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    • 1. 发明专利
    • 製備咯烷酮化合物除草劑及其中間產物之方法
    • 制备咯烷酮化合物除草剂及其中间产物之方法
    • TW400325B
    • 2000-08-01
    • TW085105811
    • 1996-05-16
    • 捷利康公司
    • 艾安.里查.瑪蘇繆約翰.麥克.可斯凱文.詹姆士.傑蘭洛塞.馬汀.艾里斯雪音.哈頓.摩拉史帝芬.克里斯多福.史密斯
    • C07D
    • C07D207/273
    • 本發明係關於通式II化合物之製備:CC Ⅱ其中, Rl是氫或Cl-Cl0烴基或具3至8個環原子的雜環基團,其中的每一者都可視情況所須地被鹵素(即,氯、溴、氟或碘)、羥基、SO2NR^aR^b(其中,R^a和R^b分別是H或Cl-C6烷基)、SiR^c3(其中,R^c是Cl-C4烷基或苯基)、氫基、硝基、胺基、一-和二烷基胺基(其中的烷基具l或6或更多個碳原子)、醯胺基、Cl-C6烷氧基、Cl-C6鹵烷氧基、Cl-C6烷基硫代、Cl-G6烷基亞硫醯基、Cl-C6洗基磺醯基、羧塞、羧醯胺基(與基團中的N原子相接者可能是氫或視情況所須之經取代的低碳烴類)、其烷氧基具l至6或更多個碳原子的烷氧羰基或芳基(如:苯基)所取代; R2、R3、R4和R5分別是氫或Cl-C4烷基; A是芳族或雜芳族環系統,它可視情況所須地被一或多種取代基所取代,其取代基選自:鹵素或Cl-Cl0烴基、-O(Cl- Cl0烴基)、-S(Cl-Cl0烴基)、-SO(Cl-Cl0烴基)或 S02(Cl-Cl0烴基)、氰基、硝基、SCN、SiR^c3(其中的每個R^c分別是Cl-C4烷基或苯基)、COR7、CR7NOR8、 NHOH、ONR7R8、SF5、COOR7、S02NR7R8、OR9或 NRl0Rll;且其中的環氮原子可以被四級化或氧化;或者,基團A的任兩個取代基可併成稠合的5-或6-員、飽和或部分飽和碳環或雜環,其中,任何碳或四級氮原子可以被前面所提到之用於A的任何基團所取代,或者,環碳原子可被氧化; R7和R8分別是氫或Cl-Cl0烴基; R9是氫、Cl-Cl0烴基、S02(Cl-Cl0烴基)、CHO、 CO(Cl-Cl烴基)、COO(Cl-Cl0烴基)或CONR7R8; Rl0和Rll分別是氫、C1-Cl0烴基、O(Cl-Cl0烴基)、 S02(Cl,Cl0烴基)、CHO、CO(Cl-Cl0烴基)、COO(Cl- Cl0烴基)或CONR7R8;基團A中所提到的烴基可視情況所須地被鹵素(即,氯、溴、氟或碘)、羥基、S02NR^aR^b(其中,R^a和R^b分別是H或 Cl-C6烷基)、氰基、硝基、胺基、一-和二烷基胺基(其中的基具l至6或更多個碳原子)、醯胺基、Cl-C6烷氧基、Cl- C6鹵烷氧基、Cl-C6烷基硫代、Cl-C6烷基亞硫醯基、C1- C6烷基磺醯基、羧基、羧醯胺基(與基團中的N原子相接者可能是氫或視情況所須之經取代的低碳烴類)、其烷氧基具 l至6或更多個碳原子的烷氧羰基或芳基(如:苯基)所取代; R21是氫、鹵素、OH或OCONHRl,其中,Rl如前面所定義者;此方法包含於鹼性條件下,將通式III的化合物加以環化:CC Ⅲ其中,A、R2、R3、R4、R5和R21如通式II中所定義者, R25是離去基,如:鹵素原子。
      相關之英國專利申請案第9510744.7號係於1995年5月26日提出申請。
