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2. 发明专利

TW201708976A 位置量測系統及微影裝置审中-公开
简体标题：位置量测系统及微影设备
公开(公告)号：TW201708976A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105120832
申请日：2016-06-30
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：凡德派希英格伯特斯安東尼斯法蘭西斯寇斯 , VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCU , 屋森艾蜜爾喬瑟夫米蘭尼 , EUSSEN, EMIEL JOZEF MELANIE , 范里溫羅博特愛德格 , VAN LEEUWEN, ROBBERT EDGAR
IPC分类号： G03F7/22
CPC分类号： G03F7/70775 , G01B9/02018 , G01B9/02027
摘要：本發明係關於一種用以量測一物件相對於一參考件之一位置之位置量測系統，該位置量測系統包含兩個干涉計，其中每一干涉計經組態以自輸入輻射形成一參考光束及一量測光束，且組合該參考光束及該量測光束以提供待遞送至一偵測器之輸出輻射，其中每一干涉計經組態成使得該參考光束係由輸入輻射自一反射元件之反射形成，且使得該量測光束係由輸入輻射自該物件上之一光柵之繞射形成，且其中該參考光束及該量測光束彼此平行。
简体摘要：本发明系关于一种用以量测一对象相对于一参考件之一位置之位置量测系统，该位置量测系统包含两个干涉计，其中每一干涉计经组态以自输入辐射形成一参考光束及一量测光束，且组合该参考光束及该量测光束以提供待递送至一侦测器之输出辐射，其中每一干涉计经组态成使得该参考光束系由输入辐射自一反射组件之反射形成，且使得该量测光束系由输入辐射自该对象上之一光栅之绕射形成，且其中该参考光束及该量测光束彼此平行。

3. 发明专利

TW201610598A 微影設備與方法审中-公开
简体标题：微影设备与方法
公开(公告)号：TW201610598A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104122211
申请日：2015-07-08
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：奈其巴格魯葛尼斯 , 寇熹俊斯蘇珊娜裘漢娜安東內塔吉兒圖塔 , COSIJNS, SUZANNE JOHANNA ANTONETTA GEERTRUDA , 奎斯特安妮威廉密俊博丁寧 , QUIST, ANNE WILLEMIJN BERTINE , 索斯奈克傑斯路克路卡斯拉底索 , SOSNIAK, JASZCZUK LUKASZ WLADYSLAW , 凡波克特法蘭克喬漢斯賈柏斯 , VAN BOXTEL, FRANK JOHANNES JACOBUS , 凡德派希英格伯特斯安東尼斯法蘭西斯寇斯 , VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCU
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70775 , G03F7/709
摘要：一種微影設備，其包含一光學感測器、一可移動本體、一支撐件、一偏轉器系統、一第一驅動系統及一第二驅動系統。該可移動本體相對於該感測器可移動。該支撐件係用於固持該感測器。該第一驅動系統經配置以相對於該感測器來移動該可移動本體。該第二驅動系統經配置以相對於該感測器來移動該第一驅動系統。該第二驅動系統經配置以相對於該感測器來移動該偏轉器系統。一干擾係由該可移動本體之一移動誘發。該偏轉器系統經配置以產生用於將該干擾反射遠離該支撐件之一偏轉區域。
简体摘要：一种微影设备，其包含一光学传感器、一可移动本体、一支撑件、一偏转器系统、一第一驱动系统及一第二驱动系统。该可移动本体相对于该传感器可移动。该支撑件系用于固持该传感器。该第一驱动系统经配置以相对于该传感器来移动该可移动本体。该第二驱动系统经配置以相对于该传感器来移动该第一驱动系统。该第二驱动系统经配置以相对于该传感器来移动该偏转器系统。一干扰系由该可移动本体之一移动诱发。该偏转器系统经配置以产生用于将该干扰反射远离该支撑件之一偏转区域。

4. 发明专利

TW201714022A 位置量測系統、干涉計及微影裝置审中-公开
简体标题：位置量测系统、干涉计及微影设备
公开(公告)号：TW201714022A
公开(公告)日：2017-04-16
申请号：TW105124820
申请日：2016-08-04
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：凡德派希英格伯特斯安東尼斯法蘭西斯寇斯 , VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCU , 范里溫羅博特愛德格 , VAN LEEUWEN, ROBBERT EDGAR
IPC分类号： G03F7/20 , G01B9/02
CPC分类号： G03F7/70775 , G01B9/02061 , G01B11/026 , G01B11/26
摘要：本發明提供一種位置量測系統，其包含具有一反射表面之一物件，及用於判定該物件之一位置之一干涉計。該反射表面具有一第一區域、一第二區域及一第三區域。該干涉計經配置以藉由輻照該第一區域而產生表示該位置之一第一信號。該干涉計經配置以藉由輻照該第二區域而產生表示該位置之一第二信號。該干涉計經配置以藉由輻照該第三區域而產生表示該位置之一第三信號。沿著一線，該第一區域與該第二區域相對於彼此相隔一第一距離。沿著該線，該第二區域與該第三區域相對於彼此相隔一第二距離。沿著該線，該第一區域與該第三區域相對於彼此相隔一第三距離。該干涉計經配置以基於該第一信號、該第二信號及該第三信號而提供表示該物件沿著一軸線之一旋轉的一旋轉信號。該軸線平行於該反射表面且垂直於該線。
简体摘要：本发明提供一种位置量测系统，其包含具有一反射表面之一对象，及用于判定该对象之一位置之一干涉计。该反射表面具有一第一区域、一第二区域及一第三区域。该干涉计经配置以借由辐照该第一区域而产生表示该位置之一第一信号。该干涉计经配置以借由辐照该第二区域而产生表示该位置之一第二信号。该干涉计经配置以借由辐照该第三区域而产生表示该位置之一第三信号。沿着一线，该第一区域与该第二区域相对于彼此相隔一第一距离。沿着该线，该第二区域与该第三区域相对于彼此相隔一第二距离。沿着该线，该第一区域与该第三区域相对于彼此相隔一第三距离。该干涉计经配置以基于该第一信号、该第二信号及该第三信号而提供表示该对象沿着一轴线之一旋转的一旋转信号。该轴线平行于该反射表面且垂直于该线。

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