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    • 4. 发明专利
    • 積層硏磨墊及其製造方法
    • 积层研磨垫及其制造方法
    • TW201347906A
    • 2013-12-01
    • TW102108465
    • 2013-03-11
    • 東洋橡膠工業股份有限公司TOYO TIRE & RUBBER CO., LTD.
    • 中村賢治NAKAMURA, KENJI
    • B24B37/24
    • B24B37/205B24B37/013B24B37/22B32B37/1207B32B37/18B32B38/10B32B2037/1223B32B2038/0016H01L21/30625
    • 本發明之目的在於提供一種簡易地製造即使因長時間研磨而變成高溫時研磨層與支持層或中間層之間亦不易剝離,且具有優異光學之檢測精度之積層研磨墊的方法。本發明之積層研磨墊之製造方法包含:在研磨區域之開口部A內設置透光區域且製造研磨層之步驟;在前述研磨層之一面上設置含有熱熔接著劑之接著構件X之步驟;在前述接著構件X之對應透光區域之部份設置剝離性保護構件之步驟;將支持層黏貼在設有剝離性保護構件之前述接著構件X上之步驟;及去除對應透光區域之部份之支持層,再去除剝離性保護構件形成開口部B之步驟。
    • 本发明之目的在于提供一种简易地制造即使因长时间研磨而变成高温时研磨层与支持层或中间层之间亦不易剥离,且具有优异光学之检测精度之积层研磨垫的方法。本发明之积层研磨垫之制造方法包含:在研磨区域之开口部A内设置透光区域且制造研磨层之步骤;在前述研磨层之一面上设置含有热熔接着剂之接着构件X之步骤;在前述接着构件X之对应透光区域之部份设置剥离性保护构件之步骤;将支持层黏贴在设有剥离性保护构件之前述接着构件X上之步骤;及去除对应透光区域之部份之支持层,再去除剥离性保护构件形成开口部B之步骤。