专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201812447A 光阻材料及圖案形成方法审中-公开
简体标题：光阻材料及图案形成方法
公开(公告)号：TW201812447A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106118452
申请日：2017-06-05
申请人：信越化學工業股份有限公司 , SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：畠山潤 , HATAKEYAMA, JUN , 大橋正樹 , OHASHI, MASAKI
IPC分类号： G03F7/004 , C07C381/12
CPC分类号： G03F7/0382 , C07C57/58 , C07C63/70 , C07C65/03 , C07C65/05 , C07C233/54 , C07C271/28 , C07C309/65 , C07C309/66 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C07C2601/18 , C07C2602/28 , C07C2603/68 , C07C2603/74 , C07D279/20 , C07D327/08 , C07D333/76 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/0392 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/2006 , G03F7/2037 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/38
摘要：本發明提供一種光阻材料，於正型光阻材料、負型光阻材料皆係高感度且LWR小，並提供使用此光阻材料之圖案形成方法。該光阻材料包含基礎聚合物及下式(A)表示之鋶鹽；
简体摘要：本发明提供一种光阻材料，于正型光阻材料、负型光阻材料皆系高感度且LWR小，并提供使用此光阻材料之图案形成方法。该光阻材料包含基础聚合物及下式(A)表示之锍盐；

2. 发明专利

TWI602801B 含氟胺基酸之前驅藥有权
简体标题：含氟氨基酸之前驱药
公开(公告)号：TWI602801B
公开(公告)日：2017-10-21
申请号：TW102119430
申请日：2013-05-31
申请人：大正製藥股份有限公司 , TAISHO PHARMACEUTICAL CO., LTD.
发明人：端早田 , HASHIHAYATA, TAKASHI , 大嶽憲一 , OTAKE, NORIKAZU , 宮腰直樹 , MIYAKOSHI, NAOKI , 坂上一成 , SAKAGAMI, KAZUNARI
IPC分类号： C07C229/50 , C07D307/89 , C07D317/40 , C07K5/072 , C07K5/093 , A61K31/215 , A61K31/343 , A61K31/357 , A61K38/05 , A61K38/06 , A61K31/196 , A61P25/00
CPC分类号： C07D317/50 , A61K31/265 , A61K31/357 , C07C229/50 , C07C237/04 , C07C237/20 , C07C271/24 , C07C323/60 , C07C2601/14 , C07C2601/18 , C07C2602/18 , C07C2603/74 , C07D207/08 , C07D307/88 , C07D317/40

3. 发明专利

TW201546541A 光阻組成物、光阻圖型之形成方法、化合物及高分子化合物审中-公开
简体标题：光阻组成物、光阻图型之形成方法、化合物及高分子化合物
公开(公告)号：TW201546541A
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：TW104101323
申请日：2015-01-15
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：長峰高志 , NAGAMINE, TAKASHI , 土屋純一 , TSUCHIYA, JUNICHI , 新井雅俊 , ARAI, MASATOSHI , 小室嘉崇 , KOMURO, YOSHITAKA
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027 , C07C69/73 , C08F220/26
CPC分类号： G03F7/038 , C07C69/40 , C07C2601/06 , C07C2601/14 , C07C2601/18 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C08F220/28 , C08F220/38 , C08F2220/382 , C08F2220/387 , G03F7/0397 , C08F2220/283 , C08F2220/282
摘要：一種具有通式(a0-1)所表示之結構單位之高分子化合物，及含其之光阻組成物。式(a0-1)中，R為氫原子、碳數1~5之烷基或碳數1~5之鹵化烷基。Va01及Va02，各自獨立為碳數為2~10之烴基。Va01-La0-為，Va01-C(=O)O-或Va01-OC(=O)-。Ra0為，酸解離性基之碳數8以上之支鏈狀烴基、酸解離性基之碳數4以上之單環式之烴基，或，酸解離性基之多環式之烴基(但，甲基金剛烷基除外)。
简体摘要：一种具有通式(a0-1)所表示之结构单位之高分子化合物，及含其之光阻组成物。式(a0-1)中，R为氢原子、碳数1~5之烷基或碳数1~5之卤化烷基。Va01及Va02，各自独立为碳数为2~10之烃基。Va01-La0-为，Va01-C(=O)O-或Va01-OC(=O)-。Ra0为，酸解离性基之碳数8以上之支链状烃基、酸解离性基之碳数4以上之单环式之烃基，或，酸解离性基之多环式之烃基(但，甲基金刚烷基除外)。