    • 本发明系关于通式II化合物之制备:CC Ⅱ其中, Rl是氢或Cl-Cl0烃基或具3至8个环原子的杂环基团,其中的每一者都可视情况所须地被卤素(即,氯、溴、氟或碘)、羟基、SO2NR^aR^b(其中,R^a和R^b分别是H或Cl-C6烷基)、SiR^c3(其中,R^c是Cl-C4烷基或苯基)、氢基、硝基、胺基、一-和二烷基胺基(其中的烷基具l或6或更多个碳原子)、酰胺基、Cl-C6烷氧基、Cl-C6卤烷氧基、Cl-C6烷基硫代、Cl-G6烷基亚硫酰基、Cl-C6洗基磺酰基、羧塞、羧酰胺基(与基团中的N原子相接者可能是氢或视情况所须之经取代的低碳烃类)、其烷氧基具l至6或更多个碳原子的烷氧羰基或芳基(如:苯基)所取代; R2、R3、R4和R5分别是氢或Cl-C4烷基; A是芳族或杂芳族环系统,它可视情况所须地被一或多种取代基所取代,其取代基选自:卤素或Cl-Cl0烃基、-O(Cl- Cl0烃基)、-S(Cl-Cl0烃基)、-SO(Cl-Cl0烃基)或 S02(Cl-Cl0烃基)、氰基、硝基、SCN、SiR^c3(其中的每个R^c分别是Cl-C4烷基或苯基)、COR7、CR7NOR8、 NHOH、ONR7R8、SF5、COOR7、S02NR7R8、OR9或 NRl0Rll;且其中的环氮原子可以被四级化或氧化;或者,基团A的任两个取代基可并成稠合的5-或6-员、饱和或部分饱和碳环或杂环,其中,任何碳或四级氮原子可以被前面所提到之用于A的任何基团所取代,或者,环碳原子可被氧化; R7和R8分别是氢或Cl-Cl0烃基; R9是氢、Cl-Cl0烃基、S02(Cl-Cl0烃基)、CHO、 CO(Cl-Cl烃基)、COO(Cl-Cl0烃基)或CONR7R8; Rl0和Rll分别是氢、C1-Cl0烃基、O(Cl-Cl0烃基)、 S02(Cl,Cl0烃基)、CHO、CO(Cl-Cl0烃基)、COO(Cl- Cl0烃基)或CONR7R8;基团A中所提到的烃基可视情况所须地被卤素(即,氯、溴、氟或碘)、羟基、S02NR^aR^b(其中,R^a和R^b分别是H或 Cl-C6烷基)、氰基、硝基、胺基、一-和二烷基胺基(其中的基具l至6或更多个碳原子)、酰胺基、Cl-C6烷氧基、Cl- C6卤烷氧基、Cl-C6烷基硫代、Cl-C6烷基亚硫酰基、C1- C6烷基磺酰基、羧基、羧酰胺基(与基团中的N原子相接者可能是氢或视情况所须之经取代的低碳烃类)、其烷氧基具 l至6或更多个碳原子的烷氧羰基或芳基(如:苯基)所取代; R21是氢、卤素、OH或OCONHRl,其中,Rl如前面所定义者;此方法包含于碱性条件下,将通式III的化合物加以环化:CC Ⅲ其中,A、R2、R3、R4、R5和R21如通式II中所定义者, R25是离去基,如:卤素原子。 相关之英国专利申请案第9510744.7号系于1995年5月26日提出申请。
    • 2. 发明专利
    • 通式 類化合物之製備方法
    • 通式 类化合物之制备方法
    • TW318842B
    • 1997-11-01
    • TW085108874
    • 1996-05-17
    • 捷利康公司
    • 大衛.威廉.龍特大衛.菲利普.約翰.比爾森安東尼.瑪瑞安.康柵戚維里查.普樂.摩兒洛塞.馬汀.艾里斯珍林.密契爾約翰.麥克.可斯
    • C07DA01N
    • C07D263/18C07D263/28
    • 本發明係有關合成通式II化合物之方法:
      $$
