专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI590857B 液體控制裝置有权
简体标题：液体控制设备
公开(公告)号：TWI590857B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW101146377
申请日：2012-12-10
申请人： CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：纐纈雅之 , KOUKETSU, MASAYUKI , 板藤寬 , ITAFUJI, HIROSHI
IPC分类号： B01D1/22 , B01J7/00
CPC分类号： B05B9/03 , B01B1/005 , B01D1/14

2. 发明专利

TWI523697B 液體棑出裝置有权
简体标题：液体棑出设备
公开(公告)号：TWI523697B
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW099112043
申请日：2010-04-16
申请人： CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：纐纈雅之 , KOUKETSU, MASAYUKI , 板藤寬 , ITAFUJI, HIROSHI
IPC分类号： B05B7/02 , B05C5/02
CPC分类号： B05C5/0283 , B05B1/044 , B05B1/3013 , B05C5/0225 , B05C5/0258

3. 发明专利

TW201533365A 配管接頭、流體供給控制裝置、及配管連接構造审中-公开
简体标题：配管接头、流体供给控制设备、及配管连接构造
公开(公告)号：TW201533365A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW103139399
申请日：2014-11-13
申请人： CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：加藤啓介 , KATOH, KEISUKE , 板藤寬 , ITAFUJI, HIROSHI , 三原由極 , MIHARA, YUKI , 廣瀨克憲 , HIROSE, KATSUNORI , 三輪敏一 , MIWA, TOSHIKAZU , 西田成伸 , NISHIDA, SHIGENOBU , 伊藤一壽 , ITOH, KAZUTOSHI
IPC分类号： F16L39/06 , F16L15/00
摘要：使裝置構成良好地小型化或者集中化。在本發明之配管接頭設置有：本體部、第一開口部、第二開口部及一對螺絲插通孔。本體部是略直方體狀之構件，且具有接合面(以高度方向為法線且可對裝設對象接合之平面)。第一開口部在接合面開口。第二開口部在本體部之長邊方向之其中一端部開口。一對螺絲插通孔是挾著第一開口部而設置於本體部之長邊方向之其中一端部側與另一端部側。由第一開口部通往第二開口部之流體通路形成為繞過螺絲插通孔。
简体摘要：使设备构成良好地小型化或者集中化。在本发明之配管接头设置有：本体部、第一开口部、第二开口部及一对螺丝插通孔。本体部是略直方体状之构件，且具有接合面(以高度方向为法线且可对装设对象接合之平面)。第一开口部在接合面开口。第二开口部在本体部之长边方向之其中一端部开口。一对螺丝插通孔是挟着第一开口部而设置于本体部之长边方向之其中一端部侧与另一端部侧。由第一开口部通往第二开口部之流体通路形成为绕过螺丝插通孔。

4. 发明专利

TW201111043A 液體汽化系統审中-公开
简体标题：液体汽化系统
公开(公告)号：TW201111043A
公开(公告)日：2011-04-01
申请号：TW099120490
申请日：2010-06-23
申请人： CKD股份有限公司
发明人：纐纈雅之 , 板藤寬
IPC分类号： B01J , C23C
CPC分类号： B01B1/005
摘要：本發明提供一種能夠解決液體材料殘留問題並能促進液體材料汽化的液體汽化系統。液體汽化系統10設置有液體汽化裝置20。本裝置20包括泵11和汽化器12。汽化器12包括箱體21、設於箱體21內部的加熱器、通過加熱器加熱的蓄熱板23、及設於蓄熱板23上的篩網24。篩網24通過編織線材24a來形成且整體上呈平板狀。蓄熱板23的頂面層疊有篩網24，以在蓄熱板23上通過篩網24形成細微的凹凸。篩網24的上方設有噴嘴27，液體材料從該噴嘴27滴至蓄熱板23（篩網24）上。液體材料在蓄熱板23上擴散為薄膜狀並在蓄熱板23的頂面被加熱汽化。
简体摘要：本发明提供一种能够解决液体材料残留问题并能促进液体材料汽化的液体汽化系统。液体汽化系统10设置有液体汽化设备20。本设备20包括泵11和汽化器12。汽化器12包括箱体21、设于箱体21内部的加热器、通过加热器加热的蓄热板23、及设于蓄热板23上的筛网24。筛网24通过编织线材24a来形成且整体上呈平板状。蓄热板23的顶面层叠有筛网24，以在蓄热板23上通过筛网24形成细微的凹凸。筛网24的上方设有喷嘴27，液体材料从该喷嘴27滴至蓄热板23（筛网24）上。液体材料在蓄热板23上扩散为薄膜状并在蓄热板23的顶面被加热汽化。

5. 发明专利

TWI650499B 流路方塊及流體供給控制裝置有权
简体标题：流路方块及流体供给控制设备
公开(公告)号：TWI650499B
公开(公告)日：2019-02-11
申请号：TW103139407
申请日：2014-11-13
申请人： CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：加藤啓介 , KATOH, KEISUKE , 板藤寬 , ITAFUJI, HIROSHI , 三原由極 , MIHARA, YUKI , 廣瀨克憲 , HIROSE, KATSUNORI , 三輪敏一 , MIWA, TOSHIKAZU , 西田成伸 , NISHIDA, SHIGENOBU , 伊藤一壽 , ITOH, KAZUTOSHI
IPC分类号： F16K11/00

