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1. 发明专利

TWI581886B 微結構加工裝置有权
简体标题：微结构加工设备
公开(公告)号：TWI581886B
公开(公告)日：2017-05-11
申请号：TW104141627
申请日：2015-12-11
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH AND DEVELOPMENT CENTRE
发明人：詹家銘 , JAN, CHIA-MING , 洪正翰 , HUNG, CHENG-HAN , 林英傑 , LIN, YING-CHIEH
IPC分类号： B23K26/064 , B23K26/60 , B23K26/70
CPC分类号： B23K26/0648 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/0652 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , H01L21/268

2. 发明专利

TW201720565A 微結構加工裝置审中-公开
简体标题：微结构加工设备
公开(公告)号：TW201720565A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW104141627
申请日：2015-12-11
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH AND DEVELOPMENT CENTRE
发明人：詹家銘 , JAN, CHIA-MING , 洪正翰 , HUNG, CHENG-HAN , 林英傑 , LIN, YING-CHIEH
IPC分类号： B23K26/064 , B23K26/60 , B23K26/70
CPC分类号： B23K26/0648 , B23K26/0006 , B23K26/0066 , B23K26/0652 , B23K2201/40 , B23K2203/56 , H01L21/268
摘要：一種微結構加工裝置，用於加工一待加工件。該微結構加工裝置包含一可控制出光方向、出光形狀的光源、一位於該光源及該待加工件之間的第一錐狀鏡，及一第二錐狀鏡，兩者環錐面以反向對位。透過該第一錐狀鏡生成貝索光形光束，並經過第二錐狀鏡將該貝索光束折變，將該待加工件加工出幾何結構。再透過調整該第一、第二錐狀鏡，可控制該光源在該待加工件所加工出的幾何結構，利於彈性生產製造。
简体摘要：一种微结构加工设备，用于加工一待加工件。该微结构加工设备包含一可控制出光方向、出光形状的光源、一位于该光源及该待加工件之间的第一锥状镜，及一第二锥状镜，两者环锥面以反向对位。透过该第一锥状镜生成贝索光形光束，并经过第二锥状镜将该贝索光束折变，将该待加工件加工出几何结构。再透过调整该第一、第二锥状镜，可控制该光源在该待加工件所加工出的几何结构，利于弹性生产制造。

3. 发明专利

TWI594628B 光場攝像裝置有权
简体标题：光场摄像设备
公开(公告)号：TWI594628B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105111950
申请日：2016-04-15
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：詹家銘 , JAN, CHIA-MING , 劉宗鑫 , LIU, ZONG-HSIN
IPC分类号： H04N5/225 , G02B27/00

4. 发明专利

TW201720127A 光場取像裝置审中-公开
简体标题：光场取像设备
公开(公告)号：TW201720127A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW104138948
申请日：2015-11-24
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：詹家銘 , 林英傑
IPC分类号： H04N5/225
CPC分类号： H04N13/229 , G02B3/0056 , G02B3/04 , G02B13/00 , G02B27/0075 , G03B35/08 , G03B41/00 , G06T7/0018 , G06T7/80 , G06T2207/10052 , H04N5/2256 , H04N5/335 , H04N13/246
摘要：一種光場取像裝置，包含：一主透鏡，用以傳送一場景之光線，並具有一光軸；一光束產生單元，用以接收該主透鏡所傳送之光線，並產生數個貝索光束(Bessel-beam)，其中該光束產生單元包含以陣列方式排列的數個狹縫或錐狀透鏡，用以分別產生該等貝索光束；一微透鏡單元，用以接收該光束產生單元所產生之貝索光束，並包含對應該光束產生單元的數個微透鏡元件，用以決定該等貝索光束通過該等微透鏡元件後分別所產生的一焦點，以及分別依據該焦點相對該等微透鏡元件之距離的一焦長；以及一感光單元，包含一焦平面，用以使該等焦點聚焦於該焦平面上。
简体摘要：一种光场取像设备，包含：一主透镜，用以发送一场景之光线，并具有一光轴；一光束产生单元，用以接收该主透镜所发送之光线，并产生数个贝索光束(Bessel-beam)，其中该光束产生单元包含以数组方式排列的数个狭缝或锥状透镜，用以分别产生该等贝索光束；一微透镜单元，用以接收该光束产生单元所产生之贝索光束，并包含对应该光束产生单元的数个微透镜组件，用以决定该等贝索光束通过该等微透镜组件后分别所产生的一焦点，以及分别依据该焦点相对该等微透镜组件之距离的一焦长；以及一感光单元，包含一焦平面，用以使该等焦点聚焦于该焦平面上。

