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1. 发明专利

TW200829702A 全密度鈷-鎢磁濺鍍鈀及其製造方法 FULL DENSITY CO-W MAGNETIC SPUTTER TARGETS 审中-公开
简体标题：全密度钴-钨磁溅镀钯及其制造方法 FULL DENSITY CO-W MAGNETIC SPUTTER TARGETS
公开(公告)号：TW200829702A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：TW096114515
申请日：2007-04-25
申请人：賀利氏公司 HERAEUS INCORPORATED
发明人：楊峰林 YANG, FENGLIN , 昆客爾 KUNKEL, BERND , 肯尼帝 KENNEDY, STEVEN ROGER , 戴亞尼 DAS, ANIRBAN
IPC分类号： C22C , C23C
CPC分类号： C23C14/3414 , B22F3/15 , B22F2999/00 , C22C1/0433 , C22C1/0441 , C22C1/045 , B22F3/1017 , B22F3/1028 , B22F2203/11 , B22F2203/13
摘要：本發明係提供一種濺鍍靶,其具有:一第一種物料之一第一元素相,該第一種物料為鈷或鎢;一第一金屬間相,包括該第一種物料及一第二種物料,該第二種物料為鎢或鈷而且不同於該第一種物料,相較於該第二種物料,該第一種物料具有較大的原子百分率;以及一第二金屬間相,包括該第二種物料及該第一種物料,相較於該第一種物料,該第二種物料具有較大的原子百分率。該濺鍍靶包括20-80原子%的鈷,並具有大於其理論最大密度値之99%之一密度。該濺鍍靶之製造係藉選擇一鈷粉末及具有相同粒度分佈之一鎢粉末,摻混該鈷粉末與該鎢粉末,以形成一摻混粉末,將該摻混粉末裝罐(canning),熱壓該摻混粉末,以形成一固體,及機製此固體,以形成一濺鍍靶。
简体摘要：本发明系提供一种溅镀靶,其具有:一第一种物料之一第一元素相,该第一种物料为钴或钨;一第一金属间相,包括该第一种物料及一第二种物料,该第二种物料为钨或钴而且不同于该第一种物料,相较于该第二种物料,该第一种物料具有较大的原子百分率;以及一第二金属间相,包括该第二种物料及该第一种物料,相较于该第一种物料,该第二种物料具有较大的原子百分率。该溅镀靶包括20-80原子%的钴,并具有大于其理论最大密度値之99%之一密度。该溅镀靶之制造系藉选择一钴粉末及具有相同粒度分布之一钨粉末,掺混该钴粉末与该钨粉末,以形成一掺混粉末,将该掺混粉末装罐(canning),热压该掺混粉末,以形成一固体,及机制此固体,以形成一溅镀靶。

2. 发明专利

TW200912010A 使用為沈積源之高密度、低含氧錸及錸系的固結粉末材料及該材料的製作方法 HIGH DENSITY, LOW OXYGEN RE AND RE-BASED CONSOLIDATED POWDER MATERIALS FOR USE AS DEPOSITION SOURCES AND METHODS OF MAKING SAME 审中-公开
简体标题：使用为沉积源之高密度、低含氧铼及铼系的固结粉末材料及该材料的制作方法 HIGH DENSITY, LOW OXYGEN RE AND RE-BASED CONSOLIDATED POWDER MATERIALS FOR USE AS DEPOSITION SOURCES AND METHODS OF MAKING SAME
公开(公告)号：TW200912010A
公开(公告)日：2009-03-16
申请号：TW097100539
申请日：2008-01-07
申请人：賀利氏公司 HERAEUS INCORPORATED
发明人：楊峰林 YANG, FENGLIN , 德瑞堂 DERRINGTON, CARL , 孔班特 KUNKEL, BERND
IPC分类号： C22C
CPC分类号： C22C27/00 , B22F2998/10 , B22F2999/00 , C22C1/04 , C22C1/05 , C23C14/3414 , B22F1/0085 , B22F3/04 , B22F3/15 , B22F2201/013
摘要：一種製造錸與錸系的方法包含下列步驟:提供一種錸粉末起始材料或一種錸粉末起始材料與至少一種添加的粉末材料;使至少該錸粉末承受第一次除氣處理以降低其氧含量;增加該除氣的錸粉末或該除氣的錸粉末與該至少一添加的粉末材料之混合物的密度以形成一生胚;使該生胚承受第二次除氣處理以進一步降低其內氧含量;及固結該生胚以形成一固結的材料,該固結的材料具有大於約95%之理論密度及低氧含量,其中,針對錸其氧含量為低於200ppm,針對由混合物所形成的錸系材料,若不計入非金屬化合物及陶瓷來源的氧,則其氧含量為低於500ppm。如此生產的材料用在製造沉積源如濺鍍靶材。
简体摘要：一种制造铼与铼系的方法包含下列步骤:提供一种铼粉末起始材料或一种铼粉末起始材料与至少一种添加的粉末材料;使至少该铼粉末承受第一次除气处理以降低其氧含量;增加该除气的铼粉末或该除气的铼粉末与该至少一添加的粉末材料之混合物的密度以形成一生胚;使该生胚承受第二次除气处理以进一步降低其内氧含量;及固结该生胚以形成一固结的材料,该固结的材料具有大于约95%之理论密度及低氧含量,其中,针对铼其氧含量为低于200ppm,针对由混合物所形成的铼系材料,若不计入非金属化合物及陶瓷来源的氧,则其氧含量为低于500ppm。如此生产的材料用在制造沉积源如溅镀靶材。

3. 发明专利

TW200909102A 以均質粒化金屬為基以及金屬陶瓷為基的粉末 HOMOGENEOUS GRANULATED METAL BASED AND METAL-CERAMIC BASED POWDERS 审中-公开
简体标题：以均质粒化金属为基以及金属陶瓷为基的粉末 HOMOGENEOUS GRANULATED METAL BASED AND METAL-CERAMIC BASED POWDERS
公开(公告)号：TW200909102A
公开(公告)日：2009-03-01
申请号：TW096136073
申请日：2007-09-28
申请人：賀利氏公司 HERAEUS INCORPORATED
发明人：楊峰林 YANG, FENGLIN , 德林頓 DERRINGTON, CARL , 昆克爾 KUNKEL, BERND
IPC分类号： B22F , C04B , C23C
CPC分类号： B22F9/026 , C22C1/05
摘要：一種製造以均質粒化金屬為基礎的粉末之方法,係包含下列步驟:提供預選量之至少一種金屬元素或金屬合金、至少一種陶瓷化合物及/或至少一種非金屬元素;形成一均質淤漿/懸浮液或潮濕混合物,含有:該預選量之金屬及/或金屬合金、陶瓷化合物、及/或非金屬元素、含有液體以及至少一種黏著劑材料之一液相;乾燥該淤漿/懸浮液或混合物,以移除至少一部分之該液相,並且形成含有部分或完全乾燥的細粒之一粉末混合物;以及使細粒受到熱脫黏程序,以進行下列程序:必要時另外除去任何殘餘的液相;除去至少一種黏著劑材料;降低碳含量;降低細粒中之金屬或金屬合金相的表面上或內部之氧;及視情況部分燒結,以强化該細粒,使其禁得起接續的處理。所生成的細粒適用於製造在磁性資料/資訊儲存器及可檢索媒介之製程中所用的磁性濺鍍靶。
简体摘要：一种制造以均质粒化金属为基础的粉末之方法,系包含下列步骤:提供预选量之至少一种金属元素或金属合金、至少一种陶瓷化合物及/或至少一种非金属元素;形成一均质淤浆/悬浮液或潮湿混合物,含有:该预选量之金属及/或金属合金、陶瓷化合物、及/或非金属元素、含有液体以及至少一种黏着剂材料之一液相;干燥该淤浆/悬浮液或混合物,以移除至少一部分之该液相,并且形成含有部分或完全干燥的细粒之一粉末混合物;以及使细粒受到热脱黏进程,以进行下列进程:必要时另外除去任何残余的液相;除去至少一种黏着剂材料;降低碳含量;降低细粒中之金属或金属合金相的表面上或内部之氧;及视情况部分烧结,以强化该细粒,使其禁得起接续的处理。所生成的细粒适用于制造在磁性数据/信息存储器及可检索媒介之制程中所用的磁性溅镀靶。

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