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1. 发明专利

TWI375706B 光安定劑乳化組成物 LIGHT STABILIZER EMULSION COMPOSITION 有权
简体标题：光安定剂乳化组成物 LIGHT STABILIZER EMULSION COMPOSITION
公开(公告)号：TWI375706B
公开(公告)日：2012-11-01
申请号：TW095103540
申请日：2006-01-27
申请人： ADEKA股份有限公司
发明人：保坂將毅 , 本間正敏 , 近藤圭英
IPC分类号： C09D , C08L
CPC分类号： B41M5/52 , B41M5/5218 , B41M5/5245 , B41M5/5254 , C08K5/005 , C08K5/3435 , C09D5/024 , C09D11/38 , D21H19/44 , D21H21/143 , D21H21/52 , C08L71/02
摘要：本發明之目的在於提供一種長期保存安定性良好、且即使添加於水性塗布劑組成物中，亦不使所形成之塗膜的各物性劣化之光安定劑乳化組成物以及含有該光安定劑乳化組成物之水性塗布劑組成物。
本發明之光安定劑乳化組成物，係含有水、乳化劑、光安定劑及/或紫外線吸收劑，其特徵在於：構成光安定劑乳化組成物之成分的平均粒徑為150nm以下。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种长期保存安定性良好、且即使添加于水性涂布剂组成物中，亦不使所形成之涂膜的各物性劣化之光安定剂乳化组成物以及含有该光安定剂乳化组成物之水性涂布剂组成物。本发明之光安定剂乳化组成物，系含有水、乳化剂、光安定剂及/或紫外线吸收剂，其特征在于：构成光安定剂乳化组成物之成分的平均粒径为150nm以下。

2. 发明专利

TWI332860B 光阻顯像液用消泡分散劑失效
简体标题：光阻显像液用消泡分散剂
公开(公告)号：TWI332860B
公开(公告)日：2010-11-11
申请号：TW092129216
申请日：2003-10-22
申请人： ADEKA股份有限公司
发明人：保坂將毅 , 川俣大雅
IPC分类号： B01F
摘要：本發明係為一種光阻顯像液用消泡分散劑，其特徵係為提供在使用顯像液的影像光阻劑顯像過程中，對於顯像液的發泡情形有顯著優越的消泡性，且對於在顯像液中所產生之沉澱物之分散性亦良好。實施方式：針對與碳元素15以上之高級脂肪酸100質量部成比率為5~300之質量部碳元素6~14的中級脂肪酸的混合脂肪酸，與含有能反應脂肪族3元醇之部分脂肪酸酯為特徵之光阻顯像液用消泡劑。
简体摘要：本发明系为一种光阻显像液用消泡分散剂，其特征系为提供在使用显像液的影像光阻剂显像过程中，对于显像液的发泡情形有显着优越的消泡性，且对于在显像液中所产生之沉淀物之分散性亦良好。实施方式：针对与碳元素15以上之高级脂肪酸100质量部成比率为5~300之质量部碳元素6~14的中级脂肪酸的混合脂肪酸，与含有能反应脂肪族3元醇之部分脂肪酸酯为特征之光阻显像液用消泡剂。

3. 发明专利

TWI627229B 難燃劑組成物、以難燃劑組成物處理的難燃性纖維及藉由該組成物增加難燃成分對纖維的定著量之方法有权
简体标题：难燃剂组成物、以难燃剂组成物处理的难燃性纤维及借由该组成物增加难燃成分对纤维的定着量之方法
公开(公告)号：TWI627229B
公开(公告)日：2018-06-21
申请号：TW103112151
申请日：2014-04-01
申请人： ADEKA股份有限公司 , ADEKA CORPORATION
发明人：高田昌宏 , TAKATA, MASAHIRO , 本間剛 , HOMMA, GO , 白井博明 , SHIRAI, HIROAKI , 保坂將毅 , HOSAKA, MASAKI
IPC分类号： C08L71/02 , C08G65/00 , C08K5/521 , C08K5/53 , C08K5/17 , C09K21/12 , D06M15/53 , D06M13/285 , D06M13/292 , D06M13/463

