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1. 发明专利

TW201600576A 自黏性表面保護膜审中-公开
简体标题：自黏性表面保护膜
公开(公告)号：TW201600576A
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW103135767
申请日：2014-10-16
申请人：東洋紡股份有限公司 , TOYOBO CO., LTD.
发明人：山本茂知 , YAMAMOTO, SHIGETOMO , 大木祐和 , OGI, HIROKAZU , 松田明 , MATSUDA, AKIRA
IPC分类号： C09J7/02 , C09J5/00 , C09J125/08 , B32B27/32 , B32B25/08 , B32B7/02 , B29C47/06 , G02B1/10 , G02B5/04
CPC分类号： B32B27/00 , B32B27/32 , C09J7/20 , C09J109/06 , C09J125/10 , C09J153/02
摘要：本發明之課題係一種自黏性表面保護膜，其中從被模具鑿穿之光學構件剝離黏著薄膜時，容易抓取黏著薄膜之末端部而剝離，黏著薄膜以捲狀保管，其後抽出薄膜時，不易發生薄膜部份伸長或變形等問題，薄膜加工適性優異。本發明之解決手段係一種自黏性表面保護膜，其特徵在於藉由共擠出於包含聚丙烯系樹脂之基材層的單面積層黏著層，反面積層脫模層而成，將黏著薄膜與被黏著體貼合，鑿穿之末端部剝離強度為60cN/25mm以下，黏著面相對於脫模面之剝離力為200cN/40mm以下。
简体摘要：本发明之课题系一种自黏性表面保护膜，其中从被模具凿穿之光学构件剥离黏着薄膜时，容易抓取黏着薄膜之末端部而剥离，黏着薄膜以卷状保管，其后抽出薄膜时，不易发生薄膜部份伸长或变形等问题，薄膜加工适性优异。本发明之解决手段系一种自黏性表面保护膜，其特征在于借由共挤出于包含聚丙烯系树脂之基材层的单面积层黏着层，反面积层脱模层而成，将黏着薄膜与被黏着体贴合，凿穿之末端部剥离强度为60cN/25mm以下，黏着面相对于脱模面之剥离力为200cN/40mm以下。

2. 发明专利

TWI274781B 壓力敏感黏合劑組成物及其製造方法 PRESSURE SENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION AND METHOD FOR THE SAME 有权
简体标题：压力敏感黏合剂组成物及其制造方法 PRESSURE SENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION AND METHOD FOR THE SAME
公开(公告)号：TWI274781B
公开(公告)日：2007-03-01
申请号：TW090111247
申请日：2001-05-11
申请人：東亞合成股份有限公司 TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：桐戶洋一 YOICHI KIRITO , 家迫博 HIROSHI IESAKO , 河合道弘 MICHIHIRO KAAI , 森聰 SATOSHI KAYAMORI , 望月克信 KATSUNOBU MOCHZUKI , 今堀誠
IPC分类号： C09J
CPC分类号： C09J125/10
摘要：一種具有不易變色、強黏著力及增強耐候性的壓力敏感黏合劑組成物，此黏合劑組成物係由黏合性聚合體製造，例如(甲基)丙烯酸樹酯、橡膠、以及黏著付與劑。該黏著付與劑是在180℃至350℃，由乙烯系單元體聚合而得到。相對於100質量部分的黏合性聚合體，該黏著付與劑以5至200質量部分的量混合。
简体摘要：一种具有不易变色、强黏着力及增强耐候性的压力敏感黏合剂组成物，此黏合剂组成物系由黏合性聚合体制造，例如(甲基)丙烯酸树酯、橡胶、以及黏着付与剂。该黏着付与剂是在180℃至350℃，由乙烯系单元体聚合而得到。相对于100质量部分的黏合性聚合体，该黏着付与剂以5至200质量部分的量混合。

