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1. 发明专利

TWI680489B 帶電粒子束裝置及帶電粒子束的位置偏差修正方法有权
简体标题：带电粒子束设备及带电粒子束的位置偏差修正方法
公开(公告)号：TWI680489B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW106132898
申请日：2017-09-26
申请人：日商紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：中山田憲昭 , NAKAYAMADA, NORIAKI
IPC分类号： H01J37/302 , H01J37/317 , G03F7/20

2. 发明专利

TW201830148A 電子束裝置及電子束之位置偏移修正方法审中-公开
简体标题：电子束设备及电子束之位置偏移修正方法
公开(公告)号：TW201830148A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106132876
申请日：2017-09-26
申请人：日商紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：中山田憲昭 , NAKAYAMADA, NORIAKI
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/06 , H01J37/147 , H01J37/302
摘要：本發明之其中一個態樣之電子束裝置，其特徵為，係具備有：帶電量分布演算部，係使用將具有反曲點之第1指數函數和1次比例函數或者是收斂之第2指數函數中的至少其中一者之函數作了組合的依存於圖案密度之組合函數，來對於在將電子束照射至基板上的情況時之照射區域的帶電量分布進行演算；和位置偏移量演算部，係使用所得到的帶電量分布，來演算出起因於電子束之照射所形成的照射圖案之位置偏移量；和修正部，係使用位置偏移量，來對於照射位置進行修正；和柱體，係將電子束照射至被修正後的照射位置處。
简体摘要：本发明之其中一个态样之电子束设备，其特征为，系具备有：带电量分布演算部，系使用将具有反曲点之第1指数函数和1次比例函数或者是收敛之第2指数函数中的至少其中一者之函数作了组合的依存于图案密度之组合函数，来对于在将电子束照射至基板上的情况时之照射区域的带电量分布进行演算；和位置偏移量演算部，系使用所得到的带电量分布，来演算出起因于电子束之照射所形成的照射图案之位置偏移量；和修正部，系使用位置偏移量，来对于照射位置进行修正；和柱体，系将电子束照射至被修正后的照射位置处。

3. 发明专利

TW201826317A 帶電粒子束裝置及帶電粒子束的位置偏差修正方法审中-公开
简体标题：带电粒子束设备及带电粒子束的位置偏差修正方法
公开(公告)号：TW201826317A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106132898
申请日：2017-09-26
申请人：日商紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：中山田憲昭 , NAKAYAMADA, NORIAKI
IPC分类号： H01J37/302 , H01J37/317 , G03F7/20
摘要：本發明的一個態樣之帶電粒子束裝置，其特徵為，具備：霧化帶電粒子量分布演算部，將偏離了霧化帶電粒子的設計上的分布中心之分布函數、與未偏離帶電粒子束的設計上的照射中心之照射量分布予以摺積積分，藉此演算霧化帶電粒子量分布；及位置偏差量演算部，演算基於霧化帶電粒子量分布之位置偏差量；及修正部，使用位置偏差量，修正照射位置；及鏡柱，具有放出帶電粒子束之放出源、及將前述帶電粒子束偏向之偏向器，將帶電粒子束照射至修正後的照射位置。
简体摘要：本发明的一个态样之带电粒子束设备，其特征为，具备：雾化带电粒子量分布演算部，将偏离了雾化带电粒子的设计上的分布中心之分布函数、与未偏离带电粒子束的设计上的照射中心之照射量分布予以卷积积分，借此演算雾化带电粒子量分布；及位置偏差量演算部，演算基于雾化带电粒子量分布之位置偏差量；及修正部，使用位置偏差量，修正照射位置；及镜柱，具有放出带电粒子束之放出源、及将前述带电粒子束偏向之偏向器，将带电粒子束照射至修正后的照射位置。

4. 发明专利

TWI534528B 帶電粒子束描繪裝置及帶電粒子束之照射量調變係數之取得方法有权
简体标题：带电粒子束描绘设备及带电粒子束之照射量调制系数之取得方法
公开(公告)号：TWI534528B
公开(公告)日：2016-05-21
申请号：TW103110293
申请日：2014-03-19
申请人：紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：中山田憲昭 , NAKAYAMADA, NORIAKI , 加藤靖雄 , KATO, YASUO , 菅沼瑞奈 , SUGANUMA, MIZUNA
IPC分类号： G03F1/36
CPC分类号： H01J37/3174 , G03F7/2061 , G03F7/2063 , H01J37/3026 , H01J2237/31764 , H01J2237/31776

5. 发明专利

TWI653512B 電子束裝置及電子束之位置偏移修正方法有权
简体标题：电子束设备及电子束之位置偏移修正方法
公开(公告)号：TWI653512B
公开(公告)日：2019-03-11
申请号：TW106132876
申请日：2017-09-26
申请人：日商紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：中山田憲昭 , NAKAYAMADA, NORIAKI
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/06 , H01J37/147 , H01J37/302

6. 发明专利

TWI603365B 帶電粒子束描繪裝置及描繪資料作成方法有权
简体标题：带电粒子束描绘设备及描绘数据作成方法
公开(公告)号：TWI603365B
公开(公告)日：2017-10-21
申请号：TW105106515
申请日：2016-03-03
申请人：紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：原重博 , HARA, SHIGEHIRO , 安井健一 , YASUI, KENICHI , 山下浩 , YAMASHITA, HIROSHI , 加藤靖雄 , KATO, YASUO , 五味沙織 , GOMI, SAORI , 坂本信二 , SAKAMOTO, SHINJI , 田村貴央 , TAMURA, TAKAO , 土屋英雄 , TSUCHIYA, HIDEO , 中山田憲昭 , NAKAYAMADA, NORIAKI , 松本裕信 , MATSUMOTO, HIRONOBU
IPC分类号： H01J37/302 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3026 , H01J37/3174 , H01J2237/31762 , H01J2237/31776

