会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 1. 发明专利
    • 自一來源溶液中濃縮、去除並分離以特殊陰離子錯合物出現之銠、銥及/或釕之化合物與方法
    • 自一来源溶液中浓缩、去除并分离以特殊阴离子错合物出现之铑、铱及/或钌之化合物与方法
    • TW267948B
    • 1996-01-11
    • TW081104359
    • 1992-06-02
    • 楊百翰大學
    • 布塔貝吉拉伯蕭李德伊薩朗布魯寧
    • B01DB01J
    • B01J45/00B01D15/00B01J20/262B01J20/3092B01J20/3204B01J20/3217B01J20/3219B01J20/3257B01J20/3259B01J20/3263B01J20/3272B01J41/20B01J2220/58
    • 一種自一可能含有較高濃度之其他包括H+在內之離子之來源溶液內去除、分離並濃縮銠、銥及/或釕之方法,包含使該來源溶液與一包含一經由一有機間隔矽基團共價鍵接於一固體無機承體之含聚烯聚胺配位體之化合物接觸。該化合物之(多數)配位體部份對銠、銥及/或釕之錯合陰離子種類具有親和力,從而將其等移離該來源溶液。銠及/或釕係經由與一體積遠較小之第一接收溶液接觸使銠及/或釕物種形成作用改變成對該化合物之配位體部份不具親和力而先予選擇移離該化合物。代表性之第一接收溶液包括 高於90℃之稀HCl 水液(0.1-0.2M); 高於50℃之含有硫(0.1-1.0M)與TiCl3(0.01-1.0M)之稀 HCl溶液(0.1-0.2M); 高於70℃之含有硫(0.1-1.0 M)與NaH2PO3(0.1-0.5M)之稀HCl水液(0.1-0.2M);
      高於70℃之硫(0.1-1.0M)與H3PO2(0.1-0.5M)之水液; 高於90℃之硫(0.1-1.0M)加N2H5Cl(0.1-0.5 M)之稀HCl水液(0.1-0.2M); 高於90℃之硫(0.1-1.0M)加NaH2PO3(0.1-0.5M)之稀HCl水液(0.1-0.2M); 高於50℃之FeCl2 (0.1-0.5M)加稀HClO4(0.1-0.2 M)之水液; 高於50℃Fe(ClO4)2 (0.1-0.5M)加稀HCl與稀HClO4(0.1-0.2M)之水液; 高於50℃之Fe(ClO4)2(0.1-0.5M)與稀HClO4(0.1-0.2M)之水液。然後經由與一體積遠較小之對銥之親和力大於該化合物之配位體部份或對該化合物配位體部份之親和力大於銥物種之第二接收溶液接觸而將銥移離該化合物。代表性之第二接收溶液包括 5 M NH4Cl、4 M (NH4)2SO4、5 M NH4CH3COO、0.3M Na4EDTA、0.3 M Na3檸檬酸鹽、以及0.1 M Na4P2O7等之水液。若此去除之濃縮離子可藉各種已知方法予進一步分離及回收。本法有用於自各種不同來源回收及提煉有價值之銠及銥。本發明亦著眼於經由一間隔基團共價鍵接於一親水性無機固體承體材料之含聚烯聚胺之特殊高度穩定性有分枝配位體。
    • 一种自一可能含有较高浓度之其他包括H+在内之离子之来源溶液内去除、分离并浓缩铑、铱及/或钌之方法,包含使该来源溶液与一包含一经由一有机间隔硅基团共价键接于一固体无机承体之含聚烯聚胺配位体之化合物接触。该化合物之(多数)配位体部份对铑、铱及/或钌之错合阴离子种类具有亲和力,从而将其等移离该来源溶液。铑及/或钌系经由与一体积远较小之第一接收溶液接触使铑及/或钌物种形成作用改变成对该化合物之配位体部份不具亲和力而先予选择移离该化合物。代表性之第一接收溶液包括 高于90℃之稀HCl 水液(0.1-0.2M); 高于50℃之含有硫(0.1-1.0M)与TiCl3(0.01-1.0M)之稀 HCl溶液(0.1-0.2M); 高于70℃之含有硫(0.1-1.0 M)与NaH2PO3(0.1-0.5M)之稀HCl水液(0.1-0.2M); 高于70℃之硫(0.1-1.0M)与H3PO2(0.1-0.5M)之水液; 高于90℃之硫(0.1-1.0M)加N2H5Cl(0.1-0.5 M)之稀HCl水液(0.1-0.2M); 高于90℃之硫(0.1-1.0M)加NaH2PO3(0.1-0.5M)之稀HCl水液(0.1-0.2M); 高于50℃之FeCl2 (0.1-0.5M)加稀HClO4(0.1-0.2 M)之水液; 高于50℃Fe(ClO4)2 (0.1-0.5M)加稀HCl与稀HClO4(0.1-0.2M)之水液; 高于50℃之Fe(ClO4)2(0.1-0.5M)与稀HClO4(0.1-0.2M)之水液。然后经由与一体积远较小之对铱之亲和力大于该化合物之配位体部份或对该化合物配位体部份之亲和力大于铱物种之第二接收溶液接触而将铱移离该化合物。代表性之第二接收溶液包括 5 M NH4Cl、4 M (NH4)2SO4、5 M NH4CH3COO、0.3M Na4EDTA、0.3 M Na3柠檬酸盐、以及0.1 M Na4P2O7等之水液。若此去除之浓缩离子可藉各种已知方法予进一步分离及回收。本法有用于自各种不同来源回收及提炼有价值之铑及铱。本发明亦着眼于经由一间隔基团共价键接于一亲水性无机固体承体材料之含聚烯聚胺之特殊高度稳定性有分枝配位体。
    • 2. 发明专利
    • 離子層析儀用填充劑
    • 离子层析仪用填充剂
    • TW200639190A
    • 2006-11-16
    • TW095101240
    • 2006-01-12
    • 昭和電工股份有限公司 SHOWA DENKO K. K.
    • 近藤英幸 KONDO, HIDEYUKI岡田由治 OKADA, YOSHIJI
    • C08FB01JG01N
    • B01D15/363B01J20/289B01J41/20B01J2220/54G01N30/96
    • 本發明提供一種,在使用7種標準無機陰離子及3種鹵素氧化物陰離子之共10種陰離子的導電度檢測法,或藉由後筒柱衍生物化之紫外線檢測法的任一方法中,可避免壓力上升,且不受測定溫度或移動相流速之限制,能充分分離之離子層析儀用填充劑,使用此填充劑之化學質分離用具及分離方法。其係式(1)所示之季銨鹽基直接或透過間隔體連接於基材的離子層析儀用填充劑,使用此填充劑之化學物質分離用具及分離方法。095101240-p01.bmp(式中,R^1為具有至少一個烯烴性雙鍵或共軛雙鍵之基;R^2及R^3為分別獨立之與R^1相同或相異的有機殘基)。095101240-p01.bmp
    • 本发明提供一种,在使用7种标准无机阴离子及3种卤素氧化物阴离子之共10种阴离子的导电度检测法,或借由后筒柱衍生物化之紫外线检测法的任一方法中,可避免压力上升,且不受测定温度或移动相流速之限制,能充分分离之离子层析仪用填充剂,使用此填充剂之化学质分离用具及分离方法。其系式(1)所示之季铵盐基直接或透过间隔体连接于基材的离子层析仪用填充剂,使用此填充剂之化学物质分离用具及分离方法。095101240-p01.bmp(式中,R^1为具有至少一个烯烃性双键或共轭双键之基;R^2及R^3为分别独立之与R^1相同或相异的有机残基)。095101240-p01.bmp