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    • 1. 发明专利
    • 通式 類化合物之製備方法
    • 通式 类化合物之制备方法
    • TW318842B
    • 1997-11-01
    • TW085108874
    • 1996-05-17
    • 捷利康公司
    • 大衛.威廉.龍特大衛.菲利普.約翰.比爾森安東尼.瑪瑞安.康柵戚維里查.普樂.摩兒洛塞.馬汀.艾里斯珍林.密契爾約翰.麥克.可斯
    • C07DA01N
    • C07D263/18C07D263/28
    • 本發明係有關合成通式II化合物之方法:
      $$
      II其中 R2與R3分別為氫或C1-C4烷基; A為芳香環或雜芳香環系,其可視需要經一個或多個選自下列之取代基取代:鹵素、C1-C10烴基、-S(C1-C10烴基)-SO(C1-C10烴基)、-SO2(C1-C10烴基)、氰基、硝基、 SCN、SiRC3(其中各RC分別為C1-C4烷基或苯基)、COR7、 CR7NOR8、NHOH、ONR7R8、SF5、COOR7、SO2NR7R8、OR9或 NR10R11;且其中任何環氮原子可四級化或氧化;或者,A基團之任何二個取代基可組合形成稠合之5或6員飽和或部份飽和碳環或雜環,其中任何碳或四級化氮原子可經上述A所述及之任何基團取代,或其中環碳原子可經氧化; R7與R8分別為氫或C1-C10烴基; R9為氫、C1-C10烴基、SO2(C1-C10烴基)、CHO、 CO(C1-C10烴基)、COO(C1-C10烴基)、或CONR7R8 R10與R11分別為氫C1-C10烴基、O(C1-C10烴基)、 SO2(C1-C10烴基)、CHO、CO(C1-C10烴基)、COO(C1- C10烴基)或CONR7R8; A其團中之任何烴基可視需要經下列基團取代:鹵素(即氯、溴、氟或碘)、羥基、SO2NRaRb(其中RaRb分別為氫或 C1-C6烷基)、氰基、硝基、胺基、單-與二-烷胺基,其中烷基具有1至6個或更多碳原子,醯胺基、C1-C6烷氧基、C1- C6鹵烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷亞磺醯基、C1-C6烷磺醯基、羧基、羧醯胺,其中附接N原子之基團可為氫或可視需要經鹵素取代之低碳數烴基;烷氧羰基,其中烷氧基可含有1至6個或更多碳原子,或芳基如:苯基;該方法包括使通式VII化合物環化:
      $$
      VII其中A、R2與R3如通式II之定義,R20為氫、基或經至多5個選自下列之取代基取代之基:鹵素、C1-C6烷基、O(C1- C6烷基)或硝基,R21為C1-C8烷基,基或經至多5個上述R20所述及之取代基取之基。
    • 本发明系有关合成通式II化合物之方法: $$ II其中 R2与R3分别为氢或C1-C4烷基; A为芳香环或杂芳香环系,其可视需要经一个或多个选自下列之取代基取代:卤素、C1-C10烃基、-S(C1-C10烃基)-SO(C1-C10烃基)、-SO2(C1-C10烃基)、氰基、硝基、 SCN、SiRC3(其中各RC分别为C1-C4烷基或苯基)、COR7、 CR7NOR8、NHOH、ONR7R8、SF5、COOR7、SO2NR7R8、OR9或 NR10R11;且其中任何环氮原子可四级化或氧化;或者,A基团之任何二个取代基可组合形成稠合之5或6员饱和或部份饱和碳环或杂环,其中任何碳或四级化氮原子可经上述A所述及之任何基团取代,或其中环碳原子可经氧化; R7与R8分别为氢或C1-C10烃基; R9为氢、C1-C10烃基、SO2(C1-C10烃基)、CHO、 CO(C1-C10烃基)、COO(C1-C10烃基)、或CONR7R8 R10与R11分别为氢C1-C10烃基、O(C1-C10烃基)、 SO2(C1-C10烃基)、CHO、CO(C1-C10烃基)、COO(C1- C10烃基)或CONR7R8; A其团中之任何烃基可视需要经下列基团取代:卤素(即氯、溴、氟或碘)、羟基、SO2NRaRb(其中RaRb分别为氢或 