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1. 发明专利

TW200835803A 含有磁性及非磁性元素之濺鍍鈀中之磁漏通量的控制方法與系統 METHOD AND SYSTEM FOR CONTROLLING MAGNETIC LEAKAGE FLUX IN SPUTTERING TARGETS CONTAINING MAGNETIC AND NON-MAGNETIC ELEMENTS 审中-公开
简体标题：含有磁性及非磁性元素之溅镀钯中之磁漏通量的控制方法与系统 METHOD AND SYSTEM FOR CONTROLLING MAGNETIC LEAKAGE FLUX IN SPUTTERING TARGETS CONTAINING MAGNETIC AND NON-MAGNETIC ELEMENTS
公开(公告)号：TW200835803A
公开(公告)日：2008-09-01
申请号：TW096116568
申请日：2007-05-10
申请人：賀利氏公司 HERAEUS INCORPORATED
发明人：鍾坤華 CHUNG, KYUNG H. , 馬克斯 MARX, DANIEL R. , 昆克爾 KUNKEL, BERND
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C14/3414
摘要：本發明之各種例示實施例係有關一種含有磁性及非磁性元素之濺鍍靶中之磁漏通量的控制方法。該方法係有關在一微結構中選擇至少一種非磁性相之粒子尺寸,其中該非磁性相之粒子尺寸為大於或等於1微米。該非磁性相與微結構中之至少一種磁性相組合,其中該磁性相為大於或等於10原子百分比且尺寸大於1微米。所選擇之非磁性相之粒子尺寸降低微結構中磁性和非磁性相之間的擴散且可增加濺鍍靶之通過通量(PTF)。該磁性相和非磁性相可藉熱等力加壓、燒結、火花電漿燒結或真空熱加壓予以混合於微結構中。
简体摘要：本发明之各种例示实施例系有关一种含有磁性及非磁性元素之溅镀靶中之磁漏通量的控制方法。该方法系有关在一微结构中选择至少一种非磁性相之粒子尺寸,其中该非磁性相之粒子尺寸为大于或等于1微米。该非磁性相与微结构中之至少一种磁性相组合,其中该磁性相为大于或等于10原子百分比且尺寸大于1微米。所选择之非磁性相之粒子尺寸降低微结构中磁性和非磁性相之间的扩散且可增加溅镀靶之通过通量(PTF)。该磁性相和非磁性相可藉热等力加压、烧结、火花等离子烧结或真空热加压予以混合于微结构中。

2. 发明专利

TW200902737A 脆性金屬合金噴濺靶及其製造方法 BRITTLE METAL ALLOY SPUTTERING TARGETS AND METHOD OF FABRICATING SAME 审中-公开
简体标题：脆性金属合金喷溅靶及其制造方法 BRITTLE METAL ALLOY SPUTTERING TARGETS AND METHOD OF FABRICATING SAME
公开(公告)号：TW200902737A
公开(公告)日：2009-01-16
申请号：TW096136072
申请日：2007-09-28
申请人：賀利氏公司 HERAEUS INCORPORATED
发明人：易騖文 YI, WUWEN , 昆克爾 KUNKEL, BERND , 德林頓 DERRINGTON, CARL , 李辛華 LI, SHINHWA , 迪杜特 DEODUTT, ANAND
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C22C27/02 , B22F2003/247 , B22F2998/00 , B22F2998/10 , C22C1/04 , C22C5/04 , C23C14/3414 , H01L21/2855 , H01L21/76843 , H01L21/76873 , C22C1/045 , C22C1/0466 , B22F1/0003 , B22F3/04 , B22F3/15 , B22F3/24
摘要：一種濺鍍靶材組件的製造方法,包含下列步驟:混合(mixing)/摻合(blending)選定量之至少一貴重或近貴重VIII族金屬與至少一IVB、VB或VIB族耐火金屬的粉末;將已混合/已摻合之粉末形成為密度增加的一生壓坯(green compact);自該生壓坯形成一全密度壓坯;自該全密度壓坯裁切一靶材板薄片;將一支撐板(backing plate)擴散接合(diffusion bonding)至該靶材板薄片的一表面,以形成一靶材/支撐板組件;及加工該靶材/支撐板組件至選定的最終尺寸。所揭露之方法對於製造用在半導體金屬化製程中的大直徑Ru-Ta合金靶材尤其有用。
简体摘要：一种溅镀靶材组件的制造方法,包含下列步骤:混合(mixing)/掺合(blending)选定量之至少一贵重或近贵重VIII族金属与至少一IVB、VB或VIB族耐火金属的粉末;将已混合/已掺合之粉末形成为密度增加的一生压坯(green compact);自该生压坯形成一全密度压坯;自该全密度压坯裁切一靶材板薄片;将一支撑板(backing plate)扩散接合(diffusion bonding)至该靶材板薄片的一表面,以形成一靶材/支撑板组件;及加工该靶材/支撑板组件至选定的最终尺寸。所揭露之方法对于制造用在半导体金属化制程中的大直径Ru-Ta合金靶材尤其有用。

