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1. 发明专利

TW201814770A 曝光裝置、曝光方法及元件製造方法审中-公开
简体标题：曝光设备、曝光方法及组件制造方法
公开(公告)号：TW201814770A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：TW106131503
申请日：2017-09-14
申请人：日商瑞薩電子股份有限公司 , RENESAS ELECTRONICS CORPORATION
发明人：松浦誠司 , MATSUURA, SEIJI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2006 , G02B27/28 , G02B27/286 , G03F7/30 , H01L21/0275 , H01L21/76816 , H01L21/76877
摘要： [課題] 本發明提供一種曝光裝置，可提高沿著各方向延伸的圖案之解析度。 [解決手段] 曝光裝置(100)具備使照明光偏光之偏光構件(125)、以及具有至少一個開口部之濾波器(130)。偏光構件包含第一偏光單元(1110)、以及配置成包圍第一偏光單元之第二偏光單元(1120)。第二偏光單元使得入射到第二偏光單元之照明光，朝向沿第一偏光單元之外周的周邊方向偏光。第一偏光單元之至少一部分，使得照明光朝向「和第二偏光單元當中，從該一部分觀之，位在第一偏光單元之中央部其相反側的部分之偏光方向垂直的方向」偏光。又，濾波器之開口部(132、134)配置成「在濾波器及偏光構件的後段之照明光，包含被第一及第二偏光單元偏光的照明光」。
简体摘要： [课题] 本发明提供一种曝光设备，可提高沿着各方向延伸的图案之分辨率。 [解决手段] 曝光设备(100)具备使照明光偏光之偏光构件(125)、以及具有至少一个开口部之滤波器(130)。偏光构件包含第一偏光单元(1110)、以及配置成包围第一偏光单元之第二偏光单元(1120)。第二偏光单元使得入射到第二偏光单元之照明光，朝向沿第一偏光单元之外周的周边方向偏光。第一偏光单元之至少一部分，使得照明光朝向“和第二偏光单元当中，从该一部分观之，位在第一偏光单元之中央部其相反侧的部分之偏光方向垂直的方向”偏光。又，滤波器之开口部(132、134)配置成“在滤波器及偏光构件的后段之照明光，包含被第一及第二偏光单元偏光的照明光”。

2. 发明专利

TW201809801A 光學照明裝置、曝光裝置、曝光方法、以及元件製造方法审中-公开
简体标题：光学照明设备、曝光设备、曝光方法、以及组件制造方法
公开(公告)号：TW201809801A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106141075
申请日：2004-10-20
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：豊田光紀 , TOYODA,MITSUNORI
IPC分类号： G02B27/28 , G03F7/20
CPC分类号： G02B27/0927 , G02B5/3025 , G02B27/0944 , G02B27/28 , G02B27/4233 , G02B27/4261 , G03F7/70158 , G03F7/70566
摘要：本發明提供一種光學照明裝置，不僅能有效地抑制光量損失，且能夠形成周方向偏光狀態的輪帶狀之照明瞳分佈。本發明的光學照明裝置，配置光束變換元件(50)，可依入射光束在所定面形成輪帶狀的光強度分布。該光束變換元件，用有旋光性的光學材料形成，由包括：依入射光束形成輪帶狀光強度分布中的第一圓弧狀區域分佈的第一基本元件(50A)，及形成第二圓弧狀區域分佈的第二基本元件(50B)，及形成第三圓弧狀區域分佈的第三基本元件(50C)，以及形成第四圓弧狀區域分佈的第四基本元件構成。該些各基本元件在沿光束之透過方向的厚度互異。
简体摘要：本发明提供一种光学照明设备，不仅能有效地抑制光量损失，且能够形成周方向偏光状态的轮带状之照明瞳分布。本发明的光学照明设备，配置光束变换组件(50)，可依入射光束在所定面形成轮带状的光强度分布。该光束变换组件，用有旋光性的光学材料形成，由包括：依入射光束形成轮带状光强度分布中的第一圆弧状区域分布的第一基本组件(50A)，及形成第二圆弧状区域分布的第二基本组件(50B)，及形成第三圆弧状区域分布的第三基本组件(50C)，以及形成第四圆弧状区域分布的第四基本组件构成。该些各基本组件在沿光束之透过方向的厚度互异。

3. 发明专利

TWI615640B 透明光學裝置元件有权
简体标题：透明光学设备组件
公开(公告)号：TWI615640B
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：TW102133209
申请日：2013-09-13
申请人：波萊股份有限公司 , POLIGHT AS
发明人：漢瑞克森拉爾斯 , HENRIKSEN, LARS
IPC分类号： G02B3/14
CPC分类号： G02B3/14 , B29D11/00009 , G02B1/041 , G02B1/06 , G02B1/10 , G02B3/12 , G02B26/004 , G02B26/005 , G02B27/28 , C08L83/04