6. 发明专利

TWI427450B 溫度控制裝置有权
简体标题：温度控制设备
公开(公告)号：TWI427450B
公开(公告)日：2014-02-21
申请号：TW097112159
申请日：2008-04-03
申请人：東京電子股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED , CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：永関一也 , KAZUYA NAGASEKI , 小林義之 , YOSHIYUKI KOBAYASHI , 村上幸一 , KOICHI MURAKAMI , 野中龍 , RYO NONAKA , 須藤良久 , YOSHIHISA SUDOH , 板藤寬 , HIROSHI ITAFUJI , 国保典男 , NORIO KOKUBO
IPC分类号： G05D23/00
CPC分类号： G05D23/19

7. 发明专利

TWI421427B 流體控制閥有权
简体标题：流体控制阀
公开(公告)号：TWI421427B
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW098139006
申请日：2009-11-17
申请人： CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：國保典男 , KOKUBO, NORIO , 板藤寬 , ITAFUJI, HIROSHI , 廣瀨泰久 , HIROSE, YASUHISA
IPC分类号： F16K31/06 , F16K3/30
CPC分类号： F16K11/07 , F16K31/082 , Y10T137/8671

8. 发明专利

TW201232656A 液體氣化機审中-公开
简体标题：液体气化机
公开(公告)号：TW201232656A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：TW100133176
申请日：2011-09-15
申请人： CKD股份有限公司
发明人：纐纈雅之 , 板藤寬
IPC分类号： H01L
CPC分类号： C23C16/4482 , B01B1/00 , B01B1/005 , B01D1/14 , B01F3/022 , C23C14/24 , H01L21/67017
摘要：本發明提供一種使從藥液供給口供給之藥液氣化,以使之混合於媒體氣體之液體氣化機。液體氣化機包含有具有混合氣體生成空間之氣化機本體及配置於混合氣體生成空間內部之氣化部。氣化部具有形成有氣化面之氣化部本體及藉將線材有規則地編成網眼狀,而形成面狀之網狀體。網狀體形成有以線材包圍,並於網狀體之面內方向有規則地排列之複數網眼空間,氣化部形成有藉網狀體與氣化面相互抵接,而以線材與氣化面包圍,並於網狀體之面內方向有規則地排列之複數藥液供給空間。
简体摘要：本发明提供一种使从药液供给口供给之药液气化,以使之混合于媒体气体之液体气化机。液体气化机包含有具有混合气体生成空间之气化机本体及配置于混合气体生成空间内部之气化部。气化部具有形成有气化面之气化部本体及藉将线材有守则地编成网眼状,而形成面状之网状体。网状体形成有以线材包围,并于网状体之面内方向有守则地排列之复数网眼空间,气化部形成有藉网状体与气化面相互抵接,而以线材与气化面包围,并于网状体之面内方向有守则地排列之复数药液供给空间。

9. 发明专利

TWI358508B 氣體供給單元及氣體供給系統失效
简体标题：气体供给单元及气体供给系统
公开(公告)号：TWI358508B
公开(公告)日：2012-02-21
申请号：TW095119656
申请日：2006-06-02
申请人： CKD股份有限公司 , 東京電子股份有限公司
发明人：守谷修司 , 長岡秀樹 , 岡部庸之 , 板藤寬 , 土居廣樹 , 伊藤稔
IPC分类号： F17C , H01L
摘要：提供一種小型且低價的氣體供給單元及氣體供給系統，配設於作用氣體輸送管路上，複數個流體控制機器2~6、9經由流路塊12~17連通而控制作用氣體，該氣體供給單元11A包括將複數個流體控制機器中的入口開閉閥4安裝於其一側面的第一流路塊14，以及將複數個流體控制機器中的排氣閥9安裝於其一側面的第二流路塊17，該第一流路塊14與該第二流路塊17相對於作用氣體搬運方向以垂直方向堆疊，入口開閉閥4與排氣閥9係配設於設於作用氣體搬運管路上的質量流量控制器5與安裝氣體供給單元11A的安裝面之間。
简体摘要：提供一种小型且低价的气体供给单元及气体供给系统，配设于作用气体输送管路上，复数个流体控制机器2~6、9经由流路块12~17连通而控制作用气体，该气体供给单元11A包括将复数个流体控制机器中的入口开闭阀4安装於其一侧面的第一流路块14，以及将复数个流体控制机器中的排气阀9安装於其一侧面的第二流路块17，该第一流路块14与该第二流路块17相对于作用气体搬运方向以垂直方向堆栈，入口开闭阀4与排气阀9系配设于设于作用气体搬运管路上的质量流量控制器5与安装气体供给单元11A的安装面之间。

10. 发明专利

TWI651486B 流體供給控制裝置有权
简体标题：流体供给控制设备
公开(公告)号：TWI651486B
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：TW103139401
申请日：2014-11-13
申请人： CKD股份有限公司 , CKD CORPORATION
发明人：加藤啓介 , KATOH, KEISUKE , 板藤寬 , ITAFUJI, HIROSHI , 三原由極 , MIHARA, YUKI , 廣瀨克憲 , HIROSE, KATSUNORI , 三輪敏一 , MIWA, TOSHIKAZU , 西田成伸 , NISHIDA, SHIGENOBU , 伊藤一壽 , ITOH, KAZUTOSHI
IPC分类号： F16K11/10

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式