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1. 发明专利

TW201300964A 微影裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：微影设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW201300964A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW101108510
申请日：2012-03-13
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：沃格赫曼 , VOGEL, HERMAN , 勾森傑若恩杰若德 , GOSEN, JEROEN GERARD , 帕休斯巴特迪南 , PAARHUIS, BART DINAND , 凡波克特法蘭克喬漢斯賈柏斯 , VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS , 李景高 , LI, JINGGAO
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70908 , G03F7/70866
摘要：在一實施例中，一種裝置具有：一圖案化元件支撐件，其包括具有一第一流動限定表面之一第一平面器件；一第二平面器件，其包括面對該第一流動限定表面之一第二流動限定表面；一支撐件驅動器，其用以沿著某一方向相對於該第二平面器件線性地移動該支撐件，其中該第一流動限定表面及/或該第二流動限定表面具有在該第一流動限定表面與該第二流動限定表面之間的一或多個突出物及/或凹部，且其中該第一流動限定表面及/或該第二流動限定表面上之該突出物及/或凹部經配置以在垂直於流動之該第一流動限定表面及/或該第二流動限定表面之每單位寬度提供一流動阻力，相比於抵制垂直於該某一方向之流動之該流動阻力，抵制平行於該某一方向之流動之該流動阻力較低。該等流動限定表面可將氣流引導至產生熱之一驅動器部件上。
简体摘要：在一实施例中，一种设备具有：一图案化组件支撑件，其包括具有一第一流动限定表面之一第一平面器件；一第二平面器件，其包括面对该第一流动限定表面之一第二流动限定表面；一支撑件驱动器，其用以沿着某一方向相对于该第二平面器件线性地移动该支撑件，其中该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面具有在该第一流动限定表面与该第二流动限定表面之间的一或多个突出物及/或凹部，且其中该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面上之该突出物及/或凹部经配置以在垂直于流动之该第一流动限定表面及/或该第二流动限定表面之每单位宽度提供一流动阻力，相比于抵制垂直于该某一方向之流动之该流动阻力，抵制平行于该某一方向之流动之该流动阻力较低。该等流动限定表面可将气流引导至产生热之一驱动器部件上。

2. 发明专利

TW201435518A 在光罩載台環境中之氣流最佳化审中-公开
简体标题：在光罩载台环境中之气流最优化
公开(公告)号：TW201435518A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW103105692
申请日：2014-02-20
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：賽伯斯科恩 , CUYPERS, KOEN , 迪安得烈歐力拉瑪切洛亨利克 , DE ANDRADE OLIVEIRA, MARCELO HENRIQUE , 瑞米瑪里努斯珍 , REMIE, MARINUS JAN , 席恩查泰博 , SINGH, CHATTARBIR , 凡柏克哈文羅倫堤斯約翰納斯安卓那斯 , VAN BOKHOVEN, LAURENTIUS JOHANNES ADRIANUS , 范戴凡亨利可思安妮塔橋瑟夫威西莫司 , VAN DE VEN, HENRICUS ANITA JOZEF WILHEMUS , 風賽卡裘尼爾荷西倪爾頓 , FONSECA JUNIOR, JOSE NILTON , 凡波克特法蘭克喬漢斯賈柏斯 , VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS , 波本克丹尼爾奈森 , BURBANK, DANIEL NATHAN , 洛卜史塔艾瑞克羅勒夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 昂夫里喬漢斯 , ONVLEE, JOHANNES , 史雀司特馬克喬瑟夫 , SCHUSTER, MARK JOSEF , 范巴利高伊羅博特尼可丹賈庫巴 , VAN BALLEGOIJ, ROBERTUS NICODEMUS JACOBUS , 華德克里斯多弗查爾斯 , WARD, CHRISTOPHER CHARLES , 威斯特雷肯禎史蒂芬克里斯丁 , WESTERLAKEN, JAN STEVEN CHRISTIAAN
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70358 , G03F7/70633 , G03F7/70725 , G03F7/70866
摘要：本發明揭示一種用於藉由控制圍繞一微影裝置之一圖案化器件之氣流來縮減疊對誤差的系統。該微影裝置包括一照明系統，該照明系統經組態以調節一輻射光束。該微影裝置進一步包括一可移動載台，該可移動載台包含一支撐結構，該支撐結構可經組態以支撐一圖案化器件。該圖案化器件可經組態以在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束。另外，該微影裝置包含一板，該板定位於該可移動載台與投影系統之間。該板包括一開口，該開口包含一第一側壁及一第二側壁。該板可經組態以在該可移動載台與該投影系統之間的一區中提供一氣體流型，該氣體流型實質上垂直於該照明系統之一光軸。
简体摘要：本发明揭示一种用于借由控制围绕一微影设备之一图案化器件之气流来缩减叠对误差的系统。该微影设备包括一照明系统，该照明系统经组态以调节一辐射光束。该微影设备进一步包括一可移动载台，该可移动载台包含一支撑结构，该支撑结构可经组态以支撑一图案化器件。该图案化器件可经组态以在该辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束。另外，该微影设备包含一板，该板定位于该可移动载台与投影系统之间。该板包括一开口，该开口包含一第一侧壁及一第二侧壁。该板可经组态以在该可移动载台与该投影系统之间的一区中提供一气体流型，该气体流型实质上垂直于该照明系统之一光轴。

