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1. 发明专利

TWI652117B 基板濕式處理裝置有权
简体标题：基板湿式处理设备
公开(公告)号：TWI652117B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：TW106126671
申请日：2017-08-08
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 蔡文平 , TSAI, WEN-PING , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 李威震 , LI, WEI-CHEN
IPC分类号： B05C11/10 , H01L21/67

2. 发明专利

TWI645913B 液體製程裝置有权
简体标题：液体制程设备
公开(公告)号：TWI645913B
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：TW106117427
申请日：2017-05-25
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 蔡文平 , TSAI, WEN-PING , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 李威震 , LI, WEI-CHEN
IPC分类号： B05C5/02 , B05C11/00 , B05C11/10 , H01L21/67

3. 发明专利

TW201817501A 基板溼處理裝置审中-公开
简体标题：基板湿处理设备
公开(公告)号：TW201817501A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW106136583
申请日：2017-10-24
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 蔡文平 , TSAI, WEN-PING , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 李威震 , LI, WEI-CHEN
IPC分类号： B08B3/02 , B08B11/00 , H01L21/67
摘要：本發明揭露一種基板溼處理裝置，用以對基板進行溼處理程序。該基板溼處理裝置包括：一浸漬處理槽，用以對基板進行該浸漬處理程序；一噴洗處理槽，其包括一基板倒置載台，基板放置於基板倒置載台，用以對基板進行噴洗處理程序，以及一清洗乾燥槽，用以對基板進行清洗乾燥程序。
简体摘要：本发明揭露一种基板湿处理设备，用以对基板进行湿处理进程。该基板湿处理设备包括：一浸渍处理槽，用以对基板进行该浸渍处理进程；一喷洗处理槽，其包括一基板倒置载台，基板放置于基板倒置载台，用以对基板进行喷洗处理进程，以及一清洗干燥槽，用以对基板进行清洗干燥进程。

4. 发明专利

TWI652118B 基板濕式處理裝置有权
简体标题：基板湿式处理设备
公开(公告)号：TWI652118B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：TW106136348
申请日：2017-10-23
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 蔡文平 , TSAI, WEN-PING , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 李威震 , LI, WEI-CHEN
IPC分类号： B05C13/00 , B05C3/02

5. 发明专利

TWI615336B 處理液儲存槽有权
简体标题：处理液存储槽
公开(公告)号：TWI615336B
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：TW106122401
申请日：2017-07-04
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 蔡文平 , TSAI, WEN-PING , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 李威震 , LI, WEI-CHEN
IPC分类号： B65D90/48 , B65D85/84

6. 实用新型

TWM553231U 清洗裝置有权
简体标题：清洗设备
公开(公告)号：TWM553231U
公开(公告)日：2017-12-21
申请号：TW106208016
申请日：2017-06-05
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 蔡文平 , TSAI, WEN-PING , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 李威震 , LI, WEI-CHEN
IPC分类号： B08B3/02 , H01L21/30

7. 发明专利

TWI672765B 單基板處理裝置有权
简体标题：单基板处理设备
公开(公告)号：TWI672765B
公开(公告)日：2019-09-21
申请号：TW106137610
申请日：2017-10-31
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 蔡文平 , TSAI, WEN-PING , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 李威震 , LI, WEI-CHEN
IPC分类号： H01L21/683

8. 发明专利

TW201832833A 基板濕式處理裝置审中-公开
简体标题：基板湿式处理设备
公开(公告)号：TW201832833A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW106126671
申请日：2017-08-08
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 蔡文平 , TSAI, WEN-PING , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 李威震 , LI, WEI-CHEN
IPC分类号： B05C11/10 , H01L21/67
摘要：一種基板濕式處理裝置用以對基板進行處理，其中基板包括上表面、下表面以及側緣。基板濕式處理裝置包括基座、旋轉單元、液體供給單元及第一環部。旋轉單元設置於基座，旋轉單元包括旋轉軸及固定件，固定件設置於旋轉軸，固定件固定基板。液體供給單元提供處理液至上表面。第一環部設置於基座且環繞旋轉單元且包括第一流體供應通道、第二流體供應通道、第三流體供應通道及第一環部上表面。第一流體供應通道、第二流體供應通道、第三流體供應通道分別提供第一流體、第二流體及第三流體至下表面，藉以防止處理液沿側緣流至下表面。
简体摘要：一种基板湿式处理设备用以对基板进行处理，其中基板包括上表面、下表面以及侧缘。基板湿式处理设备包括基座、旋转单元、液体供给单元及第一环部。旋转单元设置于基座，旋转单元包括旋转轴及固定件，固定件设置于旋转轴，固定件固定基板。液体供给单元提供处理液至上表面。第一环部设置于基座且环绕旋转单元且包括第一流体供应信道、第二流体供应信道、第三流体供应信道及第一环部上表面。第一流体供应信道、第二流体供应信道、第三流体供应信道分别提供第一流体、第二流体及第三流体至下表面，借以防止处理液沿侧缘流至下表面。

9. 发明专利

TWI633615B 基板濕式處理裝置有权
简体标题：基板湿式处理设备
公开(公告)号：TWI633615B
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：TW106122530
申请日：2017-07-05
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 蔡文平 , TSAI, WEN-PING , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 李威震 , LI, WEI-CHEN
IPC分类号： H01L21/67

10. 发明专利

TW201830571A 單基板處理裝置审中-公开
简体标题：单基板处理设备
公开(公告)号：TW201830571A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106137610
申请日：2017-10-31
申请人：辛耘企業股份有限公司 , SCIENTECH CORPORATION
发明人：馮傳彰 , FENG, CHUAN-CHANG , 吳庭宇 , WU, TING-YU , 蔡文平 , TSAI, WEN-PING , 劉茂林 , LIU, MAO-LIN , 李威震 , LI, WEI-CHEN
IPC分类号： H01L21/683
摘要：本發明揭露一種單基板處理裝置，其包括一底座以及一基板載台。基板載台包括一固定軸、一承載部及一緩衝結構。固定軸連接於底座，固定軸的內部具有一氣壓通道。承載部連接於固定軸，並承載基板。承載部具有至少一通孔，通孔與氣壓通道相互連通。緩衝結構設置於承載部，且緩衝結構的一表面對應於通孔，另一表面對應於基板。
简体摘要：本发明揭露一种单基板处理设备，其包括一底座以及一基板载台。基板载台包括一固定轴、一承载部及一缓冲结构。固定轴连接于底座，固定轴的内部具有一气压信道。承载部连接于固定轴，并承载基板。承载部具有至少一通孔，通孔与气压信道相互连通。缓冲结构设置于承载部，且缓冲结构的一表面对应于通孔，另一表面对应于基板。

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