专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW200938732A 乾式幫浦 DRY PUMP 审中-公开
简体标题：干式帮浦 DRY PUMP
公开(公告)号：TW200938732A
公开(公告)日：2009-09-16
申请号：TW097143729
申请日：2008-11-12
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：鈴木敏生 SUZUKI, TOSHIO
IPC分类号： F04C
CPC分类号： F04C18/126 , F04C23/001
摘要：本發明之乾式幫浦之特徵在於包含:轉子,其係收容於缸體內;轉子軸,其係作為前述轉子之旋轉軸;及導熱構件,其係配置於前述轉子軸之內部,導熱能力高於前述轉子軸。
简体摘要：本发明之干式帮浦之特征在于包含:转子,其系收容于缸体内;转子轴,其系作为前述转子之旋转轴;及导热构件,其系配置于前述转子轴之内部,导热能力高于前述转子轴。

2. 发明专利

TW200935547A 基板搬送裝置、基板搬送方法及真空處理裝置 SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS, SUBSTRATE TRANSFER METHOD, AND VACUUM PROCESSING APPARATUS 审中-公开
简体标题：基板搬送设备、基板搬送方法及真空处理设备 SUBSTRATE TRANSFER APPARATUS, SUBSTRATE TRANSFER METHOD, AND VACUUM PROCESSING APPARATUS
公开(公告)号：TW200935547A
公开(公告)日：2009-08-16
申请号：TW097148248
申请日：2008-12-11
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：遠山佳宏 TOOYAMA, YOSHIHIRO
IPC分类号： H01L , B65G
CPC分类号： H01L21/6838 , B65G49/061 , B65G49/064 , B65G49/068 , B65G2249/02 , B65G2249/04 , B65G2249/045 , H01L21/68764 , H01L21/68771 , H01L21/68785
摘要：一種基板搬送裝置,其目的在於使以垂直狀態搬送基板之載體輕型化。將平板狀基板送交給以垂直狀態搬送平板狀基板(W)之載體(23)的基板搬送裝置(11)具備搬運機構(22)。搬運機構(22)包含:具有矩形狀之框體,將延伸於水平方向之轉動軸(L)作為中心而可轉動之框架(37);配設於框架上,而吸附基板(W)之複數個吸附墊(46);及使框架在水平狀態與垂直狀態之間轉動的驅動部(35)。搬運機構(22)在框架之水平狀態下,藉由複數個吸附墊來吸附在水平狀態之基板(W),在框架上保持了基板的情況下,使框架從水平狀態轉動至垂直狀態,而將在垂直狀態之基板(W)送交載體(23)。
简体摘要：一种基板搬送设备,其目的在于使以垂直状态搬送基板之载体轻型化。将平板状基板送交给以垂直状态搬送平板状基板(W)之载体(23)的基板搬送设备(11)具备搬运机构(22)。搬运机构(22)包含:具有矩形状之框体,将延伸于水平方向之转动轴(L)作为中心而可转动之框架(37);配设于框架上,而吸附基板(W)之复数个吸附垫(46);及使框架在水平状态与垂直状态之间转动的驱动部(35)。搬运机构(22)在框架之水平状态下,借由复数个吸附垫来吸附在水平状态之基板(W),在框架上保持了基板的情况下,使框架从水平状态转动至垂直状态,而将在垂直状态之基板(W)送交载体(23)。