5. 发明专利

TWI571341B 可根據光束靈敏度聚焦的自動聚焦系統與方法有权
简体标题：可根据光束灵敏度聚焦的自动聚焦系统与方法
公开(公告)号：TWI571341B
公开(公告)日：2017-02-21
申请号：TW103142148
申请日：2014-12-04
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心
发明人：劉建聖 , 蔡宗立 , 胡博期 , 詹家銘
IPC分类号： B23K26/04 , G02B7/04

6. 发明专利

TW201817499A 微粒篩审中-公开
简体标题：微粒筛
公开(公告)号：TW201817499A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW105136316
申请日：2016-11-08
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：洪正翰 , HUNG, CHENG HAN , 劉宗鑫 , LIU, ZONG HSIN , 林英傑 , LIN, YING CHIEH , 蔡銘芳 , TSAI, MING FANG , 詹家銘 , JAN, CHIA MING , 黃玉龍 , HUNAG, YUN LUNG , 鄒海清 , TSOU, HEI CHIN , 呂英誠 , LU, YING CHENG
IPC分类号： B07B1/46
摘要：一種微粒篩，用以解決目前以篩網過篩所得微粒尺寸均一性較差的問題。本發明的微粒篩包含：一基座，設有一容室；及數個板片，設於該容室中，各該板片具有一第一面及一第二面，該第一面設有至少一缺槽，該第二面設有至少一凹槽，任一板片的第一面與相鄰板片的第二面相抵接，使該缺槽與該凹槽局部相連通。
简体摘要：一种微粒筛，用以解决目前以筛网过筛所得微粒尺寸均一性较差的问题。本发明的微粒筛包含：一基座，设有一容室；及数个板片，设于该容室中，各该板片具有一第一面及一第二面，该第一面设有至少一缺槽，该第二面设有至少一凹槽，任一板片的第一面与相邻板片的第二面相抵接，使该缺槽与该凹槽局部相连通。

7. 发明专利

TW201737688A 光場攝像裝置审中-公开
简体标题：光场摄像设备
公开(公告)号：TW201737688A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW105111950
申请日：2016-04-15
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：詹家銘 , JAN, CHIA-MING , 劉宗鑫 , LIU, ZONG-HSIN
IPC分类号： H04N5/225 , G02B27/00
摘要：一種光場攝像裝置包含一光纖束、一微透鏡陣列及一光感測器陣列，該光纖束具有複數個光纖絲，各該光纖絲之一第一端用以接收一物體的光，且該物體的光由各該光纖絲之該第一端傳至一第二端，該微透鏡陣列位於該些光纖絲之該第二端，且該微透鏡陣列接收該些第二端所發出之光，該光感測器陣列光耦合至該微透鏡陣列，其中各該光纖絲之該第二端所發出的光經過該微透鏡陣列後被該光感測器陣列接收，本發明藉由該微透鏡陣列及該光纖束的搭配得到該物體之全域光場資訊，而能提高物體影像之解析度。
简体摘要：一种光场摄像设备包含一光纤束、一微透镜数组及一光传感器数组，该光纤束具有复数个光纤丝，各该光纤丝之一第一端用以接收一物体的光，且该物体的光由各该光纤丝之该第一端传至一第二端，该微透镜数组位于该些光纤丝之该第二端，且该微透镜数组接收该些第二端所发出之光，该光传感器数组光耦合至该微透镜数组，其中各该光纤丝之该第二端所发出的光经过该微透镜数组后被该光传感器数组接收，本发明借由该微透镜数组及该光纤束的搭配得到该物体之全域光场信息，而能提高物体影像之分辨率。

