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    • 3. 发明专利
    • 改性氧化矽組成物
    • 改性氧化硅组成物
    • TW201420705A
    • 2014-06-01
    • TW102129950
    • 2013-08-20
    • ADEKA股份有限公司ADEKA CORPORATION
    • 本間剛HONMA, GO近藤圭英KONDO, YOSHIHIDE白井博明SHIRAI, HIROAKI
    • C09D7/12C08K9/04C09C1/28C09C3/08C01B33/146C09D201/02
    • C08K9/04C01B33/18C01P2006/60C08K5/19C09C1/3063C09C1/3072
    • 本發明之課題在於提供一種藉由添加於樹脂組成物中,可使該樹脂組成物之耐擦傷性提升且同時維持樹脂之透明性,且,將該樹脂組成物塗布於膜等之薄膜時之膜之翹曲為少之改性氧化矽組成物。為解決上述課題,提供一種氧化矽組成物,其特徵為含有下述一般式(1)所表示之化合物(A)、及丙烯醯基或甲基丙烯醯基改性氧化矽粒子(B)。 式中,X-表示鹵素離子或甲基硫酸離子,R1~R4係各自獨立表示碳數1~36之烴基,或具有選自酯基、醯胺基及羥基之任意一種以上之取代基之碳數1~36之烴基,或下述一般式(2)所表示之聚醚基。但,R1~R4之至少一個必須為下述一般式(2)所表示之聚醚基。 式中,m表示1~100之數,R5表示碳數2~4之伸烷基。
    • 本发明之课题在于提供一种借由添加于树脂组成物中,可使该树脂组成物之耐擦伤性提升且同时维持树脂之透明性,且,将该树脂组成物涂布于膜等之薄膜时之膜之翘曲为少之改性氧化硅组成物。为解决上述课题,提供一种氧化硅组成物,其特征为含有下述一般式(1)所表示之化合物(A)、及丙烯酰基或甲基丙烯酰基改性氧化硅粒子(B)。 式中,X-表示卤素离子或甲基硫酸离子,R1~R4系各自独立表示碳数1~36之烃基,或具有选自酯基、酰胺基及羟基之任意一种以上之取代基之碳数1~36之烃基,或下述一般式(2)所表示之聚醚基。但,R1~R4之至少一个必须为下述一般式(2)所表示之聚醚基。 式中,m表示1~100之数,R5表示碳数2~4之伸烷基。