4. 发明专利

TWI434146B 微影裝置及利用微影裝置製造元件之方法有权
简体标题：微影设备及利用微影设备制造组件之方法
公开(公告)号：TWI434146B
公开(公告)日：2014-04-11
申请号：TW100108175
申请日：2011-03-10
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V. , ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V.
发明人：勾森傑若恩杰若德 , GOSEN, JEROEN GERARD , 凡得烈安東尼奧喬漢那 , VAN DER NET, ANTONIUS JOHANNUS , 帕休斯巴特迪南 , PAARHUIS, BART DINAND , 凡波克特法蘭克喬漢斯賈柏斯 , VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS , 李景高 , LI, JINGGAO
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70916

5. 发明专利

TWI465860B 微影裝置及元件製造方法有权
简体标题：微影设备及组件制造方法
公开(公告)号：TWI465860B
公开(公告)日：2014-12-21
申请号：TW101108510
申请日：2012-03-13
申请人： ASML控股公司 , ASML HOLDING N.V. , ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：沃格赫曼 , VOGEL, HERMAN , 勾森傑若恩杰若德 , GOSEN, JEROEN GERARD , 帕休斯巴特迪南 , PAARHUIS, BART DINAND , 凡波克特法蘭克喬漢斯賈柏斯 , VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS , 李景高 , LI, JINGGAO
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70908 , G03F7/70866

8. 发明专利

TW201308024A 基板台總成，浸潤式微影裝置及器件製造方法审中-公开
简体标题：基板台总成，浸润式微影设备及器件制造方法
公开(公告)号：TW201308024A
公开(公告)日：2013-02-16
申请号：TW101128497
申请日：2012-08-07
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：庫尼約翰葛卓迪斯寇尼里斯 , KUNNEN, JOHAN GERTRUDIS CORNELIS , 賈庫博喬漢斯亨利哈斯威廉瑪斯 , JACOBS, JOHANNES HENRICUS WILHELMUS , 豪班馬提恩 , HOUBEN, MARTIJN , 勞倫帝寶賽門馬修 , LAURENT, THIBAULT SIMON MATHIEU , 凡波克特法蘭克喬漢斯賈柏斯 , VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS , 德可山多卡特琳娜雷納 , DERKS, SANDER CATHARINA REINIER , 當德斯史喬德尼可拉斯藍伯特斯 , DONDERS, SJOERD NICOLAAS LAMBERTUS
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70875 , H01L21/683
摘要：本發明揭示一種基板台總成、一種浸潤式微影裝置，及一種器件製造方法。該基板台總成包括：一基板台，其用以支撐一基板；及一氣體處置系統，其用以將一氣體提供至該基板台與安裝於該基板台上之一基板之間的一區，其中藉由該氣體處置系統提供之該氣體具有在298K下大於或等於100mW/(m.K)之一熱導率。
简体摘要：本发明揭示一种基板台总成、一种浸润式微影设备，及一种器件制造方法。该基板台总成包括：一基板台，其用以支撑一基板；及一气体处置系统，其用以将一气体提供至该基板台与安装于该基板台上之一基板之间的一区，其中借由该气体处置系统提供之该气体具有在298K下大于或等于100mW/(m.K)之一热导率。