3. 发明专利

TWI602837B 部分氫化嵌段共聚物、黏接著組合物、黏接著性帶、標籤、改質瀝青組合物、改質瀝青混合物及鋪裝用黏合劑組合物有权
简体标题：部分氢化嵌段共聚物、黏接着组合物、黏接着性带、标签、改质沥青组合物、改质沥青混合物及铺装用黏合剂组合物
公开(公告)号：TWI602837B
公开(公告)日：2017-10-21
申请号：TW105122455
申请日：2016-07-15
申请人：旭化成股份有限公司 , ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
发明人：亀田一平 , KAMEDA, IPPEI , 荒木祥文 , ARAKI, YOSHIFUMI
IPC分类号： C08F297/04 , C08F8/04 , C09J153/02 , C09J7/02 , G09F3/10 , C08L95/00 , C08L53/02 , E01C7/30
CPC分类号： C08F293/005 , C04B24/28 , C04B26/26 , C04B2111/0075 , C08F8/04 , C08F297/044 , C08F2438/00 , C08F2800/20 , C08L53/02 , C08L95/00 , C09J7/381 , C09J11/08 , C09J125/10 , C09J147/00 , C09J153/02 , C09J153/025 , C09J195/00 , C09J2203/334 , C09J2409/00 , C09J2425/00 , C09J2453/00 , C08L53/025

4. 发明专利

TW201610083A 附有接著劑層之積層體、以及使用其之可撓性覆銅積層板及可撓性扁平電纜审中-公开
简体标题：附有接着剂层之积层体、以及使用其之可挠性覆铜积层板及可挠性扁平电缆
公开(公告)号：TW201610083A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104124324
申请日：2015-07-28
申请人：東亞合成股份有限公司 , TOAGOSEI CO., LTD.
发明人：沖村祐彌 , OKIMURA, YUYA , 山田成志 , YAMADA, MASASHI
IPC分类号： C09J7/02 , C09J153/00 , C09J163/00 , B32B15/08 , B32B7/12 , H05K3/38 , H01B5/14 , H01B7/08
CPC分类号： B32B27/38 , B32B7/12 , B32B15/08 , B32B25/08 , B32B27/00 , B32B27/32 , B32B2309/105 , B32B2457/08 , C08L25/06 , C08L53/025 , C08L63/00 , C09J7/35 , C09J125/06 , C09J125/10 , C09J153/025 , C09J163/00 , C09J2203/326 , C09J2205/114 , C09J2400/163 , C09J2425/00 , C09J2453/00 , C09J2463/00 , C09J2479/086 , H05K1/028 , H05K1/0353 , H05K1/09 , H05K3/022 , H05K3/386 , H05K2201/0154 , H05K2201/0158
摘要：本發明之目的係在於：提供一種附有接著劑層之積層體，其係具有對於由聚醯亞胺樹脂等所構成之基材薄膜和銅箔的高接著性、及優異的電特性；又，提供一種附有接著劑層之積層體，其係接著劑層為B階段狀時之積層體的反翹少，積層體的儲存安定性亦良好。本發明之附有接著劑層之積層體係具備有基材薄膜及在該基材薄膜之至少其一表面上的接著劑層，該接著劑層係由含有含羧基之乙烯系彈性體(A)及環氧樹脂(B)之接著劑組成物所構成，該含羧基之乙烯系彈性體(A)之含量係相對於接著劑組成物之固體成分100質量份為50質量份以上，該環氧樹脂(B)之含量係相對於含羧基之乙烯系彈性體(A)100質量份為1~20質量份，該接著劑層為B階段狀。
简体摘要：本发明之目的系在于：提供一种附有接着剂层之积层体，其系具有对于由聚酰亚胺树脂等所构成之基材薄膜和铜箔的高接着性、及优异的电特性；又，提供一种附有接着剂层之积层体，其系接着剂层为B阶段状时之积层体的反翘少，积层体的存储安定性亦良好。本发明之附有接着剂层之积层体系具备有基材薄膜及在该基材薄膜之至少其一表面上的接着剂层，该接着剂层系由含有含羧基之乙烯系弹性体(A)及环氧树脂(B)之接着剂组成物所构成，该含羧基之乙烯系弹性体(A)之含量系相对于接着剂组成物之固体成分100质量份为50质量份以上，该环氧树脂(B)之含量系相对于含羧基之乙烯系弹性体(A)100质量份为1~20质量份，该接着剂层为B阶段状。

