉由雷射而寫入一圖案之標籤層。該標籤層至少包括一第一標籤層及一第二標籤層。該第一標籤層在雷射寫入時在一雷射寫入區域中被選擇性地移除,且由於該第一標籤層之該移除,該第二標籤層暴露於該雷射寫入區域中。該第二標籤層具有比該第一標籤層之脆性大的脆性。
简体摘要：本发明揭示一种激光标记标签,其在一黏着层上具有一能够借由激光而写入一图案之标签层。该标签层至少包括一第一标签层及一第二标签层。该第一标签层在激光写入时在一激光写入区域中被选择性地移除,且由于该第一标签层之该移除,该第二标签层暴露于该激光写入区域中。该第二标签层具有比该第一标签层之脆性大的脆性。

5. 发明专利

TW200609663A 抗靜電膜、其製法、及使用它之記錄元件 ANTISTATIC FILM, METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND RECORDING ELEMENT USING THE SAME 审中-公开
简体标题：抗静电膜、其制法、及使用它之记录组件 ANTISTATIC FILM, METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND RECORDING ELEMENT USING THE SAME
公开(公告)号：TW200609663A
公开(公告)日：2006-03-16
申请号：TW094122499
申请日：2005-07-04
申请人：富士照相軟片股份有限公司 FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
发明人：今村直也 IMAMURA, NAOYA , 田中慎二 TANAKA, SHINJI , 山晶 HATAKEYAMA, AKIRA
IPC分类号： G03C
CPC分类号： G03C1/04 , B41M5/24 , B41M5/368 , B41M5/41 , B41M5/42 , B41M5/423 , B41M5/426 , B41M5/44 , B41M2205/02 , B41M2205/06 , B41M2205/36 , B41M2205/38 , G03C1/7954 , G03C1/853 , G03F7/093
摘要：本發明提供一種具有支撐體和在支撐體之至少一側所形成之導電層之抗靜電膜，其中該導電層係包含：在分子中具有數個羧酸基且重量平均分子量為2,000或以上之樹脂與在分子中具有數個碳化二亞胺結構之化合物的反應產物、及藉由電子傳導以顯示導電性之導電性材料。本發明又提供一種製造抗靜電膜及包含抗靜電膜和在該抗靜電膜之一側形成具有光敏性或熱敏性之記錄層之記錄元件的方法。
简体摘要：本发明提供一种具有支撑体和在支撑体之至少一侧所形成之导电层之抗静电膜，其中该导电层系包含：在分子中具有数个羧酸基且重量平均分子量为2,000或以上之树脂与在分子中具有数个碳化二亚胺结构之化合物的反应产物、及借由电子传导以显示导电性之导电性材料。本发明又提供一种制造抗静电膜及包含抗静电膜和在该抗静电膜之一侧形成具有光敏性或热敏性之记录层之记录组件的方法。

6. 发明专利

TW200608305A 於保密文件內製造繞射結構的方法 METHOD OF PRODUCING DIFFRACTIVE STRUCTURES IN SECURITY DOCUMENTS 审中-公开
简体标题：于保密文档内制造绕射结构的方法 METHOD OF PRODUCING DIFFRACTIVE STRUCTURES IN SECURITY DOCUMENTS
公开(公告)号：TW200608305A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：TW094124111
申请日：2005-07-15
申请人：塞古倫希股份有限公司 SECURENCY PTY LIMITED
发明人：尼米斯周書亞R NEMETH, JOSHUA ROBERT , 保爾蓋瑞F POWER, GARY FAIRLESS
IPC分类号： G06K
CPC分类号： B42D25/435 , B41M3/14 , B41M5/24 , B42D25/00 , B42D25/23 , B42D25/309 , B42D25/313 , B42D25/328 , G03H1/0011 , G03H1/02 , G03H2001/0292 , G03H2001/0478 , G03H2224/06 , G03H2250/33 , G03H2260/62 , Y10S430/146
摘要：一種製造包含一至少對可見光為透明的基板與一繞射光學微型結構的保密文件或物件的方法。該方法包含塗上一不透明層於該透明基板的至少一表面。該不透明層之一區域暴露於雷射輻射以便在不透明層的選定部份剝離數個孔洞，從而在基板的表面上形成一繞射光學微型結構。在暴露該不透明層之前可圖樣化該雷射輻射，例如藉由使輻射通過光罩。替換地，可導引經聚焦或準直的雷射光束至該不透明層之選定部份上。可直接或者是通過透明基板導引該雷射輻射至不透明層。也提供根據本發明方法製成的保密文件或物件。
简体摘要：一种制造包含一至少对可见光为透明的基板与一绕射光学微型结构的保密文档或对象的方法。该方法包含涂上一不透明层于该透明基板的至少一表面。该不透明层之一区域暴露于激光辐射以便在不透明层的选定部份剥离数个孔洞，从而在基板的表面上形成一绕射光学微型结构。在暴露该不透明层之前可图样化该激光辐射，例如借由使辐射通过光罩。替换地，可导引经聚焦或准直的激光光束至该不透明层之选定部份上。可直接或者是通过透明基板导引该激光辐射至不透明层。也提供根据本发明方法制成的保密文档或对象。

