专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201711761A 水刀、基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：水刀、基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201711761A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105118585
申请日：2016-06-14
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：今岡裕一 , IMAOKA, YUICHI , 西部幸伸 , NISHIBE, YUKINOBU
IPC分类号： B08B3/02 , F26B5/12
摘要：本發明提供一種：能以短時間形成「平均地吐出處理液」之狀態的水刀、基板處理裝置及基板處理方法。實施形態的水刀(11)具有：用來貯留處理液的貯留部(11T)；形成朝貯留部(11T)之長度方向延伸的槽縫狀，連接於貯留部(11T)而用來吐出處理液的吐出部(11S)；用來對貯留部(11T)供給處理液的處理液供給通路(11P)；用來吸引存在於貯留部(11T)之氣體的吸引通路(11V)。從處理液供給通路(11P)對貯留部(11T)供給處理液，並同時對貯留部(11T)作用不會從吐出部(11S)將外部的氣體吸入貯留部(11T)內的吸引力。
简体摘要：本发明提供一种：能以短时间形成“平均地吐出处理液”之状态的水刀、基板处理设备及基板处理方法。实施形态的水刀(11)具有：用来贮留处理液的贮留部(11T)；形成朝贮留部(11T)之长度方向延伸的槽缝状，连接于贮留部(11T)而用来吐出处理液的吐出部(11S)；用来对贮留部(11T)供给处理液的处理液供给通路(11P)；用来吸引存在于贮留部(11T)之气体的吸引通路(11V)。从处理液供给通路(11P)对贮留部(11T)供给处理液，并同时对贮留部(11T)作用不会从吐出部(11S)将外部的气体吸入贮留部(11T)内的吸引力。

2. 发明专利

TW201840458A 浮上搬送裝置及基板處理裝置审中-公开
简体标题：浮上搬送设备及基板处理设备
公开(公告)号：TW201840458A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW106143470
申请日：2017-12-12
申请人：日商芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：今岡裕一 , IMAOKA, YUICHI , 磯明典 , ISO, AKINORI
IPC分类号： B65G49/06 , B65G51/03 , G02F1/13
摘要：提供一種可防止基板撓曲來進行搬送的浮上搬送裝置及基板處理裝置。　　本發明的浮上搬送裝置，是使基板浮上來搬送的浮上搬送裝置，其特徵為，夾著基板的搬送經路而具有下側浮上裝置與上側浮上裝置，構成下側浮上裝置與上側浮上裝置之至少任一方的複數個浮上塊體是設置間隙來配置，構成另一方的浮上塊體是配置成與前述間隙相對向。
简体摘要：提供一种可防止基板挠曲来进行搬送的浮上搬送设备及基板处理设备。　　本发明的浮上搬送设备，是使基板浮上来搬送的浮上搬送设备，其特征为，夹着基板的搬送经路而具有下侧浮上设备与上侧浮上设备，构成下侧浮上设备与上侧浮上设备之至少任一方的复数个浮上块体是设置间隙来配置，构成另一方的浮上块体是配置成与前述间隙相对向。