5. 发明专利

TWI516789B 表面保護膜有权
简体标题：表面保护膜
公开(公告)号：TWI516789B
公开(公告)日：2016-01-11
申请号：TW099125907
申请日：2010-08-04
申请人：三井化學股份有限公司 , MITSUI CHEMICALS, INC.
发明人：得居伸 , TOKUI, SHIN , 才本芳久 , SAIMOTO, YOSHIHISA , 大胡田久行 , OOGODA, HISAYUKI , 井上則英 , INOUE, NORIHIDE
IPC分类号： G02B1/04 , B32B27/32
CPC分类号： C08L23/0815 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/32 , B32B2250/24 , B32B2307/306 , B32B2307/412 , B32B2307/50 , B32B2419/00 , B32B2551/00 , B32B2605/00 , C08L23/08 , C08L23/10 , C08L2205/02 , C08L2666/04 , C09J7/22 , C09J7/241 , C09J7/38 , C09J125/10 , C09J2423/00 , C09J2425/00 , C08L2666/02

6. 发明专利

TW499404B 保護膠體安定化乙烯基芳族/1,3-二烯共聚物在建築黏著劑配製品內之用途失效
简体标题：保护胶体安定化乙烯基芳族/1,3-二烯共聚物在建筑黏着剂配制品内之用途
公开(公告)号：TW499404B
公开(公告)日：2002-08-21
申请号：TW088120122
申请日：1999-11-18
申请人：瓦克化學公司
发明人：萊茵哈德.海芝謝 , 台歐麥益爾 , 漢斯-彼特.外特才勒
IPC分类号： C04B
CPC分类号： C09J109/06 , C04B24/2676 , C08F236/10 , C08L29/04 , C08L2666/02 , C08L2666/04 , C09J125/10 , C08F2/20
摘要：本發明與若干經以保護膠體安定化、以乙烯基芳族/1,3-二烯共聚物為主要成分之水性聚合物分散液或水-可再分散之聚合物粉末在建築黏著劑配製品內之用途有關，該等聚合物分散液及聚合物粉末係在有一種或更多種保護膠體存在之情況下，無需任何乳化劑，將包括至少一種乙烯基芳族與至少一種1,3-二烯之混合物實施乳化聚合作用，及(假若適當)烘乾本方法所製水性聚合物分散液而製得。
简体摘要：本发明与若干经以保护胶体安定化、以乙烯基芳族/1,3-二烯共聚物为主要成分之水性聚合物分散液或水-可再分散之聚合物粉末在建筑黏着剂配制品内之用途有关，该等聚合物分散液及聚合物粉末系在有一种或更多种保护胶体存在之情况下，无需任何乳化剂，将包括至少一种乙烯基芳族与至少一种1,3-二烯之混合物实施乳化聚合作用，及(假若适当)烘干本方法所制水性聚合物分散液而制得。

