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1. 发明专利

TWI425208B 質量分析單元有权
简体标题：质量分析单元
公开(公告)号：TWI425208B
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW097113648
申请日：2008-04-15
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：中島豐昭 , NAKAJIMA, TOYOAKI , 黑川裕次郎 , KUROKAWA, YUJIROU , 由利努 , YURI, TSUTOMU , 田中領太 , TANAKA, RYOTA , 吉田修爾 , YOSHIDA, SHUJI
IPC分类号： G01N27/62 , H01J41/10 , H01J49/42
CPC分类号： G01N27/62 , G01L21/30 , H01J41/10 , H01J49/0027

2. 发明专利

TW200916755A 氣體分析器 GAS ANALYZER 审中-公开
简体标题：气体分析器 GAS ANALYZER
公开(公告)号：TW200916755A
公开(公告)日：2009-04-16
申请号：TW097112785
申请日：2008-04-09
申请人：堀場STEC股份有限公司 HORIBA STEC, CO., LTD.
发明人：青木潤次 AOKI, JUNJI , 北浦宏和 KITAURA, HIROKAZU , 賽德布姆 SAID BOUMSELLEK
IPC分类号： G01N
CPC分类号： H01J49/0009 , G01L21/30 , H01J41/02 , H01J41/10 , H01J49/0027
摘要：依本發明之氣體分析器包含:離子化部211,用以離子化試樣氣體;第1離子檢測部212及第2離子檢測部213,夾著該離子化部211而設置,俾使自該離子化部211起算之距離相互不同,以檢測來自該離子化部211之離子;過濾器部214,設在該離子化部211及該第1離子檢測部212之間,選擇性地使來自該離子化部211之離子通過;運算裝置3,利用藉由該第1離子檢測部212所得之試樣氣體的第1全壓TP1及藉由該第2離子檢測部213所得之試樣氣體的第2全壓TP2,修正藉由該第1離子檢測部212所得之由該過濾器部214所選擇之特定成分的分壓PP1;且在利用四極質譜儀(Quadruple mass spectrometer)等之氣體分析器中,可維持解析度,並即使在測定値無法追隨周圍氣體壓力變化之區域亦可進行修正。
简体摘要：依本发明之气体分析器包含:离子化部211,用以离子化试样气体;第1离子检测部212及第2离子检测部213,夹着该离子化部211而设置,俾使自该离子化部211起算之距离相互不同,以检测来自该离子化部211之离子;过滤器部214,设在该离子化部211及该第1离子检测部212之间,选择性地使来自该离子化部211之离子通过;运算设备3,利用借由该第1离子检测部212所得之试样气体的第1全压TP1及借由该第2离子检测部213所得之试样气体的第2全压TP2,修正借由该第1离子检测部212所得之由该过滤器部214所选择之特定成分的分压PP1;且在利用四极质谱仪(Quadruple mass spectrometer)等之气体分析器中,可维持分辨率,并即使在测定値无法追随周围气体压力变化之区域亦可进行修正。

3. 发明专利

TW200912301A 質量分析單元 MASS SPECTROMETRY UNIT 审中-公开
简体标题：质量分析单元 MASS SPECTROMETRY UNIT
公开(公告)号：TW200912301A
公开(公告)日：2009-03-16
申请号：TW097113648
申请日：2008-04-15
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：中島豐昭 NAKAJIMA, TOYOAKI , 黑川裕次郎 KUROKAWA, YUJIROU , 由利努 YURI, TSUTOMU , 田中領太 TANAKA, RYOTA , 吉田修爾 YOSHIDA, SHUJI
IPC分类号： G01N , H01J
CPC分类号： G01N27/62 , G01L21/30 , H01J41/10 , H01J49/0027
摘要：本發明之質量分析單元係包括檢測被測定氣體之每一質荷比之離子電流値並測定分壓之質量分析部的質量分析單元,且進而包括預先保持使該質量分析單元之特定部位功能下降之特定氣體之質荷比記錄的控制部,於由上述質量分析部所檢測出之上述特定氣體之質荷比之離子電流値達到特定値以上之情形時,上述控制部輸出表示上述特定部位功能下降的警告信號。
简体摘要：本发明之质量分析单元系包括检测被测定气体之每一质荷比之离子电流値并测定分压之质量分析部的质量分析单元,且进而包括预先保持使该质量分析单元之特定部位功能下降之特定气体之质荷比记录的控制部,于由上述质量分析部所检测出之上述特定气体之质荷比之离子电流値达到特定値以上之情形时,上述控制部输出表示上述特定部位功能下降的警告信号。

4. 发明专利

TWI442041B 氣體分析器、氣體分析器修正方法、及氣體分析器用修正程式之記憶媒體有权
简体标题：气体分析器、气体分析器修正方法、及气体分析器用修正进程之记忆媒体
公开(公告)号：TWI442041B
公开(公告)日：2014-06-21
申请号：TW097112785
申请日：2008-04-09
申请人：堀場STEC股份有限公司 , HORIBA STEC, CO., LTD.
发明人：青木潤次 , AOKI, JUNJI , 北浦宏和 , KITAURA, HIROKAZU , 賽德布姆 , SAID BOUMSELLEK
IPC分类号： G01N21/00
CPC分类号： H01J49/0009 , G01L21/30 , H01J41/02 , H01J41/10 , H01J49/0027

5. 发明专利

TW200641347A 質量分析裝置及其使用方法 MASS SPECTROMETER AND ITS USING METHOD 审中-公开
简体标题：质量分析设备及其使用方法 MASS SPECTROMETER AND ITS USING METHOD
公开(公告)号：TW200641347A
公开(公告)日：2006-12-01
申请号：TW095117701
申请日：2006-05-18
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：中島豐昭 NAKAJIMA, TOYOAKI , 吉澤秀樹 YOSHIZAWA, HIDEKI
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G01N27/62 , G01M3/202 , H01J41/10 , H01J49/00
摘要：一種質量分析裝置，係安裝於處理室的壁部，分析存在於該處理室內的分析對象氣體之質量分析裝置，其特徵為：具備：於向前述處理室安裝時，被插入前述處理室內，測定每個前述分析對象氣體中的氣體成分的質量電荷比之分壓的測定部、和在向前述處理室的安裝時，位於前述壁部的外側，操作前述測定部之操作部、和在向前述處理室的安裝時，位於前述壁部的外側，顯示前述測定部的測定結果之顯示部；將前述測定部與前述操作部與前述前述顯示部相互接近而配設。
简体摘要：一种质量分析设备，系安装于处理室的壁部，分析存在于该处理室内的分析对象气体之质量分析设备，其特征为：具备：于向前述处理室安装时，被插入前述处理室内，测定每个前述分析对象气体中的气体成分的质量电荷比之分压的测定部、和在向前述处理室的安装时，位于前述壁部的外侧，操作前述测定部之操作部、和在向前述处理室的安装时，位于前述壁部的外侧，显示前述测定部的测定结果之显示部；将前述测定部与前述操作部与前述前述显示部相互接近而配设。

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