3. 发明专利

TW200932931A 蒸鍍源、有機電激發光元件之製造裝置 A DEPOSITION SOURCE, AN APPARATUS FOR PRODUCING ORGANIC EL ELEMENT 审中-公开
简体标题：蒸镀源、有机电激发光组件之制造设备 A DEPOSITION SOURCE, AN APPARATUS FOR PRODUCING ORGANIC EL ELEMENT
公开(公告)号：TW200932931A
公开(公告)日：2009-08-01
申请号：TW097142510
申请日：2008-11-04
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：永田純一 NAGATA, JUNICHI
IPC分类号： C23C , H05B , H01L
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/12
摘要：本發明係一種蒸鍍源,有機電激發光元件之製造裝置,其中,將蒸鍍源之蒸發容器(9)之熱控制性作為良好。本發明之蒸鍍源(3)係具有配置有機材料(21)之蒸發容器(9),於蒸鍍源(3)之外周,卷繞有加熱線(18)。與有機材料(21)之蒸發容器(9)的側壁接觸之部分乃呈成為較加熱線(18)之下端為下方地配置,於基板支撐架(4),安裝基板(20)。啓動電源(7),使加熱線(18)發熱,加熱蒸發容器(9)時,有機材料(21)之蒸氣係從朝上之貫通孔(31)釋放至真空槽(2)內部,附著於基板(20),形成薄膜。因將加熱線(18)配置至蒸發容器(9)之上端,故可使開口升溫至蒸發溫度以上,前述蒸發容器(9)係因由銅,銅‧鈹合金,Ti或Ta之任一種金屬材料所成,側壁與底壁乃加以形成為0.3mm以上0.7mm以下的厚度之故,熱容量小,控制性為佳。
简体摘要：本发明系一种蒸镀源,有机电激发光组件之制造设备,其中,将蒸镀源之蒸发容器(9)之热控制性作为良好。本发明之蒸镀源(3)系具有配置有机材料(21)之蒸发容器(9),于蒸镀源(3)之外周,卷绕有加热线(18)。与有机材料(21)之蒸发容器(9)的侧壁接触之部分乃呈成为较加热线(18)之下端为下方地配置,于基板支撑架(4),安装基板(20)。启动电源(7),使加热线(18)发热,加热蒸发容器(9)时,有机材料(21)之蒸气系从朝上之贯通孔(31)释放至真空槽(2)内部,附着于基板(20),形成薄膜。因将加热线(18)配置至蒸发容器(9)之上端,故可使开口升温至蒸发温度以上,前述蒸发容器(9)系因由铜,铜‧铍合金,Ti或Ta之任一种金属材料所成,侧壁与底壁乃加以形成为0.3mm以上0.7mm以下的厚度之故,热容量小,控制性为佳。

4. 发明专利

TW200927970A 透明導電膜之形成方法 TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM FORMING METHOD 审中-公开
简体标题：透明导电膜之形成方法 TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM FORMING METHOD
公开(公告)号：TW200927970A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：TW097132235
申请日：2008-08-22
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：高橋明久 TAKAHASHI, HIROHISA , 石橋曉 ISHIBASHI, SATORU , 杉浦功 SUGIURA, ISAO , 高澤悟 TAKASAWA, SATORU
IPC分类号： C23C , H01B
CPC分类号： C23C14/086 , C23C14/35 , H01L31/1884 , Y02E10/50
摘要：本發明之透明導電膜之形成方法,係於具備透明導電膜之形成材料之標靶施加濺射電壓,且於上述標靶之表面產生水平磁場進行濺射,於基板上形成以ZnO為基本構成元素之透明導電膜,且,係於上述濺射電壓為340 V以下進行上述濺射。
简体摘要：本发明之透明导电膜之形成方法,系于具备透明导电膜之形成材料之标靶施加溅射电压,且于上述标靶之表面产生水平磁场进行溅射,于基板上形成以ZnO为基本构成元素之透明导电膜,且,系于上述溅射电压为340 V以下进行上述溅射。

5. 发明专利

TW200927363A 機台裝置 A STAGE DEVICE 审中-公开
简体标题：机台设备 A STAGE DEVICE
公开(公告)号：TW200927363A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：TW097132915
申请日：2008-08-28
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：田中保三 TANAKA, YASUZO , 湯山純平 YUYAMA, JUNPEI , 矢作充 YAHAGI, MITSURU , 南展史 MINAMI, HIROFUMI , 高橋誠 TAKAHASHI, MAKOTO , 伊藤慎也 ITO, SHINYA
IPC分类号： B23Q , B05C , H01L , G02F
CPC分类号： B65G7/04
摘要：係提供一種於正式設置場所容易進行對位之機台裝置。將配置有副底座板(21)之架台(25)乘載於台車(22)上而構成副載置台(20a~20d),利用台車(22)使副底座板(21)移動,並將架台(25)固定在具有主底座板(11)之主載置台(10)。藉由設置於副載置台(20a~20d)之調整機構(30),將主底座板(11)與副底座板(21)予以對位。由於在主載置台(10)與副載置台20a~20d設置有主定位構件(16)與副定位構件(241、242),所以能夠以對位狀態得以復原之方式進行分離。因此在搬運之後,於組裝時容易進行對位。
简体摘要：系提供一种于正式设置场所容易进行对位之机台设备。将配置有副底座板(21)之架台(25)乘载于台车(22)上而构成副载置台(20a~20d),利用台车(22)使副底座板(21)移动,并将架台(25)固定在具有主底座板(11)之主载置台(10)。借由设置于副载置台(20a~20d)之调整机构(30),将主底座板(11)与副底座板(21)予以对位。由于在主载置台(10)与副载置台20a~20d设置有主定位构件(16)与副定位构件(241、242),所以能够以对位状态得以复原之方式进行分离。因此在搬运之后,于组装时容易进行对位。