7. 发明专利

TW201715002A 低介電性接著劑組成物审中-公开
简体标题：低介电性接着剂组成物
公开(公告)号：TW201715002A
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW105125220
申请日：2016-08-09
申请人：東洋紡股份有限公司 , TOYOBO CO., LTD.
发明人：三上忠彥 , MIKAMI, TADAHIKO , 伊藤武 , ITO, TAKESHI , 薗田遼 , SONODA, RYO
IPC分类号： C09J123/26 , C09J163/00 , C09J11/08 , C09J7/02 , B32B7/12 , B32B15/08 , H05K3/38
CPC分类号： C09J7/00 , C09J125/06 , C09J125/10 , C09J163/00 , C09J179/00 , C09J201/00
摘要：本發明提供一種接著劑組成物，不僅是與以往的聚醯亞胺、聚酯膜，與LCP等低極性樹脂基材、金屬基材亦具有高接著性，可獲得高焊料耐熱性，且低介電特性、適用期(pot life)性能亦優異。一種接著劑組成物，含有溶劑可溶性樹脂，並滿足下列(1)～(4)：(1)接著劑組成物之硬化物之於頻率1MHz的相對介電常數(εc)為3.0以下；(2)接著劑組成物之硬化物之於頻率1MHz的介電正切(tanδ)為0.02以下；(3)以接著劑組成物貼合液晶聚合物膜與銅箔而成之疊層體的90°剝離強度為0.5N/mm以上；(4)溶劑可溶性樹脂之甲苯溶液(固體成分濃度20質量%)的溶液黏度比(溶液黏度ηB/溶液黏度ηB0)為0.5以上未達3.0，溶液黏度ηB0係溶劑可溶性樹脂剛溶解於甲苯時的於25℃之溶液黏度，溶液黏度ηB係溶劑可溶性樹脂溶解於甲苯並在5℃下靜置儲存7天後的於25℃之溶液黏度。
简体摘要：本发明提供一种接着剂组成物，不仅是与以往的聚酰亚胺、聚酯膜，与LCP等低极性树脂基材、金属基材亦具有高接着性，可获得高焊料耐热性，且低介电特性、适用期(pot life)性能亦优异。一种接着剂组成物，含有溶剂可溶性树脂，并满足下列(1)～(4)：(1)接着剂组成物之硬化物之于频率1MHz的相对介电常数(εc)为3.0以下；(2)接着剂组成物之硬化物之于频率1MHz的介电正切(tanδ)为0.02以下；(3)以接着剂组成物贴合液晶聚合物膜与铜箔而成之叠层体的90°剥离强度为0.5N/mm以上；(4)溶剂可溶性树脂之甲苯溶液(固体成分浓度20质量%)的溶液黏度比(溶液黏度ηB/溶液黏度ηB0)为0.5以上未达3.0，溶液黏度ηB0系溶剂可溶性树脂刚溶解于甲苯时的于25℃之溶液黏度，溶液黏度ηB系溶剂可溶性树脂溶解于甲苯并在5℃下静置存储7天后的于25℃之溶液黏度。

8. 发明专利

TW201612008A 黏著性水蒸氣阻障性積層體及圖像顯示裝置审中-公开
简体标题：黏着性水蒸气阻障性积层体及图像显示设备
公开(公告)号：TW201612008A
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW104120481
申请日：2015-06-25
申请人：綜研化學股份有限公司 , SOKEN CHEMICAL & ENGINEERING CO., LTD.
发明人：木口貴美子 , KIGUCHI, KIMIKO , 清水政一 , SHIMIZU, SEIICHI , 金洋平 , KANAZUKA, YOHEI
IPC分类号： B32B27/00 , C09J11/04 , C09J11/06 , C09J125/10 , C09J153/02 , C09J7/00
CPC分类号： B32B27/00 , C09J7/00 , C09J11/04 , C09J11/06 , C09J125/10 , C09J153/02
摘要：本發明提供一種黏著性水蒸氣阻障性積層體，係含有基材及設於前述基材上之黏著劑層，其中，前述黏著劑層係由含有(A)氫化嵌段共聚物、(B)第1相容劑、以及(C)第2相容劑之黏著劑組成物所得者，前述(A)氫化嵌段共聚物係具有由芳香族乙烯單體之聚合物成分所衍生之硬片段、以及由共軛二烯單體之聚合物成分所衍生之軟片段，前述(B)第1相容劑係具有與前述硬片段相容之性質，且軟化點為80℃以上，前述(C)第2相容劑係具有與前述軟片段相容之性質，於常溫(23℃)為液體，前述黏著劑層之膜厚為5μm以上300μm以下，而且，該黏著劑層之膜厚為50μm時之水蒸氣穿透率係依據JIS Z0208於40℃×90% RH中為未達100g/m2．日。
简体摘要：本发明提供一种黏着性水蒸气阻障性积层体，系含有基材及设于前述基材上之黏着剂层，其中，前述黏着剂层系由含有(A)氢化嵌段共聚物、(B)第1兼容剂、以及(C)第2兼容剂之黏着剂组成物所得者，前述(A)氢化嵌段共聚物系具有由芳香族乙烯单体之聚合物成分所衍生之硬片段、以及由共轭二烯单体之聚合物成分所衍生之胶卷段，前述(B)第1兼容剂系具有与前述硬片段兼容之性质，且软化点为80℃以上，前述(C)第2兼容剂系具有与前述胶卷段兼容之性质，于常温(23℃)为液体，前述黏着剂层之膜厚为5μm以上300μm以下，而且，该黏着剂层之膜厚为50μm时之水蒸气穿透率系依据JIS Z0208于40℃×90% RH中为未达100g/m2．日。