4. 发明专利

TWI569308B 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法有权
简体标题：照明光学设备、曝光设备、曝光方法以及组件制造方法
公开(公告)号：TWI569308B
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW103116064
申请日：2004-10-15
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：白石直正 , SHIRAISHI, NAOMASA
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G02B27/28
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B3/0006 , G02B5/3083 , G02B27/28 , G02B27/283 , G02B27/286 , G03F7/70108 , G03F7/70341 , G03F7/70566 , G03F7/70966

5. 发明专利

TWI530706B 光學積層體、偏光板及影像顯示裝置有权
简体标题：光学积层体、偏光板及影像显示设备
公开(公告)号：TWI530706B
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：TW102105032
申请日：2013-02-08
申请人：大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：小久見尙一郎 , OGUMI, SHOICHIRO , 江口淳哉 , EGUCHI, JUNYA , 古井玄 , FURUI, GEN , 皆越清馨 , MINAKOSHI, SEIKA , 岩田行光 , IWATA, YUKIMITSU
IPC分类号： G02B1/10 , B32B27/18 , B32B7/02 , G02B5/30
CPC分类号： G02B1/14 , G02B1/10 , G02B1/105 , G02B5/3025 , G02B27/28 , Y10T428/24355 , Y10T428/24372

6. 发明专利

TW201609605A 透明陶瓷之製造方法及透明陶瓷、磁性光學裝置以及燒結用稀土類氧化物粉末审中-公开
简体标题：透明陶瓷之制造方法及透明陶瓷、磁性光学设备以及烧结用稀土类氧化物粉末
公开(公告)号：TW201609605A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104117948
申请日：2015-06-03
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：牧川新二 , MAKIKAWA, SHINJI , 青木伸司 , AOKI, SHINJI , 野島義弘 , NOJIMA, YOSHIHIRO
IPC分类号： C04B35/50 , C04B35/622 , C04B35/645 , G02F1/09
CPC分类号： G02F1/0036 , C01F17/00 , C04B35/50 , C04B35/505 , C04B35/6264 , C04B35/6303 , C04B35/64 , C04B35/645 , C04B2235/3224 , C04B2235/3225 , C04B2235/60 , C04B2235/9653 , G02B27/28 , G02F1/09 , G02F1/093
摘要：本發明係於包含(a)鋱離子、(b)由釔離子、鈧離子及鑭稀土類離子(排除鋱離子)所選出的至少1種之其他的稀土類離子、(c)由第2族元素及第4族元素所選出的至少1種之元素的離子之水溶液中，使(a)~(c)成分共沉，將該共沉物進行過濾、加熱脫水，而製作包含：由氧化鋱與由釔氧化物、鈧氧化物及鑭稀土類元素(排除鋱)之氧化物所選出的至少1種之其他的稀土類氧化物所構成之稀土類氧化物，與由第2族元素及第4族元素所選出的至少1個元素之氧化物所構成之燒結助劑的原料粉末，使用此原料粉末來提昇結晶組織的均勻性，而製作插入損失小之包含氧化鋱的稀土類氧化物之透明陶瓷。
简体摘要：本发明系于包含(a)铽离子、(b)由钇离子、钪离子及镧稀土类离子(排除铽离子)所选出的至少1种之其他的稀土类离子、(c)由第2族元素及第4族元素所选出的至少1种之元素的离子之水溶液中，使(a)~(c)成分共沉，将该共沉物进行过滤、加热脱水，而制作包含：由氧化铽与由钇氧化物、钪氧化物及镧稀土类元素(排除铽)之氧化物所选出的至少1种之其他的稀土类氧化物所构成之稀土类氧化物，与由第2族元素及第4族元素所选出的至少1个元素之氧化物所构成之烧结助剂的原料粉末，使用此原料粉末来提升结晶组织的均匀性，而制作插入损失小之包含氧化铽的稀土类氧化物之透明陶瓷。

7. 发明专利

TWI519869B 具有週期性微圖案化結構之圖案化延遲膜有权
简体标题：具有周期性微图案化结构之图案化延迟膜
公开(公告)号：TWI519869B
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW102143968
申请日：2013-11-29
申请人： LG化學股份有限公司 , LG CHEM, LTD
发明人：全炳建 , JEON, BYOUNG KUN , 朴文洙 , PARK, MOON SOO , 辛富建 , SHIN, BU GON , 金信英 , KIM, SIN YOUNG , 李鍾炳 , LEE, JONG BYUNG , 李多美 , LEE, DA MI , 朴智勳 , PARK, JI HOON
IPC分类号： G02F1/1337
CPC分类号： G02F1/133504 , G02B27/2214 , G02B27/28 , G02F1/133512 , G02F1/133553 , G02F1/133711 , G02F1/133753 , Y10T428/24479 , Y10T428/2457