6. 发明专利

TW200918680A 蒸鍍裝置 EVAPORATION APPARATUS 审中-公开
简体标题：蒸镀设备 EVAPORATION APPARATUS
公开(公告)号：TW200918680A
公开(公告)日：2009-05-01
申请号：TW097134564
申请日：2008-09-09
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：根岸敏夫 NEGISHI, TOSHIO
IPC分类号： C23C , H05B , H01L
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/246 , C23C14/56 , H01L51/001 , H01L51/0011 , H01L51/0029 , H01L51/56
摘要：防止有機EL裝置之污染。在形成了第1色之著色層(85a)之後,對位裝置(60),係在相同之真空槽(11)內部,使基板(81)與遮罩(16)作相對移動,而將遮罩(16)之開口(17),移動至應形成下一個顏色之著色層(85b)的區域上。故而,就算是不對遮罩(16)作交換,亦能夠形成2色以上之著色層(85a-85c),且由於成膜中之基板(81)的移動距離係為短,因此,不會產生塵埃,而能夠防止有機EL裝置之污染。
简体摘要：防止有机EL设备之污染。在形成了第1色之着色层(85a)之后,对位设备(60),系在相同之真空槽(11)内部,使基板(81)与遮罩(16)作相对移动,而将遮罩(16)之开口(17),移动至应形成下一个颜色之着色层(85b)的区域上。故而,就算是不对遮罩(16)作交换,亦能够形成2色以上之着色层(85a-85c),且由于成膜中之基板(81)的移动距离系为短,因此,不会产生尘埃,而能够防止有机EL设备之污染。

7. 发明专利

TW200916236A 成型裝置审中-公开
简体标题：成型设备
公开(公告)号：TW200916236A
公开(公告)日：2009-04-16
申请号：TW096149768
申请日：2007-12-24
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：永田浩 NAGATA, HIROSHI , 新垣良憲 SHINGAKI, YOSHINORI
IPC分类号： B22F , H01F
CPC分类号： H01F41/0273 , B22F3/004 , B22F3/03 , B22F3/087 , B22F2999/00 , B30B11/008 , H01F41/0266 , B22F2202/05 , B22F2202/06 , B22F2202/17
摘要： [發明課題]本發明提供一種可在磁場中使較具有相等結晶取向關係的合金原料粉末結晶斷裂面形成組合,藉此就能夠成型具極高定向性之成型體的成型裝置。[解決手段]本發明的成型裝置1,具備:磁場或電場中成極化的粉末其填充用的模槽22;可對填充在該模槽內的粉末外加磁場或電場的磁場或電場產生手段;可對經由磁場或電場產生手段成為外加有磁場或電場之狀態的粉末進行攪拌加以定向的攪拌手段54;及可對被攪拌成定向的粉末於磁場或電場中施加壓縮力使其成型的加壓手段31、32。
简体摘要： [发明课题]本发明提供一种可在磁场中使较具有相等结晶取向关系的合金原料粉末结晶断裂面形成组合,借此就能够成型具极高定向性之成型体的成型设备。[解决手段]本发明的成型设备1,具备:磁场或电场中成极化的粉末其填充用的模槽22;可对填充在该模槽内的粉末外加磁场或电场的磁场或电场产生手段;可对经由磁场或电场产生手段成为外加有磁场或电场之状态的粉末进行搅拌加以定向的搅拌手段54;及可对被搅拌成定向的粉末于磁场或电场中施加压缩力使其成型的加压手段31、32。

