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1. 发明专利

TW201420705A 改性氧化矽組成物审中-公开
简体标题：改性氧化硅组成物
公开(公告)号：TW201420705A
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW102129950
申请日：2013-08-20
申请人： ADEKA股份有限公司 , ADEKA CORPORATION
发明人：本間剛 , HONMA, GO , 近藤圭英 , KONDO, YOSHIHIDE , 白井博明 , SHIRAI, HIROAKI
IPC分类号： C09D7/12 , C08K9/04 , C09C1/28 , C09C3/08 , C01B33/146 , C09D201/02
CPC分类号： C08K9/04 , C01B33/18 , C01P2006/60 , C08K5/19 , C09C1/3063 , C09C1/3072
摘要：本發明之課題在於提供一種藉由添加於樹脂組成物中，可使該樹脂組成物之耐擦傷性提升且同時維持樹脂之透明性，且，將該樹脂組成物塗布於膜等之薄膜時之膜之翹曲為少之改性氧化矽組成物。為解決上述課題，提供一種氧化矽組成物，其特徵為含有下述一般式(1)所表示之化合物(A)、及丙烯醯基或甲基丙烯醯基改性氧化矽粒子(B)。式中，X-表示鹵素離子或甲基硫酸離子，R1~R4係各自獨立表示碳數1~36之烴基，或具有選自酯基、醯胺基及羥基之任意一種以上之取代基之碳數1~36之烴基，或下述一般式(2)所表示之聚醚基。但，R1~R4之至少一個必須為下述一般式(2)所表示之聚醚基。式中，m表示1~100之數，R5表示碳數2~4之伸烷基。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种借由添加于树脂组成物中，可使该树脂组成物之耐擦伤性提升且同时维持树脂之透明性，且，将该树脂组成物涂布于膜等之薄膜时之膜之翘曲为少之改性氧化硅组成物。为解决上述课题，提供一种氧化硅组成物，其特征为含有下述一般式(1)所表示之化合物(A)、及丙烯酰基或甲基丙烯酰基改性氧化硅粒子(B)。式中，X-表示卤素离子或甲基硫酸离子，R1~R4系各自独立表示碳数1~36之烃基，或具有选自酯基、酰胺基及羟基之任意一种以上之取代基之碳数1~36之烃基，或下述一般式(2)所表示之聚醚基。但，R1~R4之至少一个必须为下述一般式(2)所表示之聚醚基。式中，m表示1~100之数，R5表示碳数2~4之伸烷基。

2. 发明专利

TWI375706B 光安定劑乳化組成物 LIGHT STABILIZER EMULSION COMPOSITION 有权
简体标题：光安定剂乳化组成物 LIGHT STABILIZER EMULSION COMPOSITION
公开(公告)号：TWI375706B
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：TW095103540
申请日：2006-01-27
申请人： ADEKA股份有限公司
发明人：保坂將毅 , 本間正敏 , 近藤圭英
IPC分类号： C09D , C08L
CPC分类号： B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5245 , B41M5/5254 , C08K5/005 , C08K5/3435 , C09D5/024 , C09D11/38 , D21H19/44 , D21H21/143 , D21H21/52 , C08L71/02
摘要：本發明之目的在於提供一種長期保存安定性良好、且即使添加於水性塗布劑組成物中，亦不使所形成之塗膜的各物性劣化之光安定劑乳化組成物以及含有該光安定劑乳化組成物之水性塗布劑組成物。
本發明之光安定劑乳化組成物，係含有水、乳化劑、光安定劑及/或紫外線吸收劑，其特徵在於：構成光安定劑乳化組成物之成分的平均粒徑為150nm以下。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种长期保存安定性良好、且即使添加于水性涂布剂组成物中，亦不使所形成之涂膜的各物性劣化之光安定剂乳化组成物以及含有该光安定剂乳化组成物之水性涂布剂组成物。本发明之光安定剂乳化组成物，系含有水、乳化剂、光安定剂及/或紫外线吸收剂，其特征在于：构成光安定剂乳化组成物之成分的平均粒径为150nm以下。

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