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    • 1. 发明专利
    • 高純度金屬之製造方法及裝置
    • 高纯度金属之制造方法及设备
    • TWI252875B
    • 2006-04-11
    • TW092102737
    • 2003-02-11
    • 日材料股份有限公司 NIKKO MATERIALS CO., LTD.
    • 新藤 裕一朗竹本 幸一
    • C25C
    • C22B3/0005C22B23/06C25C1/00Y02P10/234
    • 本發明係關於一種高純度金屬之製造方法,其特徵在於:使用含有金屬之溶液做為電解液進行電解之際,將陽極與陰極以陰離子交換膜來分隔,將陽極電解液間歇或連續地抽出而導入溶劑萃取槽,以該溶劑萃取槽將雜質去除,再將此雜質去除後之高純度金屬電解液以間歇或連續的方式導入陰極側。可提供一種自含有許多鐵、碳、氧等之金屬原料利用含有金屬之溶液進行電解之簡便的方法,可從該原料有效率地製造出純度4N(99.99重量%)或5N(99.999重量%)以上之高純度金屬。
    • 本发明系关于一种高纯度金属之制造方法,其特征在于:使用含有金属之溶液做为电解液进行电解之际,将阳极与阴极以阴离子交换膜来分隔,将阳极电解液间歇或连续地抽出而导入溶剂萃取槽,以该溶剂萃取槽将杂质去除,再将此杂质去除后之高纯度金属电解液以间歇或连续的方式导入阴极侧。可提供一种自含有许多铁、碳、氧等之金属原料利用含有金属之溶液进行电解之简便的方法,可从该原料有效率地制造出纯度4N(99.99重量%)或5N(99.999重量%)以上之高纯度金属。
    • 5. 发明专利
    • 高純度鉿材料、該材料構成之靶及薄膜、高純度鉿之製造方法
    • 高纯度铪材料、该材料构成之靶及薄膜、高纯度铪之制造方法
    • TWI271441B
    • 2007-01-21
    • TW093110816
    • 2004-04-19
    • 日金屬股份有限公司
    • 新藤裕一朗 SHINDO, YUICHIRO
    • C23C
    • C22B34/14C22B1/08C22B3/0005C22B9/228Y02P10/234
    • 一種高純度鉿之製造方法,係將鉿之氯化物調製成水溶液,對其藉由溶劑萃取來除去鉿之後,以中和處理來得到氧化鉿,進一步將其氯化成為氯化鉿,然後還原得到鉿海綿體,進而將該鉿海綿體做電子束熔解,得到鉿錠塊。一種以前述製造方法所得之高純度鉿材料、該材料所構成之靶以及薄膜。
      係關於一種可降低鉿中所含鉿含量之高純度鉿材料、該材料所構成之靶以及薄膜及其製造方法,可提供一種有效、安定之製造技術以及藉此所得之高純度鉿材料、該材料所構成之靶以及高純度鉿薄膜。
    • 一种高纯度铪之制造方法,系将铪之氯化物调制成水溶液,对其借由溶剂萃取来除去铪之后,以中和处理来得到氧化铪,进一步将其氯化成为氯化铪,然后还原得到铪海绵体,进而将该铪海绵体做电子束熔解,得到铪锭块。一种以前述制造方法所得之高纯度铪材料、该材料所构成之靶以及薄膜。 系关于一种可降低铪中所含铪含量之高纯度铪材料、该材料所构成之靶以及薄膜及其制造方法,可提供一种有效、安定之制造技术以及借此所得之高纯度铪材料、该材料所构成之靶以及高纯度铪薄膜。
    • 7. 发明专利
    • 製造銅箔的方法
    • 制造铜箔的方法
    • TW335416B
    • 1998-07-01
    • TW083109171
    • 1994-10-04
    • 電子銅線產物有限公司
    • 史提芬J.科哈特湯瑪士L.佐登錫得尼J.克勞瑟邁可A.依蒙
    • C25C
    • C22B3/0005C22B3/04C22B15/00C22B15/0065C25D1/04Y02P10/234Y02P10/236
    • 本發明係關於一種從含銅物質製造銅箔的方法,其包括:
      (A)使該含銅物質與有效數量的至少一瀝濾水溶液接觸,使銅離子溶解於該瀝濾溶液中,形成富含銅的瀝濾水溶液﹔
      (B)使該富含銅的瀝濾水溶液與一有效數量的至少一不溶於水的萃取劑接觸,將銅離子從該富含銅離子的瀝濾水溶液轉送到萃取劑,形成富含銅的萃取劑和銅用盡的瀝濾水溶液﹔
      (C)從該銅用盡的瀝濾水溶液分離該富含銅的萃取劑﹔
      (D)使該富含銅的萃取劑與有效數量的至少一脫除水溶液接觸,將銅離子從該萃取劑傳送到該脫除溶液,以形成富含銅的脫除溶液和銅用盡的萃取劑﹔
      (E)從該銅用盡萃取劑分離該富含銅的脫除溶液﹔
      (F)使該富含銅的脫除溶液在陽極和旋轉陰極之間流動,施以一有效數量的電壓通過陽極和陰極,使銅沈積在該陰極上﹔和
      (G)持續從陰極移走銅箔。
    • 本发明系关于一种从含铜物质制造铜箔的方法,其包括: (A)使该含铜物质与有效数量的至少一沥滤水溶液接触,使铜离子溶解于该沥滤溶液中,形成富含铜的沥滤水溶液﹔ (B)使该富含铜的沥滤水溶液与一有效数量的至少一不溶于水的萃取剂接触,将铜离子从该富含铜离子的沥滤水溶液转送到萃取剂,形成富含铜的萃取剂和铜用尽的沥滤水溶液﹔ (C)从该铜用尽的沥滤水溶液分离该富含铜的萃取剂﹔ (D)使该富含铜的萃取剂与有效数量的至少一脱除水溶液接触,将铜离子从该萃取剂发送到该脱除溶液,以形成富含铜的脱除溶液和铜用尽的萃取剂﹔ (E)从该铜用尽萃取剂分离该富含铜的脱除溶液﹔ (F)使该富含铜的脱除溶液在阳极和旋转阴极之间流动,施以一有效数量的电压通过阳极和阴极,使铜沉积在该阴极上﹔和 (G)持续从阴极移走铜箔。