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1. 发明专利

TWI294795B 液滴塗佈方法,液滴塗佈裝置及光電裝置,以及電子機器 DROPLET APPLICATION METHOD, DROPLET APPLICATION DEVICE, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS 失效
简体标题：液滴涂布方法,液滴涂布设备及光电设备,以及电子机器 DROPLET APPLICATION METHOD, DROPLET APPLICATION DEVICE, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS
公开(公告)号：TWI294795B
公开(公告)日：2008-03-21
申请号：TW094121482
申请日：2005-06-27
申请人：精工愛普生股份有限公司 SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：三浦弘綱 MIURA, HIROTSUNA , 尼子淳 AMAKO, JUN
IPC分类号： B05D , G02B
CPC分类号： G02B5/201 , B05B7/228 , B05B17/0607 , B05C9/14
摘要：本發明的課題是在於提供一種可確保高度精度，且可取得微細徑的柱狀體之液滴塗佈方法。亦即，噴出液滴L，塗佈於基板L。重複進行：對塗佈後的液滴L1賦予光能量之步驟；及在賦予光能量的液滴L1上重疊下個液滴L2而塗佈之步驟。
简体摘要：本发明的课题是在于提供一种可确保高度精度，且可取得微细径的柱状体之液滴涂布方法。亦即，喷出液滴L，涂布于基板L。重复进行：对涂布后的液滴L1赋予光能量之步骤；及在赋予光能量的液滴L1上重叠下个液滴L2而涂布之步骤。

2. 发明专利

TW531771B 藉反應沈積形成塗層方法失效
简体标题：藉反应沉积形成涂层方法
公开(公告)号：TW531771B
公开(公告)日：2003-05-11
申请号：TW090125683
申请日：2001-10-17
申请人：納克公司
发明人：畢祥新 , 羅那德J 莫索 , 欣古馬奇魯凡魯 , 蘇傑特古馬 , 詹姆士T 葛尼 , 欣M 林 , 威廉E 麥格維
IPC分类号： G02B , B05C , B05D , C23C , H01L
CPC分类号： C23C16/402 , B05B7/228 , B05C9/14 , B05D3/06 , B22F1/0018 , C23C16/482 , C23C16/483 , C23C18/1266 , C23C24/10 , C23C26/02
摘要：本發明係關於使用強烈光束進行光反應沉積，形成直接塗覆在基材表面上之顆粒。部分具體例中，塗覆裝置包括非圓形之反應物輸入口、形成光路徑之光元件、第一種基材、及與裝置連接之馬達。反應物輸入口界定反應物流之路徑。光路徑貫穿反應區處之反應物流路徑與反應區連續之產物流路徑。基材貫穿產物流路徑。而且，馬達操作使第一基材相對於產物流移動。本發明敘述使用光驅動化學反應，有效的產生高度均勻塗層之各種廣泛之方法。
简体摘要：本发明系关于使用强烈光束进行光反应沉积，形成直接涂覆在基材表面上之颗粒。部分具体例中，涂覆设备包括非圆形之反应物输入口、形成光路径之光组件、第一种基材、及与设备连接之马达。反应物输入口界定反应物流之路径。光路径贯穿反应区处之反应物流路径与反应区连续之产物流路径。基材贯穿产物流路径。而且，马达操作使第一基材相对于产物流移动。本发明叙述使用光驱动化学反应，有效的产生高度均匀涂层之各种广泛之方法。