3. 发明专利

TW201601850A 基板處理裝置、基板處理方法、基板製造裝置及基板製造方法审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理方法、基板制造设备及基板制造方法
公开(公告)号：TW201601850A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104114403
申请日：2015-05-06
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：今岡裕一 , IMAOKA, YUICHI , 磯明典 , ISO, AKINORI
IPC分类号： B08B3/02 , B05B7/00 , G02F1/1333
摘要：本發明是在於提供一種可良好地進行利用處理液對基板的處理之基板處理裝置及基板處理方法、基板製造裝置及基板製造方法。作為實施形態的基板處理裝置的洗淨部(20)是具備：第1噴嘴(21)，其係對於被搬送的基板(W)的表面供給流體(例如洗淨液(L))；及一對的第2噴嘴(22A、22B)，其係以能夠夾著第1噴嘴(21)的方式排列於基板(W)的搬送方向(A)，對於與基板(W)的表面垂直的面傾斜而吐出流體(例如洗淨液(L))。比噴嘴(21)更位於下游側的噴嘴(22B)是往基板(W)搬送方向(A)的下游側吐出流體，比噴嘴(21)更位於上游側的噴嘴(22A)是往上游側吐出流體。
简体摘要：本发明是在于提供一种可良好地进行利用处理液对基板的处理之基板处理设备及基板处理方法、基板制造设备及基板制造方法。作为实施形态的基板处理设备的洗净部(20)是具备：第1喷嘴(21)，其系对于被搬送的基板(W)的表面供给流体(例如洗净液(L))；及一对的第2喷嘴(22A、22B)，其系以能够夹着第1喷嘴(21)的方式排列于基板(W)的搬送方向(A)，对于与基板(W)的表面垂直的面倾斜而吐出流体(例如洗净液(L))。比喷嘴(21)更位于下游侧的喷嘴(22B)是往基板(W)搬送方向(A)的下游侧吐出流体，比喷嘴(21)更位于上游侧的喷嘴(22A)是往上游侧吐出流体。

4. 发明专利

TWI668173B 浮上搬送裝置及基板處理裝置有权
简体标题：浮上搬送设备及基板处理设备
公开(公告)号：TWI668173B
公开(公告)日：2019-08-11
申请号：TW106143470
申请日：2017-12-12
申请人：日商芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：今岡裕一 , IMAOKA, YUICHI , 磯明典 , ISO, AKINORI
IPC分类号： B65G49/06 , B65G51/03 , G02F1/13

5. 发明专利

TWI593470B 基板處理裝置、基板處理方法、基板製造裝置及基板製造方法有权
简体标题：基板处理设备、基板处理方法、基板制造设备及基板制造方法
公开(公告)号：TWI593470B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW104114403
申请日：2015-05-06
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：今岡裕一 , IMAOKA, YUICHI , 磯明典 , ISO, AKINORI
IPC分类号： B08B3/02 , B05B7/00 , G02F1/1333

6. 发明专利

TWI421925B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI421925B
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW096116594
申请日：2007-05-10
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：今岡裕一 , IMAOKA, YUICHI
IPC分类号： H01L21/30 , H01L21/00

7. 发明专利

TWI431676B 基板之處理裝置及處理方法有权
简体标题：基板之处理设备及处理方法
公开(公告)号：TWI431676B
公开(公告)日：2014-03-21
申请号：TW099127759
申请日：2010-08-19
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：大森圭悟 , OHMORI, KEIGO , 磯明典 , ISO, AKINORI , 今岡裕一 , IMAOKA, YUICHI
IPC分类号： H01L21/30 , B05B13/04

8. 发明专利

TWI405623B 基板之旋轉處理裝置有权
简体标题：基板之旋转处理设备
公开(公告)号：TWI405623B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：TW095124312
申请日：2006-07-04
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：西部幸伸 , NISHIBE, YUKINOBU , 宮迫久顯 , MIYASAKO, HISAAKI , 今岡裕一 , IMAOKA, YUICHI
IPC分类号： B08B7/00

9. 发明专利

TWI615208B 水刀、基板處理裝置及基板處理方法有权
简体标题：水刀、基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TWI615208B
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：TW105118585
申请日：2016-06-14
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：今岡裕一 , IMAOKA, YUICHI , 西部幸伸 , NISHIBE, YUKINOBU
IPC分类号： B08B3/02 , F26B5/12

10. 发明专利

TWI402900B 基板之處理裝置及處理方法有权
简体标题：基板之处理设备及处理方法
公开(公告)号：TWI402900B
公开(公告)日：2013-07-21
申请号：TW095113760
申请日：2006-04-18
申请人：芝浦機械電子裝置股份有限公司 , SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
发明人：今岡裕一 , IMAOKA, YUICHI , 磯明典 , ISO, AKINORI
IPC分类号： H01L21/30

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式