7. 发明专利

TWI223360B 製造電子元件之方法,及箔及複數電子元件之總成 Method of manufacturing an electronic component and, assenbly of a foil and a plurality of electronic components 失效
简体标题：制造电子组件之方法,及箔及复数电子组件之总成 Method of manufacturing an electronic component and, assenbly of a foil and a plurality of electronic components
公开(公告)号：TWI223360B
公开(公告)日：2004-11-01
申请号：TW091123675
申请日：2002-10-15
申请人：皇家飛利浦電子股份有限公司 KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V.
发明人：約翰波斯曼 JOHAN BOSMAN , 彼德威爾海穆斯瑪利亞凡狄瓦特 PETER WILHELMUS MARIA VAN DE WATER , 羅夫安可雅各葛羅修斯 ROELF ANCO JACOB GROENHUIS
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6836 , B41M5/24 , B41M5/26 , H01L23/544 , H01L2221/68327 , H01L2223/54406 , H01L2223/54473 , H01L2223/5448 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：本發明係關於製造一種電子元件(1)之方法，特別是關於製造一半導體元件(1)，該元件乃設有電連接區域(2)，其中一標記(M)(例如一類型編號)係以雷射輻射(3)設於其表面上。
在根據本發明之方法中，該元件(1)係用一黏附層(6)使其兩側面(4,7)中之一側面(4)附著於一箔(5)，及該元件在側面(4)上乃設有穿透該箔(5)及黏附層(6)之標記(M)。應用此種方式，大量之元件(1)可輕易設以一標記(M)而無不適當之處理，且該標記作業可容易在各元件之全部製造過程中完成。令人驚奇者，已發現藉由吸收輻射雙層(5,6)來進行標記作業非常切實可行。該元件(1)能附著於該箔(6)而無電連接區域(2)與黏附層間之接觸。較佳者，大量之元件(1)係同時製造及在附著於該箔(5)之單一本體(10)內。在標記(M)設置後，可將各元件(1)互相分開。
简体摘要：本发明系关于制造一种电子组件(1)之方法，特别是关于制造一半导体组件(1)，该组件乃设有电连接区域(2)，其中一标记(M)(例如一类型编号)系以激光辐射(3)设于其表面上。在根据本发明之方法中，该组件(1)系用一黏附层(6)使其两侧面(4,7)中之一侧面(4)附着于一箔(5)，及该组件在侧面(4)上乃设有穿透该箔(5)及黏附层(6)之标记(M)。应用此种方式，大量之组件(1)可轻易设以一标记(M)而无不适当之处理，且该标记作业可容易在各组件之全部制造过程中完成。令人惊奇者，已发现借由吸收辐射双层(5,6)来进行标记作业非常切实可行。该组件(1)能附着于该箔(6)而无电连接区域(2)与黏附层间之接触。较佳者，大量之组件(1)系同时制造及在附着于该箔(5)之单一本体(10)内。在标记(M)设置后，可将各组件(1)互相分开。

