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1. 发明专利

TWI604896B 接液處理裝置，接液處理方法，基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：接液处理设备，接液处理方法，基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI604896B
公开(公告)日：2017-11-11
申请号：TW104107224
申请日：2015-03-06
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：西部幸伸 , NISHIBE, YUKINOBU , 磯明典 , ISO, AKINORI
IPC分类号： B05B12/08 , G02F1/1337

2. 发明专利

TW201840458A 浮上搬送裝置及基板處理裝置审中-公开
简体标题：浮上搬送设备及基板处理设备
公开(公告)号：TW201840458A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW106143470
申请日：2017-12-12
申请人：日商芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：今岡裕一 , IMAOKA, YUICHI , 磯明典 , ISO, AKINORI
IPC分类号： B65G49/06 , B65G51/03 , G02F1/13
摘要：提供一種可防止基板撓曲來進行搬送的浮上搬送裝置及基板處理裝置。　　本發明的浮上搬送裝置，是使基板浮上來搬送的浮上搬送裝置，其特徵為，夾著基板的搬送經路而具有下側浮上裝置與上側浮上裝置，構成下側浮上裝置與上側浮上裝置之至少任一方的複數個浮上塊體是設置間隙來配置，構成另一方的浮上塊體是配置成與前述間隙相對向。
简体摘要：提供一种可防止基板挠曲来进行搬送的浮上搬送设备及基板处理设备。　　本发明的浮上搬送设备，是使基板浮上来搬送的浮上搬送设备，其特征为，夹着基板的搬送经路而具有下侧浮上设备与上侧浮上设备，构成下侧浮上设备与上侧浮上设备之至少任一方的复数个浮上块体是设置间隙来配置，构成另一方的浮上块体是配置成与前述间隙相对向。

3. 发明专利

TW201706548A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201706548A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：TW104139421
申请日：2015-11-26
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：高原竜平 , TAKAHARA, RYUHEI , 西部幸伸 , NISHIBE, YUKINOBU , 磯明典 , ISO, AKINORI , 坂下健司 , SAKASHITA, KENJI , 松田大輝 , MATSUDA, DAIKI
IPC分类号： F26B15/12
摘要：提供可抑制基板的顫動及搬送偏離的基板處理裝置。關於實施形態的基板處理裝置(1)係具備以在處理室(2)內挾持搬送路徑(H)之方式個別設置於搬送路徑(H)上下，分別朝向搬送路徑(H)噴吹氣體的第1氣刀(4a)與第2氣刀(4b)，與設置於處理室(2)內，調整氣體之流向的整流板(5)。第1氣刀(4a)及第2氣刀(4b)係以分別具有長條的吹出口(13)，吹出口(13)的長邊方向在水平面內往對於基板(W)的搬送方向(Ha)相同方向傾斜，吹出口(13)往基板(W)的搬送方向(Ha)的上游側吹出氣體之方式設置。整流板(5)係以具有第1面(5a)及其相反面的第2面(5b)，位於搬送路徑(H)的下方而朝基板(W)之搬送方向(Ha)的下游側傾倒，將氣體的流向分成沿著第1面(5a)的流向與沿著第2面(5b)的流向之方式設置。
简体摘要：提供可抑制基板的颤动及搬送偏离的基板处理设备。关于实施形态的基板处理设备(1)系具备以在处理室(2)内挟持搬送路径(H)之方式个别设置于搬送路径(H)上下，分别朝向搬送路径(H)喷吹气体的第1气刀(4a)与第2气刀(4b)，与设置于处理室(2)内，调整气体之流向的整流板(5)。第1气刀(4a)及第2气刀(4b)系以分别具有长条的吹出口(13)，吹出口(13)的长边方向在水平面内往对于基板(W)的搬送方向(Ha)相同方向倾斜，吹出口(13)往基板(W)的搬送方向(Ha)的上游侧吹出气体之方式设置。整流板(5)系以具有第1面(5a)及其相反面的第2面(5b)，位于搬送路径(H)的下方而朝基板(W)之搬送方向(Ha)的下游侧倾倒，将气体的流向分成沿着第1面(5a)的流向与沿着第2面(5b)的流向之方式设置。

