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1. 发明专利

TWI650794B 用於電漿外形控制的RF屏蔽蓋加熱器及包含該RF屏蔽蓋加熱器的電漿處理設備有权
简体标题：用于等离子外形控制的RF屏蔽盖加热器及包含该RF屏蔽盖加热器的等离子处理设备
公开(公告)号：TWI650794B
公开(公告)日：2019-02-11
申请号：TW103145021
申请日：2014-12-23
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：巴那沙莫 , BANNA, SAMER , 肯納席克弗拉德米爾 , KNYAZIK, VLADIMIR , 畢許哈諾韋伯 , BISHARA, WAHEB , 特多羅法蘭汀 , TODOROW, VALENTIN
IPC分类号： H01J37/32

2. 发明专利

TWI677038B 用於減少半導體結構中由輻射引起的變化的方法和裝置有权
简体标题：用于减少半导体结构中由辐射引起的变化的方法和设备
公开(公告)号：TWI677038B
公开(公告)日：2019-11-11
申请号：TW105105898
申请日：2016-02-26
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：迪可森蓋瑞E , DICKERSON, GARY E. , 林聖強(維特) , LIM, SENG KEONG (VICTOR) , 巴那沙莫 , BANNA, SAMER , 柯克格雷戈里 , KIRK, GREGORY , 費茲艾拉凡尼梅迪 , VAEZ-IRAVANI, MEHDI
IPC分类号： H01L21/66 , G01T1/167 , H01L21/027 , G03F7/20

3. 发明专利

TWI677005B 用於感應式耦合電漿反應器的介電窗及用於處理基板之設備有权
简体标题：用于感应式耦合等离子反应器的介电窗及用于处理基板之设备
公开(公告)号：TWI677005B
公开(公告)日：2019-11-11
申请号：TW103128848
申请日：2014-08-21
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：巴那沙莫 , BANNA, SAMER , 龔則敬 , GUNG, TZA-JING , 肯納席克弗拉德米爾 , KNYAZIK, VLADIMIR , 坦汀汪凱爾 , TANTIWONG, KYLE , 馬洛爾丹恩A , MAROHL, DAN A. , 托多羅瓦倫汀N , TODOROW, VALENTIN N. , 尤史帝芬 , YUEN, STEPHEN
IPC分类号： H01J37/305

4. 发明专利

TW201907151A 彈性模式掃描光學顯微術及檢驗系統审中-公开
简体标题：弹性模式扫描光学显微术及检验系统
公开(公告)号：TW201907151A
公开(公告)日：2019-02-16
申请号：TW107116014
申请日：2018-05-11
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：巴那沙莫 , BANNA, SAMER , 畢夏拉瓦希布 , BISHARA, WAHEB , 吳棟 , WU, DONG , 費茲艾拉凡尼梅迪 , VAEZ-IRAVANI, MEHDI
IPC分类号： G01N21/88 , G01N21/47 , G02B21/08
摘要：一種用於彈性檢驗一試樣的方法包括以下步驟：使用一射束源形成一輸入射束；使用一輸入遮罩來阻擋該輸入射束的一部分；及從該輸入射束的一部分形成一定形射束。在一物鏡的一第一部分處接收該定形射束及將該定形射束聚焦到一試樣上。在該物鏡的一第二部分處收集一反射射束。在該物鏡的該第一部分及該第二部分處及在該物鏡的一第三部分處收集散射光。在一暗視野偵測器模組處接收該散射光，且將該散射光的一部分引導到一暗視野偵測器。該暗視野偵測器模組包括具有一或更多個輸出孔的一輸出遮罩，該一或更多個輸出孔允許該散射光穿過該物鏡的該第三部分的至少一部分穿過而作為該散射光被引導到該暗視野偵測器的該部分。
简体摘要：一种用于弹性检验一试样的方法包括以下步骤：使用一射束源形成一输入射束；使用一输入遮罩来阻挡该输入射束的一部分；及从该输入射束的一部分形成一定形射束。在一物镜的一第一部分处接收该定形射束及将该定形射束聚焦到一试样上。在该物镜的一第二部分处收集一反射射束。在该物镜的该第一部分及该第二部分处及在该物镜的一第三部分处收集散射光。在一暗视野侦测器模块处接收该散射光，且将该散射光的一部分引导到一暗视野侦测器。该暗视野侦测器模块包括具有一或更多个输出孔的一输出遮罩，该一或更多个输出孔允许该散射光穿过该物镜的该第三部分的至少一部分穿过而作为该散射光被引导到该暗视野侦测器的该部分。