8. 发明专利

TW201435516A 微影投影曝光設備的光學系統审中-公开
简体标题：微影投影曝光设备的光学系统
公开(公告)号：TW201435516A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW102146157
申请日：2013-12-13
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：翔杰印哥
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/28 , G02B26/08
CPC分类号： G02B26/0833 , G02B5/04 , G02B5/30 , G02B27/28 , G03F7/20 , G03F7/70116 , G03F7/70566
摘要：本發明揭示微影投影曝光設備的光學系統，其包含：一反射鏡配置(200)，其具有複數個反射鏡元件(200a、200b、200c、…)，該複數個反射鏡元件係彼此獨立可調整以變更由該反射鏡配置(200)反射之光的角分布；一極化影響光學配置(100、400)，其具有至少一個極化影響組件(101、102、103、401、402、403)，其中藉由位移該極化影響組件，可以可變的方式設定在該極化影響組件(101、102、103、401、402、403)及該反射鏡配置(200)之間的重疊程度；及一偏轉器件(300、360、370)，其在該反射鏡配置(200)相對於光傳播方向的上游及下游具有一相應反射表面(300a、300b、360a、360b、370a、370b)。
简体摘要：本发明揭示微影投影曝光设备的光学系统，其包含：一反射镜配置(200)，其具有复数个反射镜组件(200a、200b、200c、…)，该复数个反射镜组件系彼此独立可调整以变更由该反射镜配置(200)反射之光的角分布；一极化影响光学配置(100、400)，其具有至少一个极化影响组件(101、102、103、401、402、403)，其中借由位移该极化影响组件，可以可变的方式设置在该极化影响组件(101、102、103、401、402、403)及该反射镜配置(200)之间的重叠程度；及一偏转器件(300、360、370)，其在该反射镜配置(200)相对于光传播方向的上游及下游具有一相应反射表面(300a、300b、360a、360b、370a、370b)。

9. 发明专利

TW201432789A 照明光學裝置、曝光裝置、曝光方法以及元件製造方法审中-公开
简体标题：照明光学设备、曝光设备、曝光方法以及组件制造方法
公开(公告)号：TW201432789A
公开(公告)日：2014-08-16
申请号：TW103116064
申请日：2004-10-15
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：白石直正 , SHIRAISHI, NAOMASA
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G02B27/28
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B3/0006 , G02B5/3083 , G02B27/28 , G02B27/283 , G02B27/286 , G03F7/70108 , G03F7/70341 , G03F7/70566 , G03F7/70966
摘要：本發明提供一種投影曝光裝置，在以規定的偏光(optical polarization)狀態之照明光來照明光罩(mask)之際，可使光量損失減少。此投影曝光裝置具有照明光學系統ILS與投影光學系統PL。其中，照明光學系統ILS係以照明光IL來照射光柵(reticle)R，投影光學系統PL，係將光柵R之圖案的像投影於晶圓(wafer)W上。在照明光學系統ILS中，從曝光光源1以直線偏光狀態所射出之照明光IL，係通過進相軸之方向相異的第一及第二複折射構件12、13，大略在特定環帶狀之領域以光軸為中心之圓周方向上實質上變換成直線偏光之偏光狀態後，經複眼透鏡14等以環帶照明條件來照明該光柵R。
简体摘要：本发明提供一种投影曝光设备，在以规定的偏光(optical polarization)状态之照明光来照明光罩(mask)之际，可使光量损失减少。此投影曝光设备具有照明光学系统ILS与投影光学系统PL。其中，照明光学系统ILS系以照明光IL来照射光栅(reticle)R，投影光学系统PL，系将光栅R之图案的像投影于晶圆(wafer)W上。在照明光学系统ILS中，从曝光光源1以直线偏光状态所射出之照明光IL，系通过进相轴之方向相异的第一及第二复折射构件12、13，大略在特定环带状之领域以光轴为中心之圆周方向上实质上变换成直线偏光之偏光状态后，经复眼透镜14等以环带照明条件来照明该光栅R。

10. 发明专利

TWI434078B 偏光纖維、偏光片、偏光板、積層光學薄膜及圖像顯示裝置失效
简体标题：偏光纤维、偏光片、偏光板、积层光学薄膜及图像显示设备
公开(公告)号：TWI434078B
公开(公告)日：2014-04-11
申请号：TW097121709
申请日：2008-06-11
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：宮武稔 , MIYATAKE, MINORU , 西村明憲 , NISHIMURA, AKINORI , 品川雅 , SHINAGAWA, MASASHI , 岩河康子 , IWAKAWA, YASUKO
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B5/30 , D01D5/36 , D01F8/06 , D01F8/10 , G02B5/3025 , G02B27/28

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