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    • 10. 发明专利
    • 微影裝置及微影裝置冷卻方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COOLING METHOD
    • 微影设备及微影设备冷却方法 LITHOGRAPHIC APPARATUS AND LITHOGRAPHIC APPARATUS COOLING METHOD
    • TW201207573A
    • 2012-02-16
    • TW100119432
    • 2011-06-02
    • ASML荷蘭公司
    • 當德斯 史喬德 尼可拉斯 藍伯特斯
    • G03F
    • G03F7/70858F28D15/0266F28F27/00
    • 本發明係關於一種微影裝置,該微影裝置包含:一照明系統,該照明系統經組態以調節一輻射光束;一支撐件,該支撐件經建構以支撐一圖案化元件,該圖案化元件能夠在該輻射光束之橫截面中向該輻射光束賦予一圖案以形成一經圖案化輻射光束;一基板台,該基板台經建構以固持一基板;一投影系統,該投影系統經組態以將該經圖案化輻射光束投影至該基板之一目標部分上;及一冷卻系統,該冷卻系統用於以增加之冷卻能力來冷卻該微影裝置之一部件以減少自該裝置之該部件至該裝置之其他部件的熱轉移。
    • 本发明系关于一种微影设备,该微影设备包含:一照明系统,该照明系统经组态以调节一辐射光束;一支撑件,该支撑件经建构以支撑一图案化组件,该图案化组件能够在该辐射光束之横截面中向该辐射光束赋予一图案以形成一经图案化辐射光束;一基板台,该基板台经建构以固持一基板;一投影系统,该投影系统经组态以将该经图案化辐射光束投影至该基板之一目标部分上;及一冷却系统,该冷却系统用于以增加之冷却能力来冷却该微影设备之一部件以减少自该设备之该部件至该设备之其他部件的热转移。