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    • 2. 发明专利
    • 氣體供給單元及氣體供給系統
    • 气体供给单元及气体供给系统
    • TWI358508B
    • 2012-02-21
    • TW095119656
    • 2006-06-02
    • CKD股份有限公司東京電子股份有限公司
    • 守谷修司長岡秀樹岡部庸之板藤寬土居廣樹伊藤稔
    • F17CH01L
    • 提供一種小型且低價的氣體供給單元及氣體供給系統,配設於作用氣體輸送管路上,複數個流體控制機器2~6、9經由流路塊12~17連通而控制作用氣體,該氣體供給單元11A包括將複數個流體控制機器中的入口開閉閥4安裝於其一側面的第一流路塊14,以及將複數個流體控制機器中的排氣閥9安裝於其一側面的第二流路塊17,該第一流路塊14與該第二流路塊17相對於作用氣體搬運方向以垂直方向堆疊,入口開閉閥4與排氣閥9係配設於設於作用氣體搬運管路上的質量流量控制器5與安裝氣體供給單元11A的安裝面之間。
    • 提供一种小型且低价的气体供给单元及气体供给系统,配设于作用气体输送管路上,复数个流体控制机器2~6、9经由流路块12~17连通而控制作用气体,该气体供给单元11A包括将复数个流体控制机器中的入口开闭阀4安装於其一侧面的第一流路块14,以及将复数个流体控制机器中的排气阀9安装於其一侧面的第二流路块17,该第一流路块14与该第二流路块17相对于作用气体搬运方向以垂直方向堆栈,入口开闭阀4与排气阀9系配设于设于作用气体搬运管路上的质量流量控制器5与安装气体供给单元11A的安装面之间。
    • 9. 发明专利
    • 隔膜閥
    • 隔膜阀
    • TW201807337A
    • 2018-03-01
    • TW106125483
    • 2017-07-28
    • CKD股份有限公司CKD CORPORATION
    • 板藤寬ITAFUJI, HIROSHI纐纈雅之KOUKETSU, MASAYUKI
    • F16K7/16
    • F16K7/17F16K41/12
    • 一種隔膜閥,具備形成有流體的流路及閥室之殼體、在殼體中環狀地設置在流路相對於閥室之開口的周圍之閥座、將閥室區劃為流體之流路與非流路並對閥座抵接及遠離之樹脂製的隔膜閥體、連接於隔膜閥體,且朝為接近及遠離閥座的方向之預定方向往復動作的往復動作構件、將力施加在往復動作構件而將隔膜閥體朝閥座按壓的按壓部、及藉由金屬形成為薄板狀且朝預定方向貫穿之限制構件,該限制構件是安裝在往復動作構件的外緣,並朝預定方向變形以容許往復動作構件的往復動作,且限制往復動作構件往垂直於預定方向之方向的移動。
    • 一种隔膜阀,具备形成有流体的流路及阀室之壳体、在壳体中环状地设置在流路相对于阀室之开口的周围之阀座、将阀室区划为流体之流路与非流路并对阀座抵接及远离之树脂制的隔膜阀体、连接于隔膜阀体,且朝为接近及远离阀座的方向之预定方向往复动作的往复动作构件、将力施加在往复动作构件而将隔膜阀体朝阀座按压的按压部、及借由金属形成为薄板状且朝预定方向贯穿之限制构件,该限制构件是安装在往复动作构件的外缘,并朝预定方向变形以容许往复动作构件的往复动作,且限制往复动作构件往垂直于预定方向之方向的移动。