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1. 发明专利

TW201544457A 製備沈澱二氧化矽之方法，沈澱二氧化矽及其用途，特別是用於聚合物之增強审中-公开
简体标题：制备沈淀二氧化硅之方法，沈淀二氧化硅及其用途，特别是用于聚合物之增强
公开(公告)号：TW201544457A
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW104105166
申请日：2015-02-13
申请人：隆迪亞營運公司 , RHODIA OPERATIONS
发明人：波伊凡賽德利克 , BOIVIN, CEDRIC , 蓋勞倫 , GUY, LAURENT , 培林艾瑞克 , PERIN, ERIC , 拉米里奇拉尼 , LAMIRI, KILANI
IPC分类号： C01B33/193 , C08K3/36
CPC分类号： C08K3/36 , C01B33/187 , C01B33/193 , C01P2002/54 , C01P2002/82 , C01P2002/87 , C01P2006/12 , C01P2006/22 , C01P2006/82 , C04B14/066 , C04B26/02 , C04B2111/60 , C08K2201/006 , C09C1/30 , C09C1/3045 , C09C1/3063 , C09C1/309
摘要：本發明涉及一種用於製備新穎的沈澱二氧化矽之方法，其中：使一矽酸鹽與一酸化劑反應，以便獲得一種二氧化矽懸浮液；過濾所述二氧化矽懸浮液，以便獲得一濾餅；使所述濾餅經受一液化操作，可隨意地在一鋁化合物的存在下；其中在該液化操作期間或之後將至少一種多元羧酸添加到該濾餅中。本發明還涉及一種新穎的沈澱二氧化矽及其用途。
简体摘要：本发明涉及一种用于制备新颖的沈淀二氧化硅之方法，其中：使一硅酸盐与一酸化剂反应，以便获得一种二氧化硅悬浮液；过滤所述二氧化硅悬浮液，以便获得一滤饼；使所述滤饼经受一液化操作，可随意地在一铝化合物的存在下；其中在该液化操作期间或之后将至少一种多元羧酸添加到该滤饼中。本发明还涉及一种新颖的沈淀二氧化硅及其用途。

2. 发明专利

TWI508920B 沉澱矽石的製備方法，沉澱矽石及其用途有权
简体标题：沉淀硅石的制备方法，沉淀硅石及其用途
公开(公告)号：TWI508920B
公开(公告)日：2015-11-21
申请号：TW102131598
申请日：2013-09-02
申请人：隆迪亞營運公司 , RHODIA OPERATIONS
发明人：波伊凡賽德利克 , BOIVIN, CEDRIC , 蓋勞倫 , GUY, LAURENT , 培林艾瑞克 , PERIN, ERIC , 拉米里奇拉尼 , LAMIRI, KILANI
IPC分类号： C01B33/193 , C08K3/36 , C09C1/28
CPC分类号： C08K3/36 , C01B33/193 , C01P2006/12 , C01P2006/19 , C08K3/22 , C08K5/092 , C08K5/1539 , C08K5/548 , C08K2003/2227 , C08L9/06 , C08L2205/02 , C09C1/30 , C09C1/3063 , C08L7/00

3. 发明专利

TWI455883B 矽石以及環氧樹脂失效
简体标题：硅石以及环氧树脂
公开(公告)号：TWI455883B
公开(公告)日：2014-10-11
申请号：TW098106468
申请日：2009-02-27
申请人：贏創德固賽有限責任公司 , EVONIK DEGUSSA GMBH
发明人：梅爾喬根 , MEYER, JUERGEN , 舒茲馬里歐 , SCHOLZ, MARIO , 巴克爾皮雅 , BUCKEL, PIA , 希爾安卓斯 , HILLE, ANDREAS
IPC分类号： C01B33/12 , C01B33/18 , C08K3/36 , C08L63/00 , C09J11/04 , C09J163/00
CPC分类号： C01B33/183 , B82Y30/00 , C01P2004/64 , C01P2006/11 , C01P2006/12 , C01P2006/22 , C08K3/36 , C08L63/00 , C09C1/30 , C09C1/3081 , C09J163/00 , Y02P20/129 , Y10T428/2995

