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1. 发明专利

TW201641741A 用於電感耦合電漿蝕刻反應器之氣體分配噴淋頭审中-公开
简体标题：用于电感耦合等离子蚀刻反应器之气体分配喷淋头
公开(公告)号：TW201641741A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105129730
申请日：2012-05-31
申请人：蘭姆研究公司 , LAM RESEARCH CORPORATION
发明人：肯麥可 , KANG,MICHAEL , 派特森艾立克斯 , PATERSON,ALEX , 肯沃西意恩 J , KENWORTHY,IAN J.
IPC分类号： C23C16/54 , C23C16/52 , C23C16/513
CPC分类号： H01L21/30604 , B05B1/185 , B05D1/62 , C23C16/455 , C23C16/45561 , C23C16/505 , C23C16/507 , H01J37/3211 , H01J37/3244 , H01J2237/3341 , H01L21/30655 , H01L21/67069
摘要：一種兩件式的陶瓷噴淋頭包含上、下板而可輸送處理氣體至電感耦合電漿處理室中。該上板乃覆蓋在下板上方並包含：由上板之一外緣向內延伸之徑向延伸氣體通道；軸向延伸氣體通道，與該徑向延伸氣體通道流體相通；一環狀凹部，其在該上下板之間形成一環狀充氣部。該下板包含軸向延伸氣孔而與該充氣部流體相通。該上板可包含八個徑向延伸氣體通道配置於該上板之周圍並以等距離隔開，該下板可包含內、外排之氣孔。該兩件式陶瓷噴淋頭形成一處理室介電窗，並透過該介電窗而將天線產生之無線射頻能耦合進該處理室。一氣體輸送系統乃將處理氣體輸送至該上、下板之間的充氣部，其氣體容積不大於500 cm3 。下板中之氣孔則於該充氣部以及下板之一電漿外露氧化釔塗佈表面之間延伸。該氣體輸送系統可經操作而供應蝕刻氣體以及沈積氣體至該處理室，俾使環狀充氣部內之蝕刻氣體可在200毫秒之內替換成沈積氣體，反之亦然。
简体摘要：一种两件式的陶瓷喷淋头包含上、下板而可输送处理气体至电感耦合等离子处理室中。该上板乃覆盖在下板上方并包含：由上板之一外缘向内延伸之径向延伸气体信道；轴向延伸气体信道，与该径向延伸气体信道流体相通；一环状凹部，其在该上下板之间形成一环状充气部。该下板包含轴向延伸气孔而与该充气部流体相通。该上板可包含八个径向延伸气体信道配置于该上板之周围并以等距离隔开，该下板可包含内、外排之气孔。该两件式陶瓷喷淋头形成一处理室介电窗，并透过该介电窗而将天线产生之无线射频能耦合进该处理室。一气体输送系统乃将处理气体输送至该上、下板之间的充气部，其气体容积不大于500 cm3 。下板中之气孔则于该充气部以及下板之一等离子外露氧化钇涂布表面之间延伸。该气体输送系统可经操作而供应蚀刻气体以及沉积气体至该处理室，俾使环状充气部内之蚀刻气体可在200毫秒之内替换成沉积气体，反之亦然。

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