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    • 1. 发明专利
    • 使用噴淋頭電壓變動進行故障偵測
    • 使用喷淋头电压变动进行故障侦测
    • TW201705329A
    • 2017-02-01
    • TW105109952
    • 2016-03-30
    • 蘭姆研究公司LAM RESEARCH CORPORATION
    • 卡普爾 蘇尼爾KAPOOR, SUNIL瑞基內尼 亞什萬特RANGINENI, YASWANTH賓漢 亞倫BINGHAM, AARON阮 湍NGUYEN, TUAN
    • H01L21/66H01J37/32
    • H01L21/67253H01J37/32082H01J37/32091H01J37/32174H01J37/3244H01J37/32568H01J37/32926H01J37/32935H01J37/3299H01L21/02274H01L21/3065
    • 提供用於偵測電漿處理系統之處理條件的方法及系統。一種方法包含從一射頻(RF)電源供應器提供RF功率至該電漿處理系統的一噴淋頭,且在一基板上執行一製程操作,該基板在該電漿處理系統中加以配置。該方法進一步包含使用一電壓探針感測該噴淋頭的電壓,該電壓探針係在該RF電源供應器及該噴淋頭之間直插式連接。該電壓的感測產生在執行該製程操作期間的電壓數值。該方法包含將該等電壓數值與一電壓檢查帶相比較,該電壓檢查帶針對被執行的該製程操作係預先定義的。該比較結果係用以偵測當該等電壓數值係在該電壓檢查帶的外部時之情況。該方法亦包含當該比較結果偵測到該等電壓數值係在該電壓檢查帶的外部時產生一警報。該警報進一步用以基於針對該製程操作預先定義的該電壓檢查帶識別一種故障類型。
    • 提供用于侦测等离子处理系统之处理条件的方法及系统。一种方法包含从一射频(RF)电源供应器提供RF功率至该等离子处理系统的一喷淋头,且在一基板上运行一制程操作,该基板在该等离子处理系统中加以配置。该方法进一步包含使用一电压探针传感该喷淋头的电压,该电压探针系在该RF电源供应器及该喷淋头之间直插式连接。该电压的传感产生在运行该制程操作期间的电压数值。该方法包含将该等电压数值与一电压检查带相比较,该电压检查带针对被运行的该制程操作系预先定义的。该比较结果系用以侦测当该等电压数值系在该电压检查带的外部时之情况。该方法亦包含当该比较结果侦测到该等电压数值系在该电压检查带的外部时产生一警报。该警报进一步用以基于针对该制程操作预先定义的该电压检查带识别一种故障类型。