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1. 发明专利

TW252106B 羰基取代含氮雜環衍生物,其製法及其除草組合物失效
简体标题：羰基取代含氮杂环衍生物,其制法及其除草组合物
公开(公告)号：TW252106B
公开(公告)日：1995-07-21
申请号：TW082110296
申请日：1993-12-06
申请人：捷利康公司
发明人：大維.鍾.克林 , 伊凡.崔佛.凱 , 波旦.克瓦西克 , 格林.米西爾 , 鍾.艾德華.當肯.巴頓 , 鍾.馬丁.西理柏 , 鍾.麥可.寇斯
IPC分类号： C07D
CPC分类号： C07D207/273 , A01N47/18 , A01N47/24 , C07D211/76 , C07D231/08 , C07D233/38 , C07D233/40 , C07D237/04 , C07D239/10 , C07D241/08 , C07D261/04 , C07D263/18 , C07D265/02 , C07D265/32 , C07D277/14 , C07D279/12 , C07D285/16
摘要：本發明係關於式Ⅰ化合物：一種式(Ⅰ)之化合物：
CC (Ⅰ)其中
CC係下式之環
CC ,CC 或 CC
其中Z1表氫；Z2表氫，C1-8烷基，鹵素C1-8烷氧基， NHOH，SF5，C1-6鹵烷基，硝基，氰基，胺基C1-6鹵烷氧基，SR，N(SO2R)2COOR，NHCOR，SO2R，SO2CF3，COR，(PHCH2)NSO2或COCH2CH=CH2，其中R為C1-4烷基； Z3表氫，鹵素或C1-4烷基；Z4表氫，鹵素，C1-4烷基， C1-4鹵烷基或C1-4烷氧基；Z5表氫；鹵素，C1-4烷基， C1-4鹵烷基或C1-4烷氧基；E為氧或硫；R1為C1-8烷基，苯基，__基或C3-6環烷基，上述各基任意地經由C1-3烷，C1-6鹵烷基，C1-6烷氧烷基，苯甲基，二苯甲基， C2-8烯基，C2-6炔基或鹵素取代啶基所取代；R2為氫或 C1-4烷基；或
R3為氫，R4及R4為氫及R5及R5為氫；或
下式之基
CC
為下式之環
CC
Z2表氫，C1-4鹵烷基；Z5為氫或鹵素；R1為C1-8烷基，C2-8烯基或C2-6炔基；E為氧及其他取代基為氫。
本發明亦關該化合物之製法，其除草組合物及其利用方法。
简体摘要：本发明系关于式Ⅰ化合物：一种式(Ⅰ)之化合物： CC (Ⅰ)其中 CC系下式之环 CC ,CC 或 CC 其中Z1表氢；Z2表氢，C1-8烷基，卤素C1-8烷氧基， NHOH，SF5，C1-6卤烷基，硝基，氰基，胺基C1-6卤烷氧基，SR，N(SO2R)2COOR，NHCOR，SO2R，SO2CF3，COR，(PHCH2)NSO2或COCH2CH=CH2，其中R为C1-4烷基； Z3表氢，卤素或C1-4烷基；Z4表氢，卤素，C1-4烷基， C1-4卤烷基或C1-4烷氧基；Z5表氢；卤素，C1-4烷基， C1-4卤烷基或C1-4烷氧基；E为氧或硫；R1为C1-8烷基，苯基，__基或C3-6环烷基，上述各基任意地经由C1-3烷，C1-6卤烷基，C1-6烷氧烷基，苯甲基，二苯甲基， C2-8烯基，C2-6炔基或卤素取代啶基所取代；R2为氢或 C1-4烷基；或 R3为氢，R4及R4为氢及R5及R5为氢；或下式之基 CC 为下式之环 CC Z2表氢，C1-4卤烷基；Z5为氢或卤素；R1为C1-8烷基，C2-8烯基或C2-6炔基；E为氧及其他取代基为氢。本发明亦关该化合物之制法，其除草组合物及其利用方法。

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