9. 发明专利

TWI478995B 接著劑用共聚物乳膠有权
简体标题：接着剂用共聚物乳胶
公开(公告)号：TWI478995B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW099112146
申请日：2010-04-19
申请人：日本A&L股份有限公司 , NIPPON A & L INC.
发明人：種村淳美 , TANEMURA, ATSUMI , 竹中俊 , TAKENAKA, SHUN , 上村彰 , KAMIMURA, AKIRA
IPC分类号： C09J125/08 , C09J139/08 , C09J147/00 , C09J4/00 , C09J133/00
CPC分类号： C09J125/10 , C08L9/08 , C08L25/10 , C08L2205/02 , C09J109/08

10. 发明专利

TW201131193A 表面保護膜审中-公开
简体标题：表面保护膜
公开(公告)号：TW201131193A
公开(公告)日：2011-09-16
申请号：TW099125907
申请日：2010-08-04
申请人：東賽璐股份有限公司
发明人：得居伸 , 才本芳久 , 大胡田久行 , 井上則英
IPC分类号： G02B , B32B
CPC分类号： C08L23/0815 , B32B7/12 , B32B27/08 , B32B27/32 , B32B2250/24 , B32B2307/306 , B32B2307/412 , B32B2307/50 , B32B2419/00 , B32B2551/00 , B32B2605/00 , C08L23/08 , C08L23/10 , C08L2205/02 , C08L2666/04 , C09J7/22 , C09J7/241 , C09J7/38 , C09J125/10 , C09J2423/00 , C09J2425/00 , C08L2666/02
摘要：本發明係提供對於光學材料之黏著特性、經時黏著安定性、透明性、回捲性及耐熱性優異的表面保護膜。係由表面層(A)及黏著層(X)之至少2層所構成的表面保護膜,表面層(A)由聚烯烴樹脂所構成,黏著層(X)由熔點未滿50℃或未觀測到熔點之碳數3個以上之��-烯烴作為主成分的��-烯烴(共)聚合體(X-1)0~50重量%、熔點為50~140℃之範圍的丙烯(共)聚合體(X-2a)及熔點為50℃以上且140℃以下之範圍的乙烯系(共)聚合體(X-2b)中選出至少1種以上之烯烴(共)聚合體0.5~50重量%、苯乙烯系彈性體(X-3)10~98重量%、及低聚物(X-4)0~50重量%所構成之組成物((X-1)、(X-2)、(X-3)及(X-4)合計定為100重量%)所形成為其特徵的表面保護膜。
简体摘要：本发明系提供对于光学材料之黏着特性、经时黏着安定性、透明性、回卷性及耐热性优异的表面保护膜。系由表面层(A)及黏着层(X)之至少2层所构成的表面保护膜,表面层(A)由聚烯烃树脂所构成,黏着层(X)由熔点未满50℃或未观测到熔点之碳数3个以上之��-烯烃作为主成分的��-烯烃(共)聚合体(X-1)0~50重量%、熔点为50~140℃之范围的丙烯(共)聚合体(X-2a)及熔点为50℃以上且140℃以下之范围的乙烯系(共)聚合体(X-2b)中选出至少1种以上之烯烃(共)聚合体0.5~50重量%、苯乙烯系弹性体(X-3)10~98重量%、及低聚物(X-4)0~50重量%所构成之组成物((X-1)、(X-2)、(X-3)及(X-4)合计定为100重量%)所形成为其特征的表面保护膜。

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