8. 发明专利

TW313564B 單烯烴之氫氰化方法及用於此法之含單配位基亞磷酸根配位體與零價鎳來源之觸媒組合物失效
简体标题：单烯烃之氢氰化方法及用于此法之含单配位基亚磷酸根配位体与零价镍来源之触媒组合物
公开(公告)号：TW313564B
公开(公告)日：1997-08-21
申请号：TW084101855
申请日：1995-02-28
申请人：杜邦股份有限公司
发明人：威爾森.譚
IPC分类号： C07C , B01J
CPC分类号： B41M5/38214 , B41M5/24 , B41M5/385 , B41M5/41 , Y10S430/146
摘要：本發明係提供一種包括零價鎳及單配位基亞磷酸鹽配位體之觸媒組合物，及提供一種在路易土酸促進劑之存在下，使用此等組合物之單烯烴氫氰化之方法。
简体摘要：本发明系提供一种包括零价镍及单配位基亚磷酸盐配位体之触媒组合物，及提供一种在路易土酸促进剂之存在下，使用此等组合物之单烯烃氢氰化之方法。

9. 发明专利

TW201641315A 在基板上噴墨印刷裝飾的方法审中-公开
简体标题：在基板上喷墨印刷装饰的方法
公开(公告)号：TW201641315A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105108510
申请日：2016-03-18
申请人：康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：王慶亞 , WANG, QINGYA , 嚴永晟 , YAN, YONGSHENG , 王芳芳 , WANG, FANG FANG
IPC分类号： B41M1/34
CPC分类号： B41J11/0015 , B41M5/0047 , B41M5/0058 , B41M5/0064 , B41M5/007 , B41M5/24 , B41M7/009
摘要：一種在基板上印刷裝飾的方法包括：噴墨印刷複數種油墨以在該基板之表面上形成具有預定圖案的層，其中該等油墨中之每一者包括溶劑且具有不同顏色；加熱該基板以蒸發該等複數種油墨之每一者中的該溶劑之至少一部分；以及在蒸發該等複數種油墨之每一者中的該溶劑之至少該部分後，熱固化該層以形成該裝飾。將該基板加熱至一溫度，該溫度在不完全固化該等複數種油墨之情況下蒸發該等複數種油墨之每一者中的該溶劑之至少該部分。該等複數種油墨之每一者中的該溶劑之沸點彼此相差10℃以內。
简体摘要：一种在基板上印刷装饰的方法包括：喷墨印刷复数种油墨以在该基板之表面上形成具有预定图案的层，其中该等油墨中之每一者包括溶剂且具有不同颜色；加热该基板以蒸发该等复数种油墨之每一者中的该溶剂之至少一部分；以及在蒸发该等复数种油墨之每一者中的该溶剂之至少该部分后，热固化该层以形成该装饰。将该基板加热至一温度，该温度在不完全固化该等复数种油墨之情况下蒸发该等复数种油墨之每一者中的该溶剂之至少该部分。该等复数种油墨之每一者中的该溶剂之沸点彼此相差10℃以内。

10. 发明专利

TW201605654A 塗層之雷射處理方法审中-公开
简体标题：涂层之激光处理方法
公开(公告)号：TW201605654A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW104116268
申请日：2015-05-21
申请人：麥克專利有限公司 , MERCK PATENT GMBH
发明人：昆瑟馬堤斯 , QUENZER, MATTHIAS , 柯雷恩席爾克 , KLEIN, SYLKE
IPC分类号： B41M5/24 , B41M5/28
CPC分类号： G03F7/0042 , B41M5/24 , B41M5/267 , B41M5/28 , B42D25/30 , B44F1/08 , G03F7/0037 , G03F7/004 , G03F7/2053 , G21K5/02 , Y10T428/24876 , Y10T428/24901
摘要：本發明係關於含有效果顏料的塗層之雷射處理的方法，係關於使用此方法製得的塗層，及其於裝飾性和保密性產品之用途。
简体摘要：本发明系关于含有效果颜料的涂层之激光处理的方法，系关于使用此方法制得的涂层，及其于装饰性和保密性产品之用途。

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