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1. 发明专利

TWI665019B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI665019B
公开(公告)日：2019-07-11
申请号：TW107104193
申请日：2018-02-06
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN
IPC分类号： B05C11/10 , B05C5/02 , H01L21/302

2. 发明专利

TWI652117B 基板濕式處理裝置有权
简体标题：基板湿式处理设备
公开(公告)号：TWI652117B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：TW106126671
申请日：2017-08-08
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 蔡文平 , TSAI, WEN-PING , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 李威震 , LI, WEI-CHEN
IPC分类号： B05C11/10 , H01L21/67

3. 发明专利

TWI645913B 液體製程裝置有权
简体标题：液体制程设备
公开(公告)号：TWI645913B
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：TW106117427
申请日：2017-05-25
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 蔡文平 , TSAI, WEN-PING , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 李威震 , LI, WEI-CHEN
IPC分类号： B05C5/02 , B05C11/00 , B05C11/10 , H01L21/67

4. 发明专利

TW201817501A 基板溼處理裝置审中-公开
简体标题：基板湿处理设备
公开(公告)号：TW201817501A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW106136583
申请日：2017-10-24
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 蔡文平 , TSAI, WEN-PING , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 李威震 , LI, WEI-CHEN
IPC分类号： B08B3/02 , B08B11/00 , H01L21/67
摘要：本發明揭露一種基板溼處理裝置，用以對基板進行溼處理程序。該基板溼處理裝置包括：一浸漬處理槽，用以對基板進行該浸漬處理程序；一噴洗處理槽，其包括一基板倒置載台，基板放置於基板倒置載台，用以對基板進行噴洗處理程序，以及一清洗乾燥槽，用以對基板進行清洗乾燥程序。
简体摘要：本发明揭露一种基板湿处理设备，用以对基板进行湿处理进程。该基板湿处理设备包括：一浸渍处理槽，用以对基板进行该浸渍处理进程；一喷洗处理槽，其包括一基板倒置载台，基板放置于基板倒置载台，用以对基板进行喷洗处理进程，以及一清洗干燥槽，用以对基板进行清洗干燥进程。

5. 发明专利

TWI668548B 流體控制裝置有权
简体标题：流体控制设备
公开(公告)号：TWI668548B
公开(公告)日：2019-08-11
申请号：TW107114767
申请日：2018-05-01
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 賴志諱 , LAI, CHIH-HUI
IPC分类号： G05D7/06 , G03F1/80 , G03F1/82

6. 发明专利

TWI652118B 基板濕式處理裝置有权
简体标题：基板湿式处理设备
公开(公告)号：TWI652118B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：TW106136348
申请日：2017-10-23
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 蔡文平 , TSAI, WEN-PING , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 李威震 , LI, WEI-CHEN
IPC分类号： B05C13/00 , B05C3/02

7. 实用新型

TWM565876U 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWM565876U
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：TW106218351
申请日：2017-12-11
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 林世佳 , LIN, SHIH-CHIA
IPC分类号： H01L21/67

8. 发明专利

TW201824444A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201824444A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106142577
申请日：2017-12-05
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 林世佳 , LIN, SHIH-CHIA
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/687 , B05C5/02 , B05C11/10
摘要：基板處理裝置包括一底座、一基板載台、複數升降式主收集件、一第一動力件和一升降控制件。基板載台可旋轉得和底座連接，用以固定和旋轉基板。複數升降式主收集件設於基板載台外圍，用以收集處理基板的處理液。各個升降式主收集件包括一升降軸和一處理液收集環。升降軸包括一升降輪組件。升降輪組件用以帶動升降軸升降。處理液收集環連接升降軸之上。第一動力件設於底座，用以提供動力給升降式主收集件，以使升降式主收集件升降。升降控制件連接第一動力件，以控制第一動力件傳遞動力給升降式主收集件之升降軸對應之升降輪組件。
简体摘要：基板处理设备包括一底座、一基板载台、复数升降式主收集件、一第一动力件和一升降控制件。基板载台可旋转得和底座连接，用以固定和旋转基板。复数升降式主收集件设于基板载台外围，用以收集处理基板的处理液。各个升降式主收集件包括一升降轴和一处理液收集环。升降轴包括一升降轮组件。升降轮组件用以带动升降轴升降。处理液收集环连接升降轴之上。第一动力件设于底座，用以提供动力给升降式主收集件，以使升降式主收集件升降。升降控制件连接第一动力件，以控制第一动力件传递动力给升降式主收集件之升降轴对应之升降轮组件。

9. 发明专利

TWI615336B 處理液儲存槽有权
简体标题：处理液存储槽
公开(公告)号：TWI615336B
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：TW106122401
申请日：2017-07-04
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 蔡文平 , TSAI, WEN-PING , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 李威震 , LI, WEI-CHEN
IPC分类号： B65D90/48 , B65D85/84

10. 实用新型

TWM553231U 清洗裝置有权
简体标题：清洗设备
公开(公告)号：TWM553231U
公开(公告)日：2017-12-21
申请号：TW106208016
申请日：2017-06-05
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 蔡文平 , TSAI, WEN-PING , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 李威震 , LI, WEI-CHEN
IPC分类号： B08B3/02 , H01L21/30

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