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    • 5. 发明专利
    • 適用於高溫操作之氫氣感測器及其製法
    • 适用于高温操作之氢气传感器及其制法
    • TW573120B
    • 2004-01-21
    • TW091135484
    • 2002-12-06
    • 國立成功大學 NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY
    • 劉文超陳慧英林坤緯
    • G01N
    • G01N33/005
    • 一種適用於高溫操作之氫氣感測器及其製法,此氫氣感測器結構成長在半絕緣型半導體基板上,其磊晶結構包含未摻雜之砷化鎵半導體緩衝層,以及n型磷化銦鎵半導體薄膜。在磊晶成長之後接著利用真空蒸鍍的技術於n型磷化銦鎵薄膜層表面蒸鍍一層金-鍺-鎳合金做為二極體式氫氣感測器之歐姆式接觸陰極電極,接著在n型半導體薄膜層表面上成長一層很薄之氧化層,並在此氧化層上蒸鍍鈀或鉑金屬,作為二極式氫氣感測器之肖特基接觸式陽極電極。由於鈀或鉑金屬對氫氣具有良好的觸媒活性,當氫氣分子吸附於鈀或鉑金屬表面時,會被解離為氫原子,而大部分氫原子將會擴散穿透鈀或鉑金屬層,並於鈀或鉑金屬與氧化層薄膜介面造成極化作用,形成偶極短層,此一偶極短層將改變鈀或鉑金屬與氧化層介面之電場,進而降低了金屬-半導體肖特基能障高度。因此,當接觸氫氣後,將可改變元件之電流-電壓特性,進而達成感測氫氣之目的。伍、(一)、本案代表圖為:第__一____圖
      (二)、本案代表圖之元件代表符號簡單說明:
      10 氫氣感測器 12 半絕緣型砷化鎵基板
      14 未摻雜型砷化鎵緩衝層
      16 n型磷化銦鎵層 18 歐姆性接觸金屬層
      20 薄氧化層 22 肖特基接觸金屬
    • 一种适用于高温操作之氢气传感器及其制法,此氢气传感器结构成长在半绝缘型半导体基板上,其磊晶结构包含未掺杂之砷化镓半导体缓冲层,以及n型磷化铟镓半导体薄膜。在磊晶成长之后接着利用真空蒸镀的技术于n型磷化铟镓薄膜层表面蒸镀一层金-锗-镍合金做为二极管式氢气传感器之欧姆式接触阴极电极,接着在n型半导体薄膜层表面上成长一层很薄之氧化层,并在此氧化层上蒸镀钯或铂金属,作为二极式氢气传感器之肖特基接触式阳极电极。由于钯或铂金属对氢气具有良好的触媒活性,当氢气分子吸附于钯或铂金属表面时,会被解离为氢原子,而大部分氢原子将会扩散穿透钯或铂金属层,并于钯或铂金属与氧化层薄膜界面造成极化作用,形成偶极短层,此一偶极短层将改变钯或铂金属与氧化层界面之电场,进而降低了金属-半导体肖特基能障高度。因此,当接触氢气后,将可改变组件之电流-电压特性,进而达成传感氢气之目的。伍、(一)、本案代表图为:第__一____图 (二)、本案代表图之组件代表符号简单说明: 10 氢气传感器 12 半绝缘型砷化镓基板 14 未掺杂型砷化镓缓冲层 16 n型磷化铟镓层 18 欧姆性接触金属层 20 薄氧化层 22 肖特基接触金属
    • 6. 发明专利
    • 用來檢測氫氣、氨氣及含硫氣體之微加工薄膜感測器陣列,暨製造及使用其之方法
    • 用来检测氢气、氨气及含硫气体之微加工薄膜传感器数组,暨制造及使用其之方法
    • TW546476B
    • 2003-08-11
    • TW091106712
    • 2002-04-03
    • 尖端科技材料公司
    • 小佛蘭克 迪梅歐
    • G01N
    • G01N27/12G01N21/59G01N21/783G01N27/128G01N33/0014G01N33/005G01N2291/02863Y10T436/175383Y10T436/22
    • 本發明提供一種氫氣感測器,其包括利用金屬有機化學蒸氣沈積(MOCVD)或物理蒸氣沈積(PVD)形成於微電熱板結構上之薄膜感測器元件。薄膜感測器元件包括與氫可逆地交互作用,而提供相對於在不存在氫時之薄膜之反應特性相應改變之反應特性,諸如光學透射率、電導、電阻、電容、磁電阻、光電導性等等之氫氣交互作用金屬薄膜的薄膜。可將氫氣交互作用金屬薄膜覆蓋可透過氫之障壁層薄膜,以保護氫氣交互作用薄膜不致與非氫物種的有害交互作用。可透過氫之障壁可包括將氧及其他類似物種清除的物種。可將本發明之氫氣感測器有用地利用於檢測易受氫氣侵入或產生之環境中之氫氣,且可方便地將其構造成為手持裝置。
    • 本发明提供一种氢气传感器,其包括利用金属有机化学蒸气沉积(MOCVD)或物理蒸气沉积(PVD)形成于微电热板结构上之薄膜传感器组件。薄膜传感器组件包括与氢可逆地交互作用,而提供相对于在不存在氢时之薄膜之反应特性相应改变之反应特性,诸如光学透射率、电导、电阻、电容、磁电阻、光电导性等等之氢气交互作用金属薄膜的薄膜。可将氢气交互作用金属薄膜覆盖可透过氢之障壁层薄膜,以保护氢气交互作用薄膜不致与非氢物种的有害交互作用。可透过氢之障壁可包括将氧及其他类似物种清除的物种。可将本发明之氢气传感器有用地利用于检测易受氢气侵入或产生之环境中之氢气,且可方便地将其构造成为手持设备。
    • 8. 发明专利
    • 氫氣感測器及其製造方法
    • 氢气传感器及其制造方法
    • TWI351761B
    • 2011-11-01
    • TW097101222
    • 2008-01-11
    • 國立成功大學
    • 陳慧英劉文超林金田
    • H01LG01N
    • H01L29/7787G01N27/4141G01N33/005
    • 本發明係關於一種氫氣感測器及其製造方法,該氫氣感測器包括一半導體基底、一半導體緩衝層、一半導體主動層、一半導體蕭特基接觸層、一半導體帽層、一歐姆金屬接觸電極層、做為汲極與源極電極及做為閘極電極之蕭特基金屬接觸電極層以形成一金屬-半導體三端式電晶體結構之氫氣感測器;本發明提供之氫氣感測器製造方法係將無電鍍技術融合於一般半導體製程中,該蕭特基金屬接觸電極層係以無電鍍技術鍍覆於該半導體蕭特基接觸層上,以減少費米能階釘住效應,並強化該氫氣感測器之電性。
    • 本发明系关于一种氢气传感器及其制造方法,该氢气传感器包括一半导体基底、一半导体缓冲层、一半导体主动层、一半导体萧特基接触层、一半导体帽层、一欧姆金属接触电极层、做为汲极与源极电极及做为闸极电极之萧特基金属接触电极层以形成一金属-半导体三端式晶体管结构之氢气传感器;本发明提供之氢气传感器制造方法系将无电镀技术融合于一般半导体制程中,该萧特基金属接触电极层系以无电镀技术镀覆于该半导体萧特基接触层上,以减少费米能阶钉住效应,并强化该氢气传感器之电性。