      II其中 R2與R3分別為氫或C1-C4烷基; A為芳香環或雜芳香環系,其可視需要經一個或多個選自下列之取代基取代:鹵素、C1-C10烴基、-S(C1-C10烴基)-SO(C1-C10烴基)、-SO2(C1-C10烴基)、氰基、硝基、 SCN、SiRC3(其中各RC分別為C1-C4烷基或苯基)、COR7、 CR7NOR8、NHOH、ONR7R8、SF5、COOR7、SO2NR7R8、OR9或 NR10R11;且其中任何環氮原子可四級化或氧化;或者,A基團之任何二個取代基可組合形成稠合之5或6員飽和或部份飽和碳環或雜環,其中任何碳或四級化氮原子可經上述A所述及之任何基團取代,或其中環碳原子可經氧化; R7與R8分別為氫或C1-C10烴基; R9為氫、C1-C10烴基、SO2(C1-C10烴基)、CHO、 CO(C1-C10烴基)、COO(C1-C10烴基)、或CONR7R8 R10與R11分別為氫C1-C10烴基、O(C1-C10烴基)、 SO2(C1-C10烴基)、CHO、CO(C1-C10烴基)、COO(C1- C10烴基)或CONR7R8; A其團中之任何烴基可視需要經下列基團取代:鹵素(即氯、溴、氟或碘)、羥基、SO2NRaRb(其中RaRb分別為氫或 C1-C6烷基)、氰基、硝基、胺基、單-與二-烷胺基,其中烷基具有1至6個或更多碳原子,醯胺基、C1-C6烷氧基、C1- C6鹵烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷亞磺醯基、C1-C6烷磺醯基、羧基、羧醯胺,其中附接N原子之基團可為氫或可視需要經鹵素取代之低碳數烴基;烷氧羰基,其中烷氧基可含有1至6個或更多碳原子,或芳基如:苯基;該方法包括使通式VII化合物環化:
      $$
      VII其中A、R2與R3如通式II之定義,R20為氫、基或經至多5個選自下列之取代基取代之基:鹵素、C1-C6烷基、O(C1- C6烷基)或硝基,R21為C1-C8烷基,基或經至多5個上述R20所述及之取代基取之基。
    • 本发明系有关合成通式II化合物之方法: $$ II其中 R2与R3分别为氢或C1-C4烷基; A为芳香环或杂芳香环系,其可视需要经一个或多个选自下列之取代基取代:卤素、C1-C10烃基、-S(C1-C10烃基)-SO(C1-C10烃基)、-SO2(C1-C10烃基)、氰基、硝基、 SCN、SiRC3(其中各RC分别为C1-C4烷基或苯基)、COR7、 CR7NOR8、NHOH、ONR7R8、SF5、COOR7、SO2NR7R8、OR9或 NR10R11;且其中任何环氮原子可四级化或氧化;或者,A基团之任何二个取代基可组合形成稠合之5或6员饱和或部份饱和碳环或杂环,其中任何碳或四级化氮原子可经上述A所述及之任何基团取代,或其中环碳原子可经氧化; R7与R8分别为氢或C1-C10烃基; R9为氢、C1-C10烃基、SO2(C1-C10烃基)、CHO、 CO(C1-C10烃基)、COO(C1-C10烃基)、或CONR7R8 R10与R11分别为氢C1-C10烃基、O(C1-C10烃基)、 SO2(C1-C10烃基)、CHO、CO(C1-C10烃基)、COO(C1- C10烃基)或CONR7R8; A其团中之任何烃基可视需要经下列基团取代:卤素(即氯、溴、氟或碘)、羟基、SO2NRaRb(其中RaRb分别为氢或 C1-C6烷基)、氰基、硝基、胺基、单-与二-烷胺基,其中烷基具有1至6个或更多碳原子,酰胺基、C1-C6烷氧基、C1- C6卤烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C6烷亚磺酰基、C1-C6烷磺酰基、羧基、羧酰胺,其中附接N原子之基团可为氢或可视需要经卤素取代之低碳数烃基;烷氧羰基,其中烷氧基可含有1至6个或更多碳原子,或芳基如:苯基;该方法包括使通式VII化合物环化: $$ VII其中A、R2与R3如通式II之定义,R20为氢、基或经至多5个选自下列之取代基取代之基:卤素、C1-C6烷基、O(C1- C6烷基)或硝基,R21为C1-C8烷基,基或经至多5个上述R20所述及之取代基取之基。