C1-C6烷基)、氰基、硝基、胺基、单-与二-烷胺基,其中烷基具有1至6个或更多碳原子,酰胺基、C1-C6烷氧基、C1- C6卤烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷亚磺酰基、C1-C6烷磺酰基、羧基、羧酰胺,其中附接N原子之基团可为氢或可视需要经卤素取代之低碳数烃基;烷氧羰基,其中烷氧基可含有1至6个或更多碳原子,或芳基如:苯基;该方法包括使通式VII化合物环化: $$ VII其中A、R2与R3如通式II之定义,R20为氢、基或经至多5个选自下列之取代基取代之基:卤素、C1-C6烷基、O(C1- C6烷基)或硝基,R21为C1-C8烷基,基或经至多5个上述R20所述及之取代基取之基。
    • 5. 发明专利
    • 羰基取代含氮雜環衍生物,其製法及其除草組合物
    • 羰基取代含氮杂环衍生物,其制法及其除草组合物
    • TW252106B
    • 1995-07-21
    • TW082110296
    • 1993-12-06
    • 捷利康公司
    • 大維.鍾.克林伊凡.崔佛.凱波旦.克瓦西克格林.米西爾鍾.艾德華.當肯.巴頓鍾.馬丁.西理柏鍾.麥可.寇斯
    • C07D
    • C07D207/273A01N47/18A01N47/24C07D211/76C07D231/08C07D233/38C07D233/40C07D237/04C07D239/10C07D241/08C07D261/04C07D263/18C07D265/02C07D265/32C07D277/14C07D279/12C07D285/16
    • 本發明係關於式Ⅰ化合物:一種式(Ⅰ)之化合物:
      CC (Ⅰ)其中
      CC係下式之環
      CC ,CC 或 CC
      其中Z1表氫;Z2表氫,C1-8烷基,鹵素C1-8烷氧基, NHOH,SF5,C1-6鹵烷基,硝基,氰基,胺基C1-6鹵烷氧基,SR,N(SO2R)2COOR,NHCOR,SO2R,SO2CF3,COR,(PHCH2)NSO2或COCH2CH=CH2,其中R為C1-4烷基; Z3表氫,鹵素或C1-4烷基;Z4表氫,鹵素,C1-4烷基, C1-4鹵烷基或C1-4烷氧基;Z5表氫;鹵素,C1-4烷基, C1-4鹵烷基或C1-4烷氧基;E為氧或硫;R1為C1-8烷基,苯基,__基或C3-6環烷基,上述各基任意地經由C1-3烷,C1-6鹵烷基,C1-6烷氧烷基,苯甲基,二苯甲基, C2-8烯基,C2-6炔基或鹵素取代啶基所取代;R2為氫或 C1-4烷基;或
      R3為氫,R4及R4為氫及R5及R5為氫;或
      下式之基
      CC
      為下式之環
      CC
      Z2表氫,C1-4鹵烷基;Z5為氫或鹵素;R1為C1-8烷基,C2-8烯基或C2-6炔基;E為氧及其他取代基為氫。
      本發明亦關該化合物之製法,其除草組合物及其利用方法。
    • 本发明系关于式Ⅰ化合物:一种式(Ⅰ)之化合物: CC (Ⅰ)其中 CC系下式之环 CC ,CC 或 CC 其中Z1表氢;Z2表氢,C1-8烷基,卤素C1-8烷氧基, NHOH,SF5,C1-6卤烷基,硝基,氰基,胺基C1-6卤烷氧基,SR,N(SO2R)2COOR,NHCOR,SO2R,SO2CF3,COR,(PHCH2)NSO2或COCH2CH=CH2,其中R为C1-4烷基; Z3表氢,卤素或C1-4烷基;Z4表氢,卤素,C1-4烷基, C1-4卤烷基或C1-4烷氧基;Z5表氢;卤素,C1-4烷基, C1-4卤烷基或C1-4烷氧基;E为氧或硫;R1为C1-8烷基,苯基,__基或C3-6环烷基,上述各基任意地经由C1-3烷,C1-6卤烷基,C1-6烷氧烷基,苯甲基,二苯甲基, C2-8烯基,C2-6炔基或卤素取代啶基所取代;R2为氢或 C1-4烷基;或 R3为氢,R4及R4为氢及R5及R5为氢;或 下式之基 CC 为下式之环 CC Z2表氢,C1-4卤烷基;Z5为氢或卤素;R1为C1-8烷基,C2-8烯基或C2-6炔基;E为氧及其他取代基为氢。 本发明亦关该化合物之制法,其除草组合物及其利用方法。