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1. 发明专利

TW201723097A 消光劑以及用於獲得消光劑的方法审中-公开
简体标题：消光剂以及用于获得消光剂的方法
公开(公告)号：TW201723097A
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW105135119
申请日：2016-10-28
申请人：克洛諾斯國際有限公司 , KRONOS INTERNATIONAL, INC.
发明人：席克曼珍妮 , SIEKMAN, JANINE , 沙多洛馬丁 , SANDROCK, MARTIN , 科爾默安德魯尼科萊 , KOLMER-ANDERL, NICOLE
IPC分类号： C09C1/36 , C09C3/10 , C09D7/00
CPC分类号： C09D17/008 , C01P2004/50 , C01P2004/51 , C01P2006/12 , C01P2006/19 , C08K2003/2241 , C09C1/3638 , C09C1/3653 , C09D7/42 , C09D7/61 , C09D7/69 , C09D133/08
摘要：本發明係提供一種包含顏料顆粒的凝聚物的消光劑、所述消光劑的製備方法以及含有在此公開的所述消光劑的塗層配方。本發明還提供包含有色消光表面以及用於對有色塗層進行消光的顏料顆粒的凝聚物的用途。
简体摘要：本发明系提供一种包含颜料颗粒的凝聚物的消光剂、所述消光剂的制备方法以及含有在此公开的所述消光剂的涂层配方。本发明还提供包含有色消光表面以及用于对有色涂层进行消光的颜料颗粒的凝聚物的用途。

2. 发明专利

TWI486405B 併入低結構碳黑之塗料組合物及由其所形成之裝置有权
简体标题：并入低结构碳黑之涂料组合物及由其所形成之设备
公开(公告)号：TWI486405B
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW097115111
申请日：2008-04-24
申请人：客寶公司 , CABOT CORPORATION
发明人：占姆士A 貝蒙 , BELMONT, JAMES A. , 喬佛瑞D 莫瑟 , MOESER, GEOFFREY D. , 安德理柯雪 , KORCHEV, ANDRIY , 阿葛沙傑洛凱理迪斯 , KYRLIDIS, AGATHAGELOS
IPC分类号： C09C1/48 , C09C1/56
CPC分类号： G03G9/0926 , C01P2002/52 , C01P2004/51 , C01P2006/12 , C01P2006/19 , C01P2006/22 , C01P2006/80 , C09C1/48 , C09C1/50 , C09C1/56 , C09C1/565 , Y02P20/129

3. 发明专利

TWI457279B 供不含安定劑之貯存安定性ＲＴＶ－１聚矽氧烷橡膠調合物用之沈澱矽石有权
简体标题：供不含安定剂之贮存安定性ＲＴＶ－１聚硅氧烷橡胶调合物用之沈淀硅石
公开(公告)号：TWI457279B
公开(公告)日：2014-10-21
申请号：TW097141598
申请日：2008-10-29
申请人：贏創德固賽有限責任公司 , EVONIK DEGUSSA GMBH
发明人：潘茲克里斯汀 , PANZ, CHRISTIAN , 奧拉登海爾加 , OBLADEN, HELGA , 梅爾卡爾 , MEIER, KARL , 魯夫馬克斯 , RUF, MARKUS , 艾勒帝斯芮妮 , ALLERDISSE, RENE , 柯恩戴特 , KUHN, DIETER , 艾爾瑪沙歐伊阿立茲 , EL MOUSSAOUI, AZIZ , 舒茲馬里歐 , SCHOLZ, MARIO , 坎普麥克 , KEMPF, MICHAEL
IPC分类号： C01B33/12 , C01B33/187 , C01B33/193 , C08K3/36 , C08L83/04
CPC分类号： C01B33/193 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C01P2006/10 , C01P2006/12 , C01P2006/19 , C09K3/1018