4. 发明专利

TW201341366A Ｎ－環烷基－Ｎ－［（環烯基苯基）亞甲基］－硫代甲醯胺衍生物审中-公开
简体标题：Ｎ－环烷基－Ｎ－［（环烯基苯基）亚甲基］－硫代甲酰胺衍生物
公开(公告)号：TW201341366A
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：TW102110766
申请日：2013-03-26
申请人：拜耳知識產權公司 , BAYER INTELLECTUAL PROPERTY GMBH
发明人：班庭尤根 , BENTING, JURGEN , 克里斯陶皮爾 , CRISTAU, PIERRE , 德斯伯斯菲利浦 , DESBORDES, PHILIPPE , 杜博斯特克里斯多夫 , DUBOST, CHRISTOPHE , 耶思沙耶德馬禪 , ES-SAYED, MAZEN , 蓋瑞史帝芬尼 , GARY, STEPHANIE , 拉恰希海倫 , LACHAISE, HELENE , 瑞諾斐菲力浦 , RINOLFI, PHILIPPE , 舒米特詹彼德 , SCHMIDT, JAN-PETER , 土屋知己 , TSUCHIYA, TOMOKI , 佛斯珍皮爾 , VORS, JEAN-PIERRE , 瓦屈道夫紐曼奧瑞克 , WACHENDORFF-NEUMANN, ULRIKE
IPC分类号： C07D231/14 , C07D231/16 , C07D333/38 , A01N43/10 , A01N43/56 , A01P3/00
CPC分类号： C07C211/40 , A01N33/08 , C07C225/20 , C07C2601/04 , C07C2601/10 , C07C2601/16 , C07C2601/18 , C07D231/14
摘要：本發明係關於殺真菌N-環烷基-N-[(環烯基苯基)亞甲基]甲醯胺衍生物及其硫羰基衍生物，其製備方法，及其製備之中間體化合物，其作為殺真菌劑(尤其呈殺真菌組合物形式)之用途，及使用該等化合物或其組合物控制植物之植物致病真菌之方法。
简体摘要：本发明系关于杀真菌N-环烷基-N-[(环烯基苯基)亚甲基]甲酰胺衍生物及其硫羰基衍生物，其制备方法，及其制备之中间体化合物，其作为杀真菌剂(尤其呈杀真菌组合物形式)之用途，及使用该等化合物或其组合物控制植物之植物致病真菌之方法。

5. 发明专利

TW201236564A α，β－不飽和亞胺類 ALPHA, BETA-UNSATURATED IMINES 审中-公开
简体标题： α，β－不饱和亚胺类 ALPHA, BETA-UNSATURATED IMINES
公开(公告)号：TW201236564A
公开(公告)日：2012-09-16
申请号：TW100143465
申请日：2011-11-28
申请人：拜耳作物科學股份有限公司
发明人：華納史提芬 , 艾賓豪斯金雪尤瑞奇 , 豪斯特曼賽巴斯汀 , 毛耶麥可 , 舒瓦茲漢斯喬格 , 維頓羅伯特 , 維斯特恩德 , 哥根斯尤瑞奇 , 特伯格安德里亞斯
IPC分类号： A01N , C07C , A01P
CPC分类号： A01N35/10 , A01N43/12 , A01N43/16 , A01N43/18 , A01N43/38 , A01N43/40 , A01N43/42 , A01N43/80 , C07C251/20 , C07C317/28 , C07C323/45 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2601/16 , C07C2601/18 , C07C2602/08 , C07C2602/10 , C07C2602/42 , C07C2603/26 , C07D211/72 , C07D211/84 , C07D215/38 , C07D261/20 , C07D307/79 , C07D311/68 , C07D333/54 , C07D335/02 , C07D335/06
摘要：本申請案係有關一種新穎之α,β-不飽和亞胺類、其製法、其於控制動物有害生物(包括節肢動物，特定言之昆蟲)上之用途，及其於控制病媒上之用途。
简体摘要：本申请案系有关一种新颖之α,β-不饱和亚胺类、其制法、其于控制动物有害生物(包括节肢动物，特定言之昆虫)上之用途，及其于控制病媒上之用途。