4. 发明专利

TW201422529A 沉澱矽石的新穎製備方法，新穎沉澱矽石及其用途，特別是針對聚合物的強化审中-公开
简体标题：沉淀硅石的新颖制备方法，新颖沉淀硅石及其用途，特别是针对聚合物的强化
公开(公告)号：TW201422529A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102131598
申请日：2013-09-02
申请人：隆迪亞營運公司 , RHODIA OPERATIONS
发明人：波伊凡賽德利克 , BOIVIN, CEDRIC , 蓋勞倫 , GUY, LAURENT , 培林艾瑞克 , PERIN, ERIC , 拉米里奇拉尼 , LAMIRI, KILANI
IPC分类号： C01B33/193 , C08K3/36 , C09C1/28
CPC分类号： C08K3/36 , C01B33/193 , C01P2006/12 , C01P2006/19 , C08K3/22 , C08K5/092 , C08K5/1539 , C08K5/548 , C08K2003/2227 , C08L9/06 , C08L2205/02 , C09C1/30 , C09C1/3063 , C08L7/00
摘要：本發明係關於一種用於製備沉澱矽石之新穎方法，其中：-使矽酸鹽與酸化劑反應，以獲得沉澱矽石之懸浮液，-過濾該沉澱矽石之懸浮液，以獲得濾餅，-使該濾餅經受崩解操作，該崩解操作包含添加鋁化合物，-在該崩解操作之後，進行乾燥階段，其特徵在於在該崩解操作期間或在該崩解操作之後，向該濾餅中添加多羧酸混合物。其亦關於新穎沉澱矽石及其用途。
简体摘要：本发明系关于一种用于制备沉淀硅石之新颖方法，其中：-使硅酸盐与酸化剂反应，以获得沉淀硅石之悬浮液，-过滤该沉淀硅石之悬浮液，以获得滤饼，-使该滤饼经受崩解操作，该崩解操作包含添加铝化合物，-在该崩解操作之后，进行干燥阶段，其特征在于在该崩解操作期间或在该崩解操作之后，向该滤饼中添加多羧酸混合物。其亦关于新颖沉淀硅石及其用途。

5. 发明专利

TW201206827A 載體或支撐體矽石的粗粒子 COARSE PARTICLES OF CARRIER OR SUPPORT SILICAS 审中-公开
简体标题：载体或支撑体硅石的粗粒子 COARSE PARTICLES OF CARRIER OR SUPPORT SILICAS
公开(公告)号：TW201206827A
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：TW100109566
申请日：2011-03-21
申请人：贏創德固賽有限責任公司
发明人：德瑞瑟勒克勞斯彼特 , 哈索亨法蘭克 , 漢德爾法蘭克 , 羅其雷夫 , 史汀岡特
IPC分类号： C01B , B01J
CPC分类号： C01B33/18 , B01J20/103 , B01J20/28004 , B01J20/28057 , B01J20/28069 , B01J21/08 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C01P2006/12 , C01P2006/14 , C01P2006/19 , C09C1/30 , Y10T428/2982
摘要：本發明係關於用作載體材料，尤其是用作固定床反應器之觸媒支撐體的新穎顆粒矽石，以及關於彼之製造及用途。
简体摘要：本发明系关于用作载体材料，尤其是用作固定床反应器之触媒支撑体的新颖颗粒硅石，以及关于彼之制造及用途。

6. 发明专利

TWI351384B 二氧化矽系微粒子，其製造方法，被膜形成用塗料及具有被膜之基板有权
简体标题：二氧化硅系微粒子，其制造方法，被膜形成用涂料及具有被膜之基板
公开(公告)号：TWI351384B
公开(公告)日：2011-11-01
申请号：TW094124763
申请日：2005-07-21
申请人：日揮觸媒化成股份有限公司
发明人：村口良 , 熊澤光章 , 平井俊晴
IPC分类号： C01B
CPC分类号： C01B33/193 , C01B33/18 , C08K3/36 , C08K7/26 , C09C1/30 , C09D7/61 , C09D7/67 , C09D7/68 , Y10T428/2995 , Y10T428/31935
摘要：為獲得低折射率之二氧化矽系微粒子，製成外殼內具有多孔性物質及/或空隙之空心而球狀之二氧化矽系微粒子。調整二氧化矽原料及二氧化矽以外之無機氧化物原料之添加比率下，使粒狀物成長而得多孔性之複合氧化物粒子(即一次粒狀物)，繼之，去除二氧化矽以外之無機氧化物，而製造外殼內具有空隙之空心而球狀之二氧化矽系微粒子之分散液。然後，必要時洗淨二氧化矽系微粒子分散液之後，在常溫~300℃範圍下熟化，再於50~300℃範圍下行水熱處理。
简体摘要：为获得低折射率之二氧化硅系微粒子，制成外壳内具有多孔性物质及/或空隙之空心而球状之二氧化硅系微粒子。调整二氧化硅原料及二氧化硅以外之无机氧化物原料之添加比率下，使粒状物成长而得多孔性之复合氧化物粒子(即一次粒状物)，继之，去除二氧化硅以外之无机氧化物，而制造外壳内具有空隙之空心而球状之二氧化硅系微粒子之分散液。然后，必要时洗净二氧化硅系微粒子分散液之后，在常温~300℃范围下熟化，再于50~300℃范围下行水热处理。