5. 发明专利

TWI648425B 具有內部擴散器和角度注入件的可調諧氣體輸送組件有权
简体标题：具有内部扩散器和角度注入件的可调谐气体输送组件
公开(公告)号：TWI648425B
公开(公告)日：2019-01-21
申请号：TW106116779
申请日：2014-02-06
申请人：美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：肯納席克弗拉德米爾 , KNYAZIK, VLADIMIR , 坦汀汪凱爾 , TANTIWONG, KYLE , 巴那沙莫 , BANNA, SAMER , 畢許哈諾韋伯 , BISHARA, WAHEB
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/513

6. 发明专利

TWI617222B 具有高度對稱四重式氣體注入的電漿反應器有权
简体标题：具有高度对称四重式气体注入的等离子反应器
公开(公告)号：TWI617222B
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW103106332
申请日：2014-02-25
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：洛正佐硏 , ROZENZON, YAN , 坦汀汪凱爾 , TANTIWONG, KYLE , 尤瑟夫以馬德 , YOUSIF, IMAD , 肯納席克弗拉德米爾 , KNYAZIK, VLADIMIR , 巴那沙莫 , BANNA, SAMER
IPC分类号： H05H1/24
CPC分类号： H01J37/3244 , C23C16/45561 , C23C16/45578 , C23C16/4558 , H01J37/32082

7. 发明专利

TW201732074A 具有內部擴散器和角度注入件的可調諧氣體輸送組件审中-公开
简体标题：具有内部扩散器和角度注入件的可调谐气体输送组件
公开(公告)号：TW201732074A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW106116779
申请日：2014-02-06
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：肯納席克弗拉德米爾 , KNYAZIK, VLADIMIR , 坦汀汪凱爾 , TANTIWONG, KYLE , 巴那沙莫 , BANNA, SAMER , 畢許哈諾韋伯 , BISHARA, WAHEB
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/513
CPC分类号： H01J37/32449 , F26B21/004 , H01J37/3244
摘要：本發明之實施例係關於用於以改善之均勻性提供處理氣體至處理腔室的設備。本發明的一個實施例提供氣體輸送組件。氣體輸送組件包括樞部、噴嘴，以及設置在噴嘴中的一或多個氣體擴散器。噴嘴具有帶有側壁與頂表面之圓柱體。複數個注入通道於噴嘴內部形成以將處理氣體經由設置在側壁中的複數個出口輸送進處理腔室中。注入通道經配置以將處理氣體從設置在側壁中的各出口以一方向導出，該方向未與樞部之中心線徑向對齊。
简体摘要：本发明之实施例系关于用于以改善之均匀性提供处理气体至处理腔室的设备。本发明的一个实施例提供气体输送组件。气体输送组件包括枢部、喷嘴，以及设置在喷嘴中的一或多个气体扩散器。喷嘴具有带有侧壁与顶表面之圆柱体。复数个注入信道于喷嘴内部形成以将处理气体经由设置在侧壁中的复数个出口输送进处理腔室中。注入信道经配置以将处理气体从设置在侧壁中的各出口以一方向导出，该方向未与枢部之中心线径向对齐。

8. 发明专利

TWI540941B 感應耦合電漿裝置有权
简体标题：感应耦合等离子设备
公开(公告)号：TWI540941B
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW099121079
申请日：2010-06-28
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：托多羅法倫帝N , TODOROW, VALENTIN N. , 巴那沙莫 , BANNA, SAMER , 安格維恩卡 , AGARWAL, ANKUR , 陳誌剛 , CHEN, ZHIGANG , 王協蔣 , WANG, TSE-CHIANG , 蓋葉安德魯恩 , NGUYEN, ANDREW , 薩理納斯馬丁傑夫 , SALINAS, MARTIN JEFF , 羅夫沙西德 , RAUF, SHAHID
IPC分类号： H05H1/46 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/321 , B44C1/227 , C23C16/505 , H01J37/32165 , H01J37/3244