4. 发明专利

TW201412336A 高撥水性、高吸油性氮化硼粉末及其製造方法與化妝料审中-公开
简体标题：高拨水性、高吸油性氮化硼粉末及其制造方法与化妆料
公开(公告)号：TW201412336A
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW102134416
申请日：2013-09-25
申请人：水島合金鐵股份有限公司 , MIZUSHIMA FERROALLOY CO., LTD.
发明人：越田孝久 , KOSHIDA, TAKAHISA , 熊谷正人 , KUMAGAI, MASATO , 日和佐章一 , HIWASA, SHOICHI
IPC分类号： A61K8/19 , A61Q1/02 , A61Q1/12
CPC分类号： A61K8/19 , A61K8/022 , A61K8/0254 , A61K2800/412 , A61Q1/02 , A61Q1/06 , A61Q1/08 , A61Q1/10 , A61Q1/12 , A61Q17/04 , A61Q19/00 , A61Q19/008 , C01B21/064 , C01B21/0648 , C01P2004/20 , C01P2004/50 , C01P2004/61 , C01P2006/12 , C01P2006/19 , C01P2006/80 , C01P2006/90
摘要：於包含形成為扁平形狀的BN的一次粒子及該一次粒子的凝聚體的氮化硼粉末中，藉由使水的滲透速度小於1 mm2/s，並且將吸油量設為100 mL/100g~500 mL/100g的範圍，而製成撥水性及吸油性優異的化妝料用氮化硼粉末，進而藉由使用該化妝料用氮化硼粉末，而獲得不僅修飾的光澤感或透明感(裸妝感)得到大幅度改善、而且「持久性」亦得到大幅度改善的化妝料。
简体摘要：于包含形成为扁平形状的BN的一次粒子及该一次粒子的凝聚体的氮化硼粉末中，借由使水的渗透速度小于1 mm2/s，并且将吸油量设为100 mL/100g~500 mL/100g的范围，而制成拨水性及吸油性优异的化妆料用氮化硼粉末，进而借由使用该化妆料用氮化硼粉末，而获得不仅修饰的光泽感或透明感(裸妆感)得到大幅度改善、而且“持久性”亦得到大幅度改善的化妆料。

6. 发明专利

TWI376352B 具有特定孔徑分佈之沉澱矽石 PRECIPITATED SILICAS WITH PARTICULAR PORE SIZE DISTRIBUTION 有权
简体标题：具有特定孔径分布之沉淀硅石 PRECIPITATED SILICAS WITH PARTICULAR PORE SIZE DISTRIBUTION
公开(公告)号：TWI376352B
公开(公告)日：2012-11-11
申请号：TW095132769
申请日：2006-09-05
申请人：贏創德固賽有限責任公司
发明人：歐格史坦利爾 , 翰斯德雷夫盧金斯蘭 , 史蒂芬優蘭特 , 安德魯魏米爾
IPC分类号： C01B , C08K , C08L , B60C
CPC分类号： C01B33/193 , B60C1/00 , B60C1/0016 , C01P2006/12 , C01P2006/17 , C01P2006/19 , C08K3/36 , C08L21/00
摘要：本發明有關具有特別寬幅孔徑分佈之微孔而孔徑小於孔隙體積分佈函數之導數的最大值的沉澱矽石、有關其製造方法及其作為橡膠混合物之填料的用途。
简体摘要：本发明有关具有特别宽幅孔径分布之微孔而孔径小于孔隙体积分布函数之导数的最大值的沉淀硅石、有关其制造方法及其作为橡胶混合物之填料的用途。

7. 发明专利

TWI354649B 製造氫或合成氣之方法及碳黑 METHOD TO PRODUCE HYDROGEN OR SYNTHESIS GAS AND CARBON BLACK 有权
简体标题：制造氢或合成气之方法及碳黑 METHOD TO PRODUCE HYDROGEN OR SYNTHESIS GAS AND CARBON BLACK
公开(公告)号：TWI354649B
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：TW095112326
申请日：2006-04-06
申请人：客寶公司
发明人：馬汀克里斯多弗葛林
IPC分类号： C01B , C09C
CPC分类号： C01B3/50 , B01D53/00 , C01B3/24 , C01B3/501 , C01B3/52 , C01B3/56 , C01B2203/0266 , C01B2203/0283 , C01B2203/04 , C01B2203/0405 , C01B2203/0415 , C01B2203/043 , C01B2203/0475 , C01B2203/048 , C01B2203/0485 , C01B2203/049 , C01B2203/1241 , C01P2006/19 , C09C1/50
摘要：本發明描述一種製造氫氣或合成氣之方法，且包括分級反應器之用途。本發明進一步係關於有效運行一種方法以便製造有效量之氫氣與經濟上有用量之碳黑。本發明進一步描述一種利用碳黑製造廠及精煉廠設備之組合設施以及藉由本發明之多種方法製得的產品。
简体摘要：本发明描述一种制造氢气或合成气之方法，且包括分级反应器之用途。本发明进一步系关于有效运行一种方法以便制造有效量之氢气与经济上有用量之碳黑。本发明进一步描述一种利用碳黑制造厂及精炼厂设备之组合设施以及借由本发明之多种方法制得的产品。