7. 发明专利

TW200704591A 中空狀SiO2微粒子分散液之製造方法,塗料組成物及含有抗反射塗膜之基材审中-公开
简体标题：中空状SiO2微粒子分散液之制造方法,涂料组成物及含有抗反射涂膜之基材
公开(公告)号：TW200704591A
公开(公告)日：2007-02-01
申请号：TW095110378
申请日：2006-03-24
申请人：旭硝子股份有限公司 ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED
发明人：河合洋平 KAWAI, YOHEI , 米田貴重 YONEDA, TAKASHIGE
IPC分类号： C01B , C08K , C09C , C09D , G02B
CPC分类号： B82Y30/00 , C01B33/14 , C01B33/18 , C01P2004/34 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C09C1/0081 , C09C1/043 , C09C1/30 , G02B1/111 , G02B1/113 , Y10T428/24421 , Y10T428/2982 , Y10T428/2991
摘要：本發明提供一種,無殘留核心微粒子,不產生不能控制的凝聚體,容易過濾之中空狀SiO2微粒子的分散液之製造方法。其係中空狀SiO2微粒子分散於分散媒體中之中空狀SiO2微粒子分散液的製造方法;其特徵包含下述之步驟(a)、(b)及(c)。(a)在該分散媒體中構成核心之ZnO微粒子存在下,使SiO2之先驅物質於pH>8應,生成SiO2,以該生成之SiO2被覆於上述ZnO微粒子,而得被覆之微粒子分散液的步驟;(b)在步驟(a)所得之該微粒子分散液中,將酸性陽離子交換樹脂混合接觸,於pH 2-8的範圍溶解核心之ZnO微粒子的步驟;(c)在該ZnO微粒子完全溶解後,藉由固液分離操作,使該酸性陽離子交換樹脂分離,而得該中空狀SiO2微粒子分散液之步驟。
简体摘要：本发明提供一种,无残留内核微粒子,不产生不能控制的凝聚体,容易过滤之中空状SiO2微粒子的分散液之制造方法。其系中空状SiO2微粒子分散于分散媒体中之中空状SiO2微粒子分散液的制造方法;其特征包含下述之步骤(a)、(b)及(c)。(a)在该分散媒体中构成内核之ZnO微粒子存在下,使SiO2之先驱物质于pH>8应,生成SiO2,以该生成之SiO2被覆于上述ZnO微粒子,而得被覆之微粒子分散液的步骤;(b)在步骤(a)所得之该微粒子分散液中,将酸性阳离子交换树脂混合接触,于pH 2-8的范围溶解内核之ZnO微粒子的步骤;(c)在该ZnO微粒子完全溶解后,借由固液分离操作,使该酸性阳离子交换树脂分离,而得该中空状SiO2微粒子分散液之步骤。

8. 发明专利

TW200502334A 顏料混合物及其在化粧品及食品及藥物方面上的應用 PIGMENT MIXTURE, AND THE USE THEREOF IN COSMETICS AND IN THE FOODS AND PHARMACEUTICALS SECTOR 失效
简体标题：颜料混合物及其在化妆品及食品及药物方面上的应用 PIGMENT MIXTURE, AND THE USE THEREOF IN COSMETICS AND IN THE FOODS AND PHARMACEUTICALS SECTOR
公开(公告)号：TW200502334A
公开(公告)日：2005-01-16
申请号：TW093107983
申请日：2004-03-24
申请人：麥克專利有限公司 MERCK PATENT GMBH
发明人：維倫尼卡霍奇斯坦 HOCHSTEIN, VERONIKA , 沙賓蕭恩 SCHOEN, SABINE
IPC分类号： C09D
CPC分类号： A61K8/26 , A61K8/0262 , A61K2800/436 , A61K2800/651 , A61Q1/00 , A61Q5/06 , A61Q17/04 , B82Y30/00 , C01P2004/32 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C09C1/0015 , C09C1/0021 , C09C1/0039 , C09C1/0051 , C09C1/0066 , C09C1/0081 , C09C1/30 , C09C1/3045 , C09C1/3054 , C09C2200/102 , C09C2200/301 , C09C2200/505
摘要：本發明係關於由至少二成份組成之顏料混合物，其中成份A包括以玻璃薄片為底之效應顏料且成份B包括片形，針狀，球形或結晶性著色劑或填料，且關於其特別在化粧品配方及供著色或作為食品及藥物方面之產物的塗覆物上的用途。
简体摘要：本发明系关于由至少二成份组成之颜料混合物，其中成份A包括以玻璃薄片为底之效应颜料且成份B包括片形，针状，球形或结晶性着色剂或填料，且关于其特别在化妆品配方及供着色或作为食品及药物方面之产物的涂覆物上的用途。