6. 发明专利

TW201120576A 光阻組合物 PHOTORESIST COMPOSITION 审中-公开
简体标题：光阻组合物 PHOTORESIST COMPOSITION
公开(公告)号：TW201120576A
公开(公告)日：2011-06-16
申请号：TW099134738
申请日：2010-10-12
申请人：住友化學股份有限公司
发明人：增山達郎 , 平岡崇志
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： C07C211/63 , C07C211/64 , C07C215/40 , C07C215/66 , C07C215/90 , C07C217/52 , C07C217/58 , C07C225/16 , C07C229/14 , C07C229/38 , C07C255/58 , C07C309/10 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C311/16 , C07C2601/04 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2601/18 , C07C2602/02 , C07C2602/20 , C07C2602/24 , C07C2602/28 , C07C2602/42 , C07C2602/44 , C07C2603/18 , C07C2603/24 , C07C2603/66 , C07C2603/68 , C07C2603/74 , C07C2603/90 , C07D307/00 , C07D307/32 , C07D307/33 , C07D309/30 , C07D313/04 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：本發明提供一種光阻組合物，其包含能夠藉由照射產生酸及鹼之化合物、具酸不穩定基團且不可溶於或難溶於鹼性水溶液但在酸作用下可溶於鹼性水溶液之樹脂、及酸產生劑。
简体摘要：本发明提供一种光阻组合物，其包含能够借由照射产生酸及碱之化合物、具酸不稳定基团且不可溶于或难溶于碱性水溶液但在酸作用下可溶于碱性水溶液之树脂、及酸产生剂。

7. 发明专利

TW201105621A 鹽及含有該鹽之光阻組成物 SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME 审中-公开
简体标题：盐及含有该盐之光阻组成物 SALT AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
公开(公告)号：TW201105621A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：TW099116604
申请日：2010-05-25
申请人：住友化學股份有限公司
发明人：杉原昌子 , 增山達郎
IPC分类号： C07C , C07D , G03F , H01L
CPC分类号： C07C381/12 , C07C309/17 , C07C2601/04 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2601/18 , C07C2602/08 , C07C2602/10 , C07C2602/42 , C07C2602/44 , C07C2603/68 , C07C2603/74 , C07C2603/86 , C07D307/77 , C07D307/93 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
摘要：一種式(I-CC)所示之鹽:

式中Q1及Q2各自獨立表示氟原子等,X1表示單鍵等,Y1表示C1-C36脂族烴基等,A1及A2各自獨立表示C1-C20脂族烴基等,Ar1表示可具有一個或多個取代基之(m4+1)-價C6-C20芳族烴基,B1表示單鍵等,B2表示能夠藉由酸的作用消除之基團,m1及m2各自獨立表示0至2之整數,m3表示1至3之整數,其限制條件為m1加m2加m3等於3,及m4表示1至3之整數,以及一種光阻組成物,包括式(I-CC)所示之鹽和樹脂,該樹脂包括具酸不穩定基之結構單元且該樹脂不溶或難溶於鹼性水溶液但藉由酸的作用變成可溶於鹼性水溶液。
简体摘要：一种式(I-CC)所示之盐: 式中Q1及Q2各自独立表示氟原子等,X1表示单键等,Y1表示C1-C36脂族烃基等,A1及A2各自独立表示C1-C20脂族烃基等,Ar1表示可具有一个或多个取代基之(m4+1)-价C6-C20芳族烃基,B1表示单键等,B2表示能够借由酸的作用消除之基团,m1及m2各自独立表示0至2之整数,m3表示1至3之整数,其限制条件为m1加m2加m3等于3,及m4表示1至3之整数,以及一种光阻组成物,包括式(I-CC)所示之盐和树脂,该树脂包括具酸不稳定基之结构单元且该树脂不溶或难溶于碱性水溶液但借由酸的作用变成可溶于碱性水溶液。

8. 发明专利

TW200946499A 含有脂環構造之化合物、（甲基）丙烯酸酯類及其製造方法审中-公开
简体标题：含有脂环构造之化合物、（甲基）丙烯酸酯类及其制造方法
公开(公告)号：TW200946499A
公开(公告)日：2009-11-16
申请号：TW098105586
申请日：2009-02-20
申请人：出光興產股份有限公司
发明人：田中慎司 , 福島主也 , 伊藤克樹 , 河野直彌 , 山根秀樹
IPC分类号： C07C , C08F
CPC分类号： G03F7/0397 , C07C67/08 , C07C67/14 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2601/18 , C07C2602/28 , C07C2602/42 , C07C2603/68 , C07C2603/74 , C07C2603/86 , G03F7/0046 , C07C69/73
摘要：本發明藉由包含具有酯鍵之連結基及/或具有醚鍵之連結基的含有脂環構造之化合物、由該含有脂環構造之化合物所衍生之(甲基)丙烯酸酯類及其製造方法，而提供一種作為用於製造半導體裝置之光阻用單體等係有用且於溶解性、相容性、減少缺陷、改善粗糙度等方面為優異之含有脂環構造之化合物、(甲基)丙烯酸酯類及其製造方法。
简体摘要：本发明借由包含具有酯键之链接基及/或具有醚键之链接基的含有脂环构造之化合物、由该含有脂环构造之化合物所衍生之(甲基)丙烯酸酯类及其制造方法，而提供一种作为用于制造半导体设备之光阻用单体等系有用且于溶解性、兼容性、减少缺陷、改善粗糙度等方面为优异之含有脂环构造之化合物、(甲基)丙烯酸酯类及其制造方法。

9. 发明专利

TW200930369A 治療用的雙-(磺醯胺基)衍生物 BIS-(SULFONYLAMINO) DERIVATIVES IN THERAPY 审中-公开
简体标题：治疗用的双-(磺酰胺基)衍生物 BIS-(SULFONYLAMINO) DERIVATIVES IN THERAPY
公开(公告)号：TW200930369A
公开(公告)日：2009-07-16
申请号：TW097143981
申请日：2008-11-13
申请人：阿斯特捷利康公司 ASTRAZENECA AB
发明人：喬翰畢倫德 BYLUND, JOHAN , 瑪利亞E 艾克 EK, MARIA E , 艾妮卡克斯 KERS, ANNIKA , 古納諾德維爾 NORDVALL, GUNNAR , 力斯洛特歐柏格 OHBERG, LISELOTTE , 珍妮維克倫 VIKLUND, JENNY , 史戴芬溫柏格 VON BERG, STEFAN , 喬格赫倫茲 HOLENZ, JORG , 凱傑納西 NARHI, KATJA , 丹尼爾索恩 SOHN, DANIEL , 馬丁H 喬漢森 JOHANSSON, MARTIN H
IPC分类号： A61K , C07D , C07C
CPC分类号： C07D209/08 , C07C311/51 , C07C2601/02 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2601/18 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D209/42 , C07D213/56 , C07D213/81 , C07D213/82 , C07D215/54 , C07D231/14 , C07D239/28 , C07D263/57 , C07D277/22 , C07D277/30 , C07D277/56 , C07D277/66 , C07D307/24 , C07D307/79 , C07D307/80 , C07D317/46 , C07D333/24 , C07D333/38 , C07D333/60 , C07D333/68 , C07D405/04 , C07D409/04 , C07D417/04 , C07D498/04 , C07D513/04
摘要：本發明係提供下式化合物
097143981P01.bmp
其中R^1, R^3, L^1, L^2, G^1, G^2, A及m均如本專利說明書中之定義,及其光學異構物、外消旋物及互變異構物,以及其藥學上可接受之鹽;伴隨著其製法,含有彼等之醫藥組合物,及其在治療上之用途。該化合物為微粒體前列腺素E合成-1之抑制劑。
简体摘要：本发明系提供下式化合物 097143981P01.bmp 其中R^1, R^3, L^1, L^2, G^1, G^2, A及m均如本专利说明书中之定义,及其光学异构物、外消旋物及互变异构物,以及其药学上可接受之盐;伴随着其制法,含有彼等之医药组合物,及其在治疗上之用途。该化合物为微粒体前列腺素E合成-1之抑制剂。