4. 发明专利

TW201607616A 接液處理裝置，接液處理方法，基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：接液处理设备，接液处理方法，基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201607616A
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW104107224
申请日：2015-03-06
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：西部幸伸 , NISHIBE, YUKINOBU , 磯明典 , ISO, AKINORI
IPC分类号： B05B12/08 , G02F1/1337
摘要：提供一種提高藉由光配向法得到之液晶配向膜的異方性，且可形成均一的液晶配向膜之基板處理裝置。實施形態之接液處理裝置，對被搬運滾筒(1)搬運之基板(W)從第1噴嘴(N1)供給乳酸乙酯液而形成液膜，並對該形成有液膜的狀態的基板從位置比第1噴嘴(N1)還靠基板(W)搬運方向下游側之第2噴嘴(N2)供給乳酸乙酯液。第1噴嘴(N1)包含在噴嘴內除去氣泡之機構，第2噴嘴(N2)例如使用噴淋嘴等噴嘴。
简体摘要：提供一种提高借由光配向法得到之液晶配向膜的异方性，且可形成均一的液晶配向膜之基板处理设备。实施形态之接液处理设备，对被搬运滚筒(1)搬运之基板(W)从第1喷嘴(N1)供给乳酸乙酯液而形成液膜，并对该形成有液膜的状态的基板从位置比第1喷嘴(N1)还靠基板(W)搬运方向下游侧之第2喷嘴(N2)供给乳酸乙酯液。第1喷嘴(N1)包含在喷嘴内除去气泡之机构，第2喷嘴(N2)例如使用喷淋嘴等喷嘴。

5. 发明专利

TW201601850A 基板處理裝置、基板處理方法、基板製造裝置及基板製造方法审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理方法、基板制造设备及基板制造方法
公开(公告)号：TW201601850A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104114403
申请日：2015-05-06
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：今岡裕一 , IMAOKA, YUICHI , 磯明典 , ISO, AKINORI
IPC分类号： B08B3/02 , B05B7/00 , G02F1/1333
摘要：本發明是在於提供一種可良好地進行利用處理液對基板的處理之基板處理裝置及基板處理方法、基板製造裝置及基板製造方法。作為實施形態的基板處理裝置的洗淨部(20)是具備：第1噴嘴(21)，其係對於被搬送的基板(W)的表面供給流體(例如洗淨液(L))；及一對的第2噴嘴(22A、22B)，其係以能夠夾著第1噴嘴(21)的方式排列於基板(W)的搬送方向(A)，對於與基板(W)的表面垂直的面傾斜而吐出流體(例如洗淨液(L))。比噴嘴(21)更位於下游側的噴嘴(22B)是往基板(W)搬送方向(A)的下游側吐出流體，比噴嘴(21)更位於上游側的噴嘴(22A)是往上游側吐出流體。
简体摘要：本发明是在于提供一种可良好地进行利用处理液对基板的处理之基板处理设备及基板处理方法、基板制造设备及基板制造方法。作为实施形态的基板处理设备的洗净部(20)是具备：第1喷嘴(21)，其系对于被搬送的基板(W)的表面供给流体(例如洗净液(L))；及一对的第2喷嘴(22A、22B)，其系以能够夹着第1喷嘴(21)的方式排列于基板(W)的搬送方向(A)，对于与基板(W)的表面垂直的面倾斜而吐出流体(例如洗净液(L))。比喷嘴(21)更位于下游侧的喷嘴(22B)是往基板(W)搬送方向(A)的下游侧吐出流体，比喷嘴(21)更位于上游侧的喷嘴(22A)是往上游侧吐出流体。

6. 发明专利

TWI421966B 基板處理裝置失效
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI421966B
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW096127087
申请日：2007-07-25
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：廣瀨治道 , HIROSE, HARUMICHI , 磯明典 , ISO, AKINORI , 西部幸伸 , NISHIBE, YUKINOBU , 石川大輔 , ISHIKAWA, DAISUKE
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/027