9. 发明专利

TW201643560A 微影設備审中-公开
简体标题：微影设备
公开(公告)号：TW201643560A
公开(公告)日：2016-12-16
申请号：TW105111907
申请日：2016-04-15
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：奈其巴格魯葛尼斯 , 霍爾查思特馬汀 , HOLTRUST, MAARTEN , 凡度吉哈維馬丁納斯 , VAN DUIJNHOVEN, MARTINUS , 法尼法蘭西斯 , FAHRNI, FRANCIS , 凡波克特法蘭克喬漢斯賈柏斯 , VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS , 奎斯特安妮威廉密俊博丁寧 , QUIST, ANNE WILLEMIJN BERTINE , 帕休斯巴特迪南 , PAARHUIS, BART DINAND , 凡尚默任丹丹尼爾喬納斯安東尼斯 , VAN SOMMEREN, DAAN DANIEL JOHANNES ANTONIUS
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/709
摘要：一種微影設備，其具有：- 一導管，一氣體可流動通過該導管；- 一氣體移動器，其經組態以使該氣體在該導管中流動；- 一壁，其與該導管中之該氣體接觸且在其中界定一隔膜孔隙；及- 一濾聲器，其包含固定於該隔膜孔隙中之一可撓性隔膜。該濾聲器在不添加任何流阻的情況下縮減聲干擾之透射。
简体摘要：一种微影设备，其具有：- 一导管，一气体可流动通过该导管；- 一气体移动器，其经组态以使该气体在该导管中流动；- 一壁，其与该导管中之该气体接触且在其中界定一隔膜孔隙；及- 一滤声器，其包含固定于该隔膜孔隙中之一可挠性隔膜。该滤声器在不添加任何流阻的情况下缩减声干扰之透射。

10. 发明专利

TW201610598A 微影設備與方法审中-公开
简体标题：微影设备与方法
公开(公告)号：TW201610598A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104122211
申请日：2015-07-08
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：奈其巴格魯葛尼斯 , 寇熹俊斯蘇珊娜裘漢娜安東內塔吉兒圖塔 , COSIJNS, SUZANNE JOHANNA ANTONETTA GEERTRUDA , 奎斯特安妮威廉密俊博丁寧 , QUIST, ANNE WILLEMIJN BERTINE , 索斯奈克傑斯路克路卡斯拉底索 , SOSNIAK, JASZCZUK LUKASZ WLADYSLAW , 凡波克特法蘭克喬漢斯賈柏斯 , VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS , 凡德派希英格伯特斯安東尼斯法蘭西斯寇斯 , VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCU
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70775 , G03F7/709
摘要：一種微影設備，其包含一光學感測器、一可移動本體、一支撐件、一偏轉器系統、一第一驅動系統及一第二驅動系統。該可移動本體相對於該感測器可移動。該支撐件係用於固持該感測器。該第一驅動系統經配置以相對於該感測器來移動該可移動本體。該第二驅動系統經配置以相對於該感測器來移動該第一驅動系統。該第二驅動系統經配置以相對於該感測器來移動該偏轉器系統。一干擾係由該可移動本體之一移動誘發。該偏轉器系統經配置以產生用於將該干擾反射遠離該支撐件之一偏轉區域。
简体摘要：一种微影设备，其包含一光学传感器、一可移动本体、一支撑件、一偏转器系统、一第一驱动系统及一第二驱动系统。该可移动本体相对于该传感器可移动。该支撑件系用于固持该传感器。该第一驱动系统经配置以相对于该传感器来移动该可移动本体。该第二驱动系统经配置以相对于该传感器来移动该第一驱动系统。该第二驱动系统经配置以相对于该传感器来移动该偏转器系统。一干扰系由该可移动本体之一移动诱发。该偏转器系统经配置以产生用于将该干扰反射远离该支撑件之一偏转区域。

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