8. 发明专利

TW200915939A 基板貼合裝置及基板貼合裝置之控制方法 SUBSTRATE BONDING APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING THE SAME 审中-公开
简体标题：基板贴合设备及基板贴合设备之控制方法 SUBSTRATE BONDING APPARATUS AND METHOD FOR CONTROLLING THE SAME
公开(公告)号：TW200915939A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：TW097127562
申请日：2008-07-21
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：小島孝夫 KOJIMA, TAKAO , 稻田泰三 INADA, TAIZOU
IPC分类号： H05K
摘要：提供能在平面度高之狀態下保持基板的基板貼合裝置及基板貼合裝置之控制方法。以位於彼此鄰接之支持棒56(複數個吸附墊58)間之方式設置黏著機構部52於上固定座51之下面。黏著機構部52,包含:具有複數個貫通孔72之加壓板71;及以較加壓板71之下面73進出於下方之方式設置於加壓板71的黏著構件74。再者,黏著機構部52,包含分別配置於複數個貫通孔72內且以從加壓板71之下面73能進出於下方之方式支撐於黏著機構部52的複數個吸附頭75。複數個吸附頭75,係能將移動至黏著機構部52附近之基板W1上面吸附。再者,黏著機構部52,亦包含以基板W1黏著於黏著構件74之方式使複數個吸附頭75上升的移動手段(76、82),。
简体摘要：提供能在平面度高之状态下保持基板的基板贴合设备及基板贴合设备之控制方法。以位于彼此邻接之支持棒56(复数个吸附垫58)间之方式设置黏着机构部52于上固定座51之下面。黏着机构部52,包含:具有复数个贯通孔72之加压板71;及以较加压板71之下面73进出于下方之方式设置于加压板71的黏着构件74。再者,黏着机构部52,包含分别配置于复数个贯通孔72内且以从加压板71之下面73能进出于下方之方式支撑于黏着机构部52的复数个吸附头75。复数个吸附头75,系能将移动至黏着机构部52附近之基板W1上面吸附。再者,黏着机构部52,亦包含以基板W1黏着于黏着构件74之方式使复数个吸附头75上升的移动手段(76、82),。

9. 发明专利

TW200914640A 濺鍍方法审中-公开
简体标题：溅镀方法
公开(公告)号：TW200914640A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：TW097131734
申请日：2008-08-20
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：新井真 ARAI, MAKOTO , 清田淳也 KIYOTA, JUNYA , 市橋祐次 ICHIHASHI, YUUJI , 小島雄司 KOJIMA, TAKESHI
IPC分类号： C23C , H01L
CPC分类号： C23C14/352
摘要：【【課題】】提供一種:在對起因於處理基板之充電的異常放電之發生作抑制的同時,防止薄膜形成速度之大幅增加,並對於大面積之處理基板而能夠良好地形成薄膜之濺鍍方法。【【解決手段】】對於在濺鍍室(12)內而與處理基板(S)相對向且空出有特定之間隔地被並排設置的複數枚標靶(41a)乃至(41h)中之分別成對的標靶,以特定之頻率來交互地改變極性而投入電力,來將各標靶交互切換為陽極電極、陰極電極,並在陽極電極以及陰極電極之間使輝光放電產生而形成電漿氛圍,而對各標靶作濺鍍。在濺鍍中,將對於各標靶之投入電力作間歇性減少。
简体摘要：【【课题】】提供一种:在对起因于处理基板之充电的异常放电之发生作抑制的同时,防止薄膜形成速度之大幅增加,并对于大面积之处理基板而能够良好地形成薄膜之溅镀方法。【【解决手段】】对于在溅镀室(12)内而与处理基板(S)相对向且空出有特定之间隔地被并排设置的复数枚标靶(41a)乃至(41h)中之分别成对的标靶,以特定之频率来交互地改变极性而投入电力,来将各标靶交互切换为阳极电极、阴极电极,并在阳极电极以及阴极电极之间使辉光放电产生而形成等离子氛围,而对各标靶作溅镀。在溅镀中,将对于各标靶之投入电力作间歇性减少。

10. 发明专利

TW200912301A 質量分析單元 MASS SPECTROMETRY UNIT 审中-公开
简体标题：质量分析单元 MASS SPECTROMETRY UNIT
公开(公告)号：TW200912301A
公开(公告)日：2009-03-16
申请号：TW097113648
申请日：2008-04-15
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：中島豐昭 NAKAJIMA, TOYOAKI , 黑川裕次郎 KUROKAWA, YUJIROU , 由利努 YURI, TSUTOMU , 田中領太 TANAKA, RYOTA , 吉田修爾 YOSHIDA, SHUJI
IPC分类号： G01N , H01J
CPC分类号： G01N27/62 , G01L21/30 , H01J41/10 , H01J49/0027
摘要：本發明之質量分析單元係包括檢測被測定氣體之每一質荷比之離子電流値並測定分壓之質量分析部的質量分析單元,且進而包括預先保持使該質量分析單元之特定部位功能下降之特定氣體之質荷比記錄的控制部,於由上述質量分析部所檢測出之上述特定氣體之質荷比之離子電流値達到特定値以上之情形時,上述控制部輸出表示上述特定部位功能下降的警告信號。
简体摘要：本发明之质量分析单元系包括检测被测定气体之每一质荷比之离子电流値并测定分压之质量分析部的质量分析单元,且进而包括预先保持使该质量分析单元之特定部位功能下降之特定气体之质荷比记录的控制部,于由上述质量分析部所检测出之上述特定气体之质荷比之离子电流値达到特定値以上之情形时,上述控制部输出表示上述特定部位功能下降的警告信号。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式