4. 发明专利

TW201500451A 難燃劑組成物、以難燃劑組成物處理的難燃性纖維及藉由該組成物增加難燃成分對纖維的定著量之方法审中-公开
简体标题：难燃剂组成物、以难燃剂组成物处理的难燃性纤维及借由该组成物增加难燃成分对纤维的定着量之方法
公开(公告)号：TW201500451A
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW103112151
申请日：2014-04-01
申请人： ADEKA股份有限公司 , ADEKA CORPORATION
发明人：高田昌宏 , TAKATA, MASAHIRO , 本間剛 , HOMMA, GO , 白井博明 , SHIRAI, HIROAKI , 保坂將毅 , HOSAKA, MASAKI
IPC分类号： C08L71/02 , C08G65/00 , C08K5/521 , C08K5/53 , C08K5/17 , C09K21/12 , D06M15/53 , D06M13/285 , D06M13/292 , D06M13/463
CPC分类号： C09K21/12 , C09K21/14 , D06M13/285 , D06M13/288 , D06M13/292 , D06M13/295 , D06M13/313 , D06M13/325 , D06M13/463 , D06M15/53 , D06M2200/30
摘要：本發明係以提供一種與以往所使用之難燃劑組成物相比較，對纖維的難燃成分的定著量更多之難燃劑組成物為目的。為了達成上述目的，本發明係提供一種含有下述一般式(1)或(2)所示之磷化合物之至少一種、陽離子界面活性劑及非離子界面活性劑之難燃劑組成物。 (式中，A表示碳原子數1~20之二價之烴基，n表示1~10之數，R1~R8分別獨立表示氫原子、或碳數1~20之烷基)。 (式中，R9~R14分別獨立表示氫原子、或碳數1~20之烷基，又，r1、r2、r3分別獨立表示1、或0之數)。
简体摘要：本发明系以提供一种与以往所使用之难燃剂组成物相比较，对纤维的难燃成分的定着量更多之难燃剂组成物为目的。为了达成上述目的，本发明系提供一种含有下述一般式(1)或(2)所示之磷化合物之至少一种、阳离子界面活性剂及非离子界面活性剂之难燃剂组成物。 (式中，A表示碳原子数1~20之二价之烃基，n表示1~10之数，R1~R8分别独立表示氢原子、或碳数1~20之烷基)。 (式中，R9~R14分别独立表示氢原子、或碳数1~20之烷基，又，r1、r2、r3分别独立表示1、或0之数)。

5. 发明专利

TWI346836B 光阻組成物 PHOTORESIST COMPOSITION 失效
简体标题：光阻组成物 PHOTORESIST COMPOSITION
公开(公告)号：TWI346836B
公开(公告)日：2011-08-11
申请号：TW093130888
申请日：2004-10-12
申请人： ADEKA股份有限公司
发明人：保坂將毅 , 本間正敏
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0392
摘要：本發明係以含有，(A)成份為以下述一般式(1)表示之聚醚酯、(B)成份為具有陰離子性基之鹼可溶性樹脂或其改性物為特徵之光阻組成物。
[RCOO(AO)a]mX[O(AO')bH]n(1)
(式中，RCO為由碳數6~22之脂肪酸去除羥基的殘基,；X為由具有至少三個羥基之多醇去除羥基的殘基；AO及AO'為碳數2~4之氧伸烷基；a為0或1以上之數；b為1以上之數；m及n為1以上之數；但，m及n之合計，與上述多醇的羥基之數相等。)
简体摘要：本发明系以含有，(A)成份为以下述一般式(1)表示之聚醚酯、(B)成份为具有阴离子性基之碱可溶性树脂或其改性物为特征之光阻组成物。 [RCOO(AO)a]mX[O(AO')bH]n(1) (式中，RCO为由碳数6~22之脂肪酸去除羟基的残基,；X为由具有至少三个羟基之多醇去除羟基的残基；AO及AO'为碳数2~4之氧伸烷基；a为0或1以上之数；b为1以上之数；m及n为1以上之数；但，m及n之合计，与上述多醇的羟基之数相等。)

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