10. 发明专利

TW577871B 日扁柏醇之製造方法失效
简体标题：日扁柏醇之制造方法
公开(公告)号：TW577871B
公开(公告)日：2004-03-01
申请号：TW088104947
申请日：1999-03-29
申请人：旭化成股份有限公司 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
发明人：長門康浩 , 清水克也 , 山本伸一
IPC分类号： C07C
CPC分类号： C07C49/717 , C07C45/42 , C07C45/69 , C07C2601/18 , Y02P20/582 , C07C49/693
摘要：本發明係一種日扁柏醇之製造方法，係包含自環戊二烯與式R-X(R係異丙基，X係鹵素或甲苯磺醯基或烷磺醯基)所示異丙基化劑得1-異丙基環戊二烯(第一步驟)，使該1一異丙基環戊二烯與二鹵化乙烯酮反應，得烯酮加成物(第二步驟)，分解該烯酮加成物(第三步驟)所成日扁柏醇之製造方法中，其特徵為第一步驟中再含有以下三個步驟者：
(1)自環戊二烯，與至少一種金屬氫氧化物或金屬醇鹽予以調製環戊二烯基金屬之步驟(調製環戊二烯基金屬之步驟)；
(2)使該環戊二烯基金屬與異丙基化劑在混合於生成物之異丙基環戊二烯時可形成二液相的非質子性極性溶媒存在下反應，以獲得異丙基環戊二烯之步驟(異丙基化步驟)；及
(3)藉由熱將該異丙基環戊二烯中的5-異丙基環戊二烯予以選擇性地異構化為1-異丙基環戊二烯之步驟(異構化步驟)。
简体摘要：本发明系一种日扁柏醇之制造方法，系包含自环戊二烯与式R-X(R系异丙基，X系卤素或甲苯磺酰基或烷磺酰基)所示异丙基化剂得1-异丙基环戊二烯(第一步骤)，使该1一异丙基环戊二烯与二卤化乙烯酮反应，得烯酮加成物(第二步骤)，分解该烯酮加成物(第三步骤)所成日扁柏醇之制造方法中，其特征为第一步骤中再含有以下三个步骤者： (1)自环戊二烯，与至少一种金属氢氧化物或金属醇盐予以调制环戊二烯基金属之步骤(调制环戊二烯基金属之步骤)； (2)使该环戊二烯基金属与异丙基化剂在混合于生成物之异丙基环戊二烯时可形成二液相的非质子性极性溶媒存在下反应，以获得异丙基环戊二烯之步骤(异丙基化步骤)；及 (3)借由热将该异丙基环戊二烯中的5-异丙基环戊二烯予以选择性地异构化为1-异丙基环戊二烯之步骤(异构化步骤)。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式