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1. 发明专利

TW201321534A 真空蒸鍍裝置审中-公开
简体标题：真空蒸镀设备
公开(公告)号：TW201321534A
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW101102925
申请日：2012-01-30
申请人：三菱重工業股份有限公司 , MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.
发明人：重岡伸之 , SHIGEOKA, NOBUYUKI , 平野龍也 , HIRANO, TATSUYA
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/56
CPC分类号： C23C14/26 , C23C14/542 , C23C14/546
摘要：本發明係提供一種無論蒸鍍材料為何，皆可不妨礙檢測地藉由所蒸發之蒸鍍材料長時間形成厚度均勻之膜的真空蒸鍍裝置。真空蒸鍍裝置(1)包括：蒸鍍材容器(2)；蒸發機構，其蒸發蒸鍍材料；複數個成膜速度監視器(3、4)，其於倒角不同之位置觀測成膜速度；成膜速度控制部，其將一個成膜速度監視器(3)之成膜速度與預定之設定值進行比較，並以使觀測到之成膜速度相對於設定值之變動為特定範圍內之方式控制蒸發機構之輸出；材料供給部(5)；蒸氣量分佈運算部，其使用藉由複數個成膜速度監視器(3、4)觀測到之成膜速度，運算藉由蒸發機構蒸發之蒸鍍材料之蒸氣量分佈；及材料供給控制部，其將運算得出之蒸氣量分佈與預定之蒸氣量分佈之設定值進行比較，並以使運算得出之蒸氣量分佈相對於蒸氣量分佈之設定值之變動為特定範圍內之方式控制蒸鍍材料之供給量及供給時序。
简体摘要：本发明系提供一种无论蒸镀材料为何，皆可不妨碍检测地借由所蒸发之蒸镀材料长时间形成厚度均匀之膜的真空蒸镀设备。真空蒸镀设备(1)包括：蒸镀材容器(2)；蒸发机构，其蒸发蒸镀材料；复数个成膜速度监视器(3、4)，其于倒角不同之位置观测成膜速度；成膜速度控制部，其将一个成膜速度监视器(3)之成膜速度与预定之设置值进行比较，并以使观测到之成膜速度相对于设置值之变动为特定范围内之方式控制蒸发机构之输出；材料供给部(5)；蒸气量分布运算部，其使用借由复数个成膜速度监视器(3、4)观测到之成膜速度，运算借由蒸发机构蒸发之蒸镀材料之蒸气量分布；及材料供给控制部，其将运算得出之蒸气量分布与预定之蒸气量分布之设置值进行比较，并以使运算得出之蒸气量分布相对于蒸气量分布之设置值之变动为特定范围内之方式控制蒸镀材料之供给量及供给时序。

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