3. 发明专利

TW201623191A 熔射用粉末之製造方法、熔射用粉末之製造裝置、以該製造方法所製造之熔射用粉末、以隔熱塗覆被覆之高溫零件、以及具備該高溫零件之氣渦輪审中-公开
简体标题：熔射用粉末之制造方法、熔射用粉末之制造设备、以该制造方法所制造之熔射用粉末、以隔热涂覆被覆之高温零件、以及具备该高温零件之气涡轮
公开(公告)号：TW201623191A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW104128819
申请日：2015-09-01
申请人：三菱日立電力系統股份有限公司 , MITSUBISHI HITACHI POWER SYSTEMS, LTD.
发明人：鳥越泰治 , TORIGOE, TAIJI , 永野一郎 , NAGANO, ICHIRO , 岡嶋芳史 , OKAJIMA, YOSHIFUMI , 岡田郁生 , OKADA, IKUO , 妻鹿雅彦 , MEGA, MASAHIKO , 上村好古 , UEMURA, YOSHITAKA , 岡矢尚俊 , OKAYA, NAOTOSHI , 佐久間秀祐 , SAKUMA, SHUSUKE
IPC分类号： C04B35/482 , C04B35/622 , C04B35/64 , B32B18/00 , C23C4/10 , C23C4/12 , B05B7/22 , F01D25/00 , F01D5/08 , F01D5/28 , F01D9/02 , F02C7/00
CPC分类号： C04B35/488 , B05B7/22 , B05B7/228 , B22F1/00 , C04B35/6261 , C04B35/62655 , C04B35/6303 , C04B2235/3224 , C04B2235/3225 , C04B2235/3246 , C04B2235/95 , C09D1/00 , C09D5/031 , C09D5/036 , C23C2/003 , C23C4/073 , C23C4/11 , C23C28/3215 , C23C28/3455 , F01D5/288 , F01D9/02 , F05D2220/32 , F05D2230/31 , F05D2240/35 , F05D2300/21 , F05D2300/2118
摘要：一種熔射用粉末之製造方法，其係包含由含有第1添加劑的氧化鋯系陶瓷所構成的第1粒子、以及由含有第2添加劑的氧化鋯系陶瓷所構成的第2粒子，並具備準備步驟(S1)，該步驟準備有超過0μm，10μm以下之10%累積粒徑的混合粉末、與2次粒子製作步驟(S2)，該步驟製作各自含有互相燒結的前述第1粒子及前述第2粒子的複數之2次粒子。
简体摘要：一种熔射用粉末之制造方法，其系包含由含有第1添加剂的氧化锆系陶瓷所构成的第1粒子、以及由含有第2添加剂的氧化锆系陶瓷所构成的第2粒子，并具备准备步骤(S1)，该步骤准备有超过0μm，10μm以下之10%累积粒径的混合粉末、与2次粒子制作步骤(S2)，该步骤制作各自含有互相烧结的前述第1粒子及前述第2粒子的复数之2次粒子。

5. 发明专利

TW253857B 施加熱可活化之聚合物組成物至一基底之裝置和方法失效
简体标题：施加热可活化之聚合物组成物至一基底之设备和方法
公开(公告)号：TW253857B
公开(公告)日：1995-08-11
申请号：TW083104799
申请日：1994-05-26
申请人：艾斯特財產有限公司
发明人：克雷格.奈夫
IPC分类号： B05C , B05B , B23K
CPC分类号： B05C5/02 , B05B7/228 , B05C5/001 , B29C65/16 , B29C65/1654 , B29C65/42 , B29C65/425 , B29C65/4815 , B29C65/484 , B29C65/4845 , B29C65/524 , B29C66/727 , B29C66/836
摘要：一種可擠壓之物料例如一種熱熔性黏合劑隨著經由雷射束之同時照射而被施加至一基底上。雷射的能量經由黏合劑和基底予以吸收而致使黏合劑散佈在織物中。當施加至兩個基底片間之間隙時，該可擠壓之物料造成一極強之黏合。當基底材料之一是多孔時，該可擠壓之物料會滲透該基底材料的厚度並接觸一個較低層而形成黏合體。該可擠壓之物料係通過一只噴嘴予以施加並將雷射束引導通過該噴嘴而與可擠壓之物料的流動途徑共軸。該項共軸配置便利於噴嘴的移動及呈複雜圖型之雷射束的移動且保証同時施加可擠壓之物料及雷射束。
简体摘要：一种可挤压之物料例如一种热熔性黏合剂随着经由激光束之同时照射而被施加至一基底上。激光的能量经由黏合剂和基底予以吸收而致使黏合剂散布在织物中。当施加至两个基底片间之间隙时，该可挤压之物料造成一极强之黏合。当基底材料之一是多孔时，该可挤压之物料会渗透该基底材料的厚度并接触一个较低层而形成黏合体。该可挤压之物料系通过一只喷嘴予以施加并将激光束引导通过该喷嘴而与可挤压之物料的流动途径共轴。该项共轴配置便利于喷嘴的移动及呈复杂图型之激光束的移动且保证同时施加可挤压之物料及激光束。