8. 发明专利

TW201114850A 表面處理碳黑粉末分散體之製造方法及表面處理碳黑粉末之製造方法 METHOD OF PRODUCING SURFACE-TREATED CARBON BLACK POWDER DISPERSION AND METHOD OF PRODUCING SURFACE-TREATED CARBON BLACK POWDER 审中-公开
简体标题：表面处理碳黑粉末分散体之制造方法及表面处理碳黑粉末之制造方法 METHOD OF PRODUCING SURFACE-TREATED CARBON BLACK POWDER DISPERSION AND METHOD OF PRODUCING SURFACE-TREATED CARBON BLACK POWDER
公开(公告)号：TW201114850A
公开(公告)日：2011-05-01
申请号：TW099123260
申请日：2010-07-15
申请人：東海碳素股份有限公司
发明人：新井啟哲 , 前田真伸
IPC分类号： C09C
CPC分类号： C09C1/58 , B82Y30/00 , C01P2004/51 , C01P2004/61 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C01P2006/19 , C09C1/50 , C09C1/565 , C09D11/324
摘要：本發明係提供一種當使用於噴墨印表機用水性黑色油墨時，可顯示優異之印字濃度、印字品質、吐出安定性、保存安定性之表面處理碳黑粉末分散體之製造方法。本發明之表面處理碳黑粉末分散體之製造方法，係以濕式法，將體積平均粒徑為100nm-20μ
简体摘要：本发明系提供一种当使用于喷墨打印机用水性黑色油墨时，可显示优异之印字浓度、印字品质、吐出安定性、保存安定性之表面处理碳黑粉末分散体之制造方法。本发明之表面处理碳黑粉末分散体之制造方法，系以湿式法，将体积平均粒径为100nm-20μ

9. 发明专利

TWI329782B 高電阻率組合物 HIGH RESISTIVITY COMPOSITIONS 有权
简体标题：高电阻率组合物 HIGH RESISTIVITY COMPOSITIONS
公开(公告)号：TWI329782B
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：TW094136187
申请日：2005-10-17
申请人：客寶公司
发明人：尤金N 史坦普 , 亞葛沙格洛凱里迪
IPC分类号： G03F
CPC分类号： B82Y30/00 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C01P2006/19 , C01P2006/40 , C08K3/04 , C08K9/04 , C09C1/56 , C09C1/565 , C09D5/00 , C09D7/41 , C09D7/62 , G03F7/0007 , Y10T428/31504
摘要：本發明係關於一種黑色矩陣，其係藉由以下形成：將一可固化塗料組合物塗佈於一基板上以形成一可固化塗層，以成影像方式固化該可固化塗層以形成一塗層，及顯影並乾燥該塗層。該可固化塗料組合物包含一媒劑、一可固化樹脂及至少一種改質顏料，該改質顏料包含一已結合至少一個具有式-X-I或-X-NI之有機基團之顏料，其中X直接結合至該顏料並代表一伸芳基或伸雜芳基、伸烷基、伸芳烷基或伸烷芳基，I代表一包含至少一個離子基團或至少一個可離子化基團之非聚合基團，且NI代表一包含至少一個非離子基團之非聚合基團。本發明亦關該可固化塗料組合物、可固化塗層及經固化之塗層。本發明亦揭示一種控制塗層電阻率之方法。
简体摘要：本发明系关于一种黑色矩阵，其系借由以下形成：将一可固化涂料组合物涂布于一基板上以形成一可固化涂层，以成影像方式固化该可固化涂层以形成一涂层，及显影并干燥该涂层。该可固化涂料组合物包含一媒剂、一可固化树脂及至少一种改质颜料，该改质颜料包含一已结合至少一个具有式-X-I或-X-NI之有机基团之颜料，其中X直接结合至该颜料并代表一伸芳基或伸杂芳基、伸烷基、伸芳烷基或伸烷芳基，I代表一包含至少一个离子基团或至少一个可离子化基团之非聚合基团，且NI代表一包含至少一个非离子基团之非聚合基团。本发明亦关该可固化涂料组合物、可固化涂层及经固化之涂层。本发明亦揭示一种控制涂层电阻率之方法。

10. 发明专利

TW200938596A 用於後處理碳黑的方法 PROCESS FOR AFTERTREATING CARBON BLACK 审中-公开
简体标题：用于后处理碳黑的方法 PROCESS FOR AFTERTREATING CARBON BLACK
公开(公告)号：TW200938596A
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：TW097147836
申请日：2008-12-09
申请人：贏創德固賽有限責任公司 EVONIK DEGUSSA GMBH
发明人：史坦格法蘭克 STENGER, FRANK , 柏吉曼克勞斯 BERGEMANN, KLAUS , 奈吉爾曼菲德 NAGEL, MANFRED
IPC分类号： C09C
CPC分类号： C09C1/56 , B01J8/1827 , C01P2006/10 , C01P2006/11 , C01P2006/12 , C01P2006/19 , C09C1/565
摘要：本發明係關於一種用於後處理碳黑之方法,其中在流化床裝置中,碳黑於裝置下方區域受制於載劑氣體流動,另外之氣體流被導入流化床裝置,且碳黑在上升之流化床中被後處理。
简体摘要：本发明系关于一种用于后处理碳黑之方法,其中在流化床设备中,碳黑于设备下方区域受制于载剂气体流动,另外之气体流被导入流化床设备,且碳黑在上升之流化床中被后处理。

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