8. 发明专利

TW201721108A 擷取動態振動頻率之方法审中-公开
简体标题：截取动态振动频率之方法
公开(公告)号：TW201721108A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW104141263
申请日：2015-12-09
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心 , METAL INDUSTRIES RESEARCH & DEVELOPMENT CENTRE
发明人：詹家銘 , 吳文傑
IPC分类号： G01H1/00 , G01H17/00 , B23Q17/00
CPC分类号： G01N29/12 , G01H1/003 , G01N29/4463 , G01N2291/014 , G01N2291/105
摘要：一種擷取動態振動頻率之方法包括下列步驟：選用至少五雙振動量測元件；決定該第一雙至第五雙振動量測元件頻寬範圍；將該第一雙至第五雙振動量測元件依序在一主軸之幾何結構對稱的第一側及第二側，以對稱式佈點方式進行振動位移量的量測；校正該第一側及第二側之其中一者的該第一至第五振動量測元件所量測之振動位移量，以差動消除產生環境干擾之雜訊；計算出位在該第一側及第二側之至少一雙節點的位置；利用前述步驟之該些振動位移量以推算出一雙主諧波之動態振動頻率；以及確認該主軸之振動模態。
简体摘要：一种截取动态振动频率之方法包括下列步骤：选用至少五双振动量测组件；决定该第一双至第五双振动量测组件带宽范围；将该第一双至第五双振动量测组件依序在一主轴之几何结构对称的第一侧及第二侧，以对称式布点方式进行振动位移量的量测；校正该第一侧及第二侧之其中一者的该第一至第五振动量测组件所量测之振动位移量，以差动消除产生环境干扰之噪声；计算出位在该第一侧及第二侧之至少一双节点的位置；利用前述步骤之该些振动位移量以推算出一双主谐波之动态振动频率；以及确认该主轴之振动模态。

9. 发明专利

TW201620657A 可根據光束靈敏度聚焦的自動聚焦系統與方法审中-公开
简体标题：可根据光束灵敏度聚焦的自动聚焦系统与方法
公开(公告)号：TW201620657A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW103142148
申请日：2014-12-04
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心
发明人：劉建聖 , 蔡宗立 , 胡博期 , 詹家銘
IPC分类号： B23K26/04 , G02B7/04
摘要：一種可根據光束靈敏度聚焦的自動聚焦系統與方法，該系統包含有一物鏡、一光源裝置、一光感測裝置、一放大倍率調整裝置與一焦距控制裝置，該焦距控制裝置在一測試模式下判斷該光感測裝置所接收反射測試光束於每個波長下的靈敏度，接著於一工作模式下根據靈敏度判斷結果控制該光源裝置產生一工作光束，並判斷該光感測裝置所接收一反射工作光束在不同放大倍率下的聚焦狀態，以根據聚焦狀態判斷結果移動該物鏡或目標物品的位置，使該工作光束聚焦在目標物品。
简体摘要：一种可根据光束灵敏度聚焦的自动聚焦系统与方法，该系统包含有一物镜、一光源设备、一光传感设备、一放大倍率调整设备与一焦距控制设备，该焦距控制设备在一测试模式下判断该光传感设备所接收反射测试光束于每个波长下的灵敏度，接着于一工作模式下根据灵敏度判断结果控制该光源设备产生一工作光束，并判断该光传感设备所接收一反射工作光束在不同放大倍率下的聚焦状态，以根据聚焦状态判断结果移动该物镜或目标物品的位置，使该工作光束聚焦在目标物品。

10. 发明专利

TWI536956B 色覺檢測方法與系統有权
简体标题：色觉检测方法与系统
公开(公告)号：TWI536956B
公开(公告)日：2016-06-11
申请号：TW104140414
申请日：2015-12-02
申请人：財團法人金屬工業研究發展中心
发明人：伏和中 , 毛世傑 , 簡瑞廷 , 陳志安 , 詹家銘 , 王衍超
IPC分类号： A61B3/06 , A61B3/10

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