9. 发明专利

TW200416199A 氧化矽微粒子审中-公开
简体标题：氧化硅微粒子
公开(公告)号：TW200416199A
公开(公告)日：2004-09-01
申请号：TW092137002
申请日：2003-12-26
申请人：德山股份有限公司 TOKUYAMA CORPORATION
发明人：大原雅和 OHARA, MASAKAZU , 木村稔 KIMURA, MINORU , 青木博男 AOKI, HIROO
IPC分类号： C01B
CPC分类号： B82Y30/00 , C01B33/183 , C01P2004/54 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C01P2006/80 , C09C1/30 , G03G9/09716 , G03G9/09725 , Y10T428/259 , Y10T428/2991
摘要：本發明提供一種氧化矽微粒子，其特徵為在火焰中之反應製得，其平均粒徑0.05～1μm，且於小角度X射線散射法(small–angleX–rayscattering)測定中，解析對象範圍50nm～150nm之碎形參數α1及解析對象範圍150nm～353nm之碎形參數α2，能滿足以下式(1)及(2)表示之條件。－0.0068S＋2.548≦α1≦－0.0068S＋3.748(1)－0.0011S＋1.158≦α2≦－0.0011S＋2.058(2)式(1)及(2)中，S為氧化矽微粒子之BET比表面積(m^2／g)。該氧化矽微粒子當作半導體封裝樹脂用填料，研磨劑或噴墨紙塗覆層等之填料使用時，能夠不提高黏度而多量充填，且當作樹脂用填料時，所得成形體表現良好強度，而當作電子相片用碳粉外加劑使用時，不僅賦予碳粉良好之流動性，同時對碳粉樹脂粒子發揮良好之防止脫落性。
简体摘要：本发明提供一种氧化硅微粒子，其特征为在火焰中之反应制得，其平均粒径0.05～1μm，且于小角度X射线散射法(small–angleX–rayscattering)测定中，解析对象范围50nm～150nm之碎形参数α1及解析对象范围150nm～353nm之碎形参数α2，能满足以下式(1)及(2)表示之条件。－0.0068S＋2.548≦α1≦－0.0068S＋3.748(1)－0.0011S＋1.158≦α2≦－0.0011S＋2.058(2)式(1)及(2)中，S为氧化硅微粒子之BET比表面积(m^2／g)。该氧化硅微粒子当作半导体封装树脂用填料，研磨剂或喷墨纸涂覆层等之填料使用时，能够不提高黏度而多量充填，且当作树脂用填料时，所得成形体表现良好强度，而当作电子相片用碳粉外加剂使用时，不仅赋予碳粉良好之流动性，同时对碳粉树脂粒子发挥良好之防止脱落性。

10. 发明专利

TW200404741A 可高度分散的沈澱矽石 HIGHLY DISPERSIBLE PRECIPITATED SILICA 审中-公开
简体标题：可高度分散的沈淀硅石 HIGHLY DISPERSIBLE PRECIPITATED SILICA
公开(公告)号：TW200404741A
公开(公告)日：2004-04-01
申请号：TW092120883
申请日：2003-07-30
申请人：提古沙公司 DEGUSSA AKTIENGESELLSCHAFT
发明人：史蒂芬優蘭特 UHRLANDT, STEFAN , 安德魯魏米爾 WEHMEIER, ANDRE , 達特萊福盧金斯蘭 LUGINSLAND, DETLEF , 歐格史坦利爾 STENZEL, OLEG
IPC分类号： C01B , C08L , B60C
CPC分类号： B60C1/00 , B60C1/0016 , B82Y30/00 , C01B33/18 , C01B33/193 , C01P2004/51 , C01P2004/61 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C01P2006/19 , C01P2006/22 , C01P2006/40 , C01P2006/90 , C08K3/36 , C09C1/30 , C09C1/3081 , Y10T152/10 , C08L21/00
摘要：本發明係關於一種具高表面積的可高度分散之沈澱矽石，一種上述矽石的製造方法，與其作為輪胎填充料的用途(多用途車輛，機車與高速車輛)。
简体摘要：本发明系关于一种具高表面积的可高度分散之沈淀硅石，一种上述硅石的制造方法，与其作为轮胎填充料的用途(多用途车辆，電單車与高速车辆)。

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