6. 发明专利

TW200603900A 液滴塗佈方法,液滴塗佈裝置及光電裝置,以及電子機器 DROPLET APPLICATION METHOD, DROPLET APPLICATION DEVICE, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS 失效
简体标题：液滴涂布方法,液滴涂布设备及光电设备,以及电子机器 DROPLET APPLICATION METHOD, DROPLET APPLICATION DEVICE, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS
公开(公告)号：TW200603900A
公开(公告)日：2006-02-01
申请号：TW094121482
申请日：2005-06-27
申请人：精工愛普生股份有限公司 SEIKO EPSON CORPORATION
发明人：三浦弘綱 MIURA, HIROTSUNA , 尼子淳 AMAKO, JUN
IPC分类号： B05D , G02B
CPC分类号： G02B5/201 , B05B7/228 , B05B17/0607 , B05C9/14
摘要：本發明的課題是在於提供一種可確保高度精度，且可取得微細徑的柱狀體之液滴塗佈方法。亦即，噴出液滴L，塗佈於基板L。重複進行對塗佈後的液滴L1賦予光能量之步驟；及在賦予光能量的液滴L1上重疊下個液滴L2而塗佈之步驟。
简体摘要：本发明的课题是在于提供一种可确保高度精度，且可取得微细径的柱状体之液滴涂布方法。亦即，喷出液滴L，涂布于基板L。重复进行对涂布后的液滴L1赋予光能量之步骤；及在赋予光能量的液滴L1上重叠下个液滴L2而涂布之步骤。

7. 发明专利

TW203572B 利用雷射來塗覆圓筒狀工件之方法失效
简体标题：利用激光来涂覆圆筒状工件之方法
公开(公告)号：TW203572B
公开(公告)日：1993-04-11
申请号：TW081109241
申请日：1992-11-18
申请人： GEC歐森公司
发明人：安竹.克林 , 艾莫洛.凱倫德 , 費德瑞克.凱洛 , 賈奎斯.康農格
IPC分类号： B22F , B05B , B23K
CPC分类号： B05B7/228 , B23K26/342 , F05B2250/231
摘要：本發明係關於利用雷射來塗覆圓筒狀工件的方法，其中，在使欲被塗覆之表面成為平面後，使工件環繞其軸而旋轉，將經部份聚焦之雷射光束放射在工件之表面上，並將具有欲被澱積之合金組成之預合金粉末，投射入光束與工件相互作用之區域中。各次通過係沿著工件的非接觸之作用程序線或沿著非接觸之螺旋線予以實施，直至工件的全部表面已被塗覆為止。如此，重組了經磨損之表面而不會使工件顯著畸變，尤其是蒸汽透平機的控制桿。
简体摘要：本发明系关于利用激光来涂覆圆筒状工件的方法，其中，在使欲被涂覆之表面成为平面后，使工件环绕其轴而旋转，将经部份聚焦之激光光束放射在工件之表面上，并将具有欲被淀积之合金组成之预合金粉末，投射入光束与工件相互作用之区域中。各次通过系沿着工件的非接触之作用进程线或沿着非接触之螺旋线予以实施，直至工件的全部表面已被涂覆为止。如此，重组了经磨损之表面而不会使工件显着畸变，尤其是蒸汽透平机的控制杆。

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