7. 发明专利

TWI516874B 荷電粒子束描繪裝置及荷電粒子束描繪方法有权
简体标题：荷电粒子束描绘设备及荷电粒子束描绘方法
公开(公告)号：TWI516874B
公开(公告)日：2016-01-11
申请号：TW102115702
申请日：2013-05-02
申请人：紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：中山田憲昭 , NAKAYAMADA, NORIAKI
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/317 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2061 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/2059 , H01J37/3026 , H01J37/3174 , H01J2237/31776

8. 发明专利

TWI464774B 荷電粒子束描繪裝置及荷電粒子束描繪方法有权
简体标题：荷电粒子束描绘设备及荷电粒子束描绘方法
公开(公告)号：TWI464774B
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：TW100133829
申请日：2011-09-20
申请人：紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：中山田憲昭 , NAKAYAMADA, NORIAKI , 平本誠 , HIRAMOTO, MAKOTO , 八島純 , YASHIMA, JUN
IPC分类号： H01J37/304 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/78 , H01J37/3023 , H01J2237/30461 , H01J2237/30483 , H01J2237/31776

9. 发明专利

TW201411291A 荷電粒子束描繪裝置及荷電粒子束描繪方法审中-公开
简体标题：荷电粒子束描绘设备及荷电粒子束描绘方法
公开(公告)号：TW201411291A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102115702
申请日：2013-05-02
申请人：紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：中山田憲昭 , NAKAYAMADA, NORIAKI
IPC分类号： G03F7/20 , H01J37/317 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2061 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/2059 , H01J37/3026 , H01J37/3174 , H01J2237/31776
摘要：荷電粒子束描繪裝置具備：個數運算部，其係使用荷電粒子束之摻雜量和荷電粒子束之電流密度和荷電粒子束之發射間的穩定時間而被求出，且用以補正由於抗蝕劑過熱而產生的圖案尺寸變動之補正區劃區域之平均描繪時間，和用以計算由於來自較該補正區劃區域更前被描繪之其他的複數補正區劃區域之每一個補正區劃區域的導熱所產生的該補正區劃區域之溫度上升量的平均計算時間，和用以計算上述溫度上升量之計算機的並行度，而運算出用以使用以計算針對成為描繪對象之所有的補正區劃區域之上述溫度上升量的計算時間，不會超過用以描繪所有補正區劃區域之描繪時間的較計算上述溫度上升量之時所使用之該補正區劃區域更前被描繪之其他的複數補正區劃區域的個數；代表溫度算出部，其係對每個上述補正區劃區域，根據來自較該補正區劃區域更前被描繪之上述個數之其他的複數補正區劃區域之導熱，算出該補正區劃區域之代表溫度；照射量調變部，其係對每個上述補正區劃區域，輸入被照射至該補正區劃區域之照射量，並使用該補正區劃區域之代表溫度而調變被照射至該補正區劃區域之照射量；及描繪部，其係以被調變之照射量之荷電粒子束在該補正區劃區域內描繪圖案。
简体摘要：荷电粒子束描绘设备具备：个数运算部，其系使用荷电粒子束之掺杂量和荷电粒子束之电流密度和荷电粒子束之发射间的稳定时间而被求出，且用以补正由于抗蚀剂过热而产生的图案尺寸变动之补正区划区域之平均描绘时间，和用以计算由于来自较该补正区划区域更前被描绘之其他的复数补正区划区域之每一个补正区划区域的导热所产生的该补正区划区域之温度上升量的平均计算时间，和用以计算上述温度上升量之计算机的并行度，而运算出用以使用以计算针对成为描绘对象之所有的补正区划区域之上述温度上升量的计算时间，不会超过用以描绘所有补正区划区域之描绘时间的较计算上述温度上升量之时所使用之该补正区划区域更前被描绘之其他的复数补正区划区域的个数；代表温度算出部，其系对每个上述补正区划区域，根据来自较该补正区划区域更前被描绘之上述个数之其他的复数补正区划区域之导热，算出该补正区划区域之代表温度；照射量调制部，其系对每个上述补正区划区域，输入被照射至该补正区划区域之照射量，并使用该补正区划区域之代表温度而调制被照射至该补正区划区域之照射量；及描绘部，其系以被调制之照射量之荷电粒子束在该补正区划区域内描绘图案。

10. 发明专利

TW202004846A 電子束照射方法、電子束照射裝置及可藉由記錄了程式的電腦讀取之非暫態性的記錄媒體审中-公开
简体标题：电子束照射方法、电子束照射设备及可借由记录了进程的电脑读取之非暂态性的记录媒体
公开(公告)号：TW202004846A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108116501
申请日：2019-05-14
申请人：日商紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
发明人：中山田憲昭 , NAKAYAMADA, NORIAKI
IPC分类号： H01L21/027 , H01J37/305 , G03F7/20
摘要：本發明有關電子束照射方法、電子束照射裝置及可藉由記錄了程式的電腦讀取之非暫態性的記錄媒體。本發明的一個態樣之電子束照射方法，使用示意形成於基板之圖樣的複雜度之指標，演算當電子束照射於基板上的情形下之帶電量分布，使用得到的帶電量分布，演算起因於電子束的照射而形成之照射圖樣的位置偏差量，使用位置偏差量，修正照