9. 发明专利

TW201542042A 對操作電漿製程之系統進行調諧的設備审中-公开
简体标题：对操作等离子制程之系统进行调谐的设备
公开(公告)号：TW201542042A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW104122605
申请日：2009-05-14
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：巴那沙莫 , BANNA, SAMER , 特多羅法蘭汀 , TODOROW, VALENTIN , 拉馬斯瓦米卡提克 , RAMASWAMY, KARTIK
IPC分类号： H05H1/36 , H01J37/32 , H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32146 , H01J37/321 , H01J37/32155 , H01J37/32174
摘要：本發明之實施例大體而言提供一種用於在廣製程窗口(wide process window)內進行脈衝電漿製程之方法及設備。在某些實施例中，一設備可包括一具有調頻之RF電源及一耦接至該RF電源之匹配網路，該RF電源與該匹配網路共用一通用感應器，該通用感應器用於讀取反射回該RF電源之反射RF功率。在某些實施例中，一設備可包括一具有調頻之RF電源、一耦接至該RF電源之匹配網路及一用於調諧各個該RF電源及該匹配網路之通用控制器，該RF電源與該匹配網路共用一通用感應器，該通用感應器用於讀取反射回該RF電源之反射RF功率。
简体摘要：本发明之实施例大体而言提供一种用于在广制程窗口(wide process window)内进行脉冲等离子制程之方法及设备。在某些实施例中，一设备可包括一具有调频之RF电源及一耦接至该RF电源之匹配网络，该RF电源与该匹配网络共享一通用感应器，该通用感应器用于读取反射回该RF电源之反射RF功率。在某些实施例中，一设备可包括一具有调频之RF电源、一耦接至该RF电源之匹配网络及一用于调谐各个该RF电源及该匹配网络之通用控制器，该RF电源与该匹配网络共享一通用感应器，该通用感应器用于读取反射回该RF电源之反射RF功率。

10. 发明专利

TW201530653A ＩＣＰ電漿反應器中的極端邊緣與偏斜控制审中-公开
简体标题：ＩＣＰ等离子反应器中的极端边缘与偏斜控制
公开(公告)号：TW201530653A
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW103145019
申请日：2014-12-23
申请人：應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：巴那沙莫 , BANNA, SAMER , 肯納席克弗拉德米爾 , KNYAZIK, VLADIMIR , 坦汀汪凱爾 , TANTIWONG, KYLE
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H05H1/24 , H01J37/321 , H01J37/32174 , H01J37/32642 , H01J37/32697 , H01L21/6875
摘要：本揭示之實施例提供用於提高邊緣區域周圍的電漿均勻度及/或減少電漿處理腔室中的不對稱之設備及方法。本揭示的一個實施例提供一種電漿調整組件，該電漿調整組件具有一個或更多個導體，該一個或更多個導體位於電漿處理腔室中的基板支座之邊緣區域周圍。該一個或更多個導體與其它腔室元件隔離，並且在該處理腔室中的邊緣區域附近電浮動而未連接到主動電位。在操作過程中，當在該電漿處理腔室中保持電漿時，存在的該一個或更多個導體影響該一個或更多個導體附近的電漿分佈。
简体摘要：本揭示之实施例提供用于提高边缘区域周围的等离子均匀度及/或减少等离子处理腔室中的不对称之设备及方法。本揭示的一个实施例提供一种等离子调整组件，该等离子调整组件具有一个或更多个导体，该一个或更多个导体位于等离子处理腔室中的基板支座之边缘区域周围。该一个或更多个导体与其它腔室组件隔离，并且在该处理腔室中的边缘区域附近电浮动而未连接到主动电位。在操作过程中，当在该等离子处理腔室中保持等离子时，存在的该一个或更多个导体影响该一个或更多个导体附近的等离子分布。

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