7. 发明专利

TW201706044A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201706044A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：TW104130602
申请日：2015-09-16
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：西部幸伸 , NISHIBE, YUKINOBU , 磯明典 , ISO, AKINORI
IPC分类号： B08B3/02 , H01L21/304
摘要：提供可以防止氣泡之影響，並且藉由處理液良好地進行處理之基板處理裝置。實施形態之基板洗淨裝置(100)(基板處理裝置之一例)係從噴淋噴嘴(11)對藉由搬運手段(13)被搬運之基板(W)供給洗淨液(L)而進行洗淨處理。第1回收配管(14)係從洗淨槽(10)之底部回收洗淨處理所使用之洗淨液(L)至液槽(T)。第2回收配管(15)係將在洗淨工程所產生的氣泡回收至液槽(T)。第2回收配管(15)具備強制性地回收氣泡之抽氣器(16)。
简体摘要：提供可以防止气泡之影响，并且借由处理液良好地进行处理之基板处理设备。实施形态之基板洗净设备(100)(基板处理设备之一例)系从喷淋喷嘴(11)对借由搬运手段(13)被搬运之基板(W)供给洗净液(L)而进行洗净处理。第1回收配管(14)系从洗净槽(10)之底部回收洗净处理所使用之洗净液(L)至液槽(T)。第2回收配管(15)系将在洗净工程所产生的气泡回收至液槽(T)。第2回收配管(15)具备强制性地回收气泡之抽气器(16)。

8. 发明专利

TWI559432B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI559432B
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：TW103138194
申请日：2014-11-04
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：手島理恵 , TESHIMA, RIE , 磯明典 , ISO, AKINORI , 濱田崇広 , HAMADA, TAKAHIRO , 坂下健司 , SAKASHITA, KENJI , 西部幸伸 , NISHIBE, YUKINOBU , 高原竜平 , TAKAHARA, RYUHEI
IPC分类号： H01L21/67 , B08B1/00 , B08B11/00

9. 发明专利

TW201535559A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201535559A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：TW103138194
申请日：2014-11-04
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：手島理恵 , TESHIMA, RIE , 磯明典 , ISO, AKINORI , 濱田崇広 , HAMADA, TAKAHIRO , 坂下健司 , SAKASHITA, KENJI , 西部幸伸 , NISHIBE, YUKINOBU , 高原竜平 , TAKAHARA, RYUHEI
IPC分类号： H01L21/67 , B08B1/00 , B08B11/00
摘要：提供可實現生產速度的提升及成本的削減，進而確實去除粒子的基板處理裝置。關於實施形態的基板處理裝置，係具備接觸基板(W)上的帶電防止膜(Wa)的表面並進行相對移動，擦拭該帶電防止膜(Wa)的表面的擦拭構件(11)。該擦拭構件(11)係具備成為基體的彈性體(11a)，與設置於該彈性體(11a)的表面，接觸相對移動之帶電防止膜(Wa)的表面的布(11b)。
简体摘要：提供可实现生产速度的提升及成本的削减，进而确实去除粒子的基板处理设备。关于实施形态的基板处理设备，系具备接触基板(W)上的带电防止膜(Wa)的表面并进行相对移动，擦拭该带电防止膜(Wa)的表面的擦拭构件(11)。该擦拭构件(11)系具备成为基体的弹性体(11a)，与设置于该弹性体(11a)的表面，接触相对移动之带电防止膜(Wa)的表面的布(11b)。

10. 发明专利

TWI431676B 基板之處理裝置及處理方法有权
简体标题：基板之处理设备及处理方法
公开(公告)号：TWI431676B
公开(公告)日：2014-03-21
申请号：TW099127759
申请日：2010-08-19
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：大森圭悟 , OHMORI, KEIGO , 磯明典 , ISO, AKINORI , 今岡裕一 , IMAOKA, YUICHI
IPC分类号： H01L21/30 , B05B13/04

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