3. 发明专利

TW200909102A 以均質粒化金屬為基以及金屬陶瓷為基的粉末 HOMOGENEOUS GRANULATED METAL BASED AND METAL-CERAMIC BASED POWDERS 审中-公开
简体标题：以均质粒化金属为基以及金属陶瓷为基的粉末 HOMOGENEOUS GRANULATED METAL BASED AND METAL-CERAMIC BASED POWDERS
公开(公告)号：TW200909102A
公开(公告)日：2009-03-01
申请号：TW096136073
申请日：2007-09-28
申请人：賀利氏公司 HERAEUS INCORPORATED
发明人：楊峰林 YANG, FENGLIN , 德林頓 DERRINGTON, CARL , 昆克爾 KUNKEL, BERND
IPC分类号： B22F , C04B , C23C
CPC分类号： B22F9/026 , C22C1/05
摘要：一種製造以均質粒化金屬為基礎的粉末之方法,係包含下列步驟:提供預選量之至少一種金屬元素或金屬合金、至少一種陶瓷化合物及/或至少一種非金屬元素;形成一均質淤漿/懸浮液或潮濕混合物,含有:該預選量之金屬及/或金屬合金、陶瓷化合物、及/或非金屬元素、含有液體以及至少一種黏著劑材料之一液相;乾燥該淤漿/懸浮液或混合物,以移除至少一部分之該液相,並且形成含有部分或完全乾燥的細粒之一粉末混合物;以及使細粒受到熱脫黏程序,以進行下列程序:必要時另外除去任何殘餘的液相;除去至少一種黏著劑材料;降低碳含量;降低細粒中之金屬或金屬合金相的表面上或內部之氧;及視情況部分燒結,以强化該細粒,使其禁得起接續的處理。所生成的細粒適用於製造在磁性資料/資訊儲存器及可檢索媒介之製程中所用的磁性濺鍍靶。
简体摘要：一种制造以均质粒化金属为基础的粉末之方法,系包含下列步骤:提供预选量之至少一种金属元素或金属合金、至少一种陶瓷化合物及/或至少一种非金属元素;形成一均质淤浆/悬浮液或潮湿混合物,含有:该预选量之金属及/或金属合金、陶瓷化合物、及/或非金属元素、含有液体以及至少一种黏着剂材料之一液相;干燥该淤浆/悬浮液或混合物,以移除至少一部分之该液相,并且形成含有部分或完全干燥的细粒之一粉末混合物;以及使细粒受到热脱黏进程,以进行下列进程:必要时另外除去任何残余的液相;除去至少一种黏着剂材料;降低碳含量;降低细粒中之金属或金属合金相的表面上或内部之氧;及视情况部分烧结,以强化该细粒,使其禁得起接续的处理。所生成的细粒适用于制造在磁性数据/信息存储器及可检索媒介之制程中所用的磁性溅镀靶。

4. 发明专利

TW200905001A 超高純度鎳鉑合金及具有超高純度鎳鉑合金之噴濺靶 ULTRA-HIGH PURITY NIPT ALLOYS AND SPUTTERING TARGETS COMPRISING SAME 审中-公开
简体标题：超高纯度镍铂合金及具有超高纯度镍铂合金之喷溅靶 ULTRA-HIGH PURITY NIPT ALLOYS AND SPUTTERING TARGETS COMPRISING SAME
公开(公告)号：TW200905001A
公开(公告)日：2009-02-01
申请号：TW096136074
申请日：2007-09-28
申请人：賀利氏公司 HERAEUS INCORPORATED
发明人：惠珺 HUI, JUN , 李辛華 LI, SHINHWA , 龍大衛 LONG, DAVID , 德林頓 DERRINGTON, CARL , 昆克爾 KUNKEL, BERND
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C22C5/04 , C22B9/003 , C22B23/06 , C22C1/02 , C22C1/023 , C22C1/03 , C22C19/03 , C22C30/00 , C22F1/10 , C22F1/14 , C23C14/3414 , Y02P10/253
摘要：本發明係有關於一種用於製造一種鎳鉑合金之方法,該鎳鉑合金具有至少約4N5之超高純度,並且適合用作濺鍍靶,該方法包含下列步驟:於一坩堝中,將預先測定數量之較低純度的鎳及鉑於一高溫下加熱,使形成一種鎳鉑合金熔體,該坩堝係由一種於該高溫下相對於該熔體呈惰性之材料所組成;及將該熔體轉移至一製模,該製模具有一表面經一脫模劑塗覆之凹穴,不會使該熔體受到不純物元素的污染。所獲得之鎳鉑合金具有非常低濃度的不純物元素,並且施以交叉-方向的(cross-directional)熱輥壓,藉以減少厚度及晶粒之尺寸。
简体摘要：本发明系有关于一种用于制造一种镍铂合金之方法,该镍铂合金具有至少约4N5之超高纯度,并且适合用作溅镀靶,该方法包含下列步骤:于一坩埚中,将预先测定数量之较低纯度的镍及铂于一高温下加热,使形成一种镍铂合金熔体,该坩埚系由一种于该高温下相对于该熔体呈惰性之材料所组成;及将该熔体转移至一制模,该制模具有一表面经一脱模剂涂覆之凹穴,不会使该熔体受到不纯物元素的污染。所获得之镍铂合金具有非常低浓度的不纯物元素,并且施以交叉-方向的(cross-directional)热辊压,借以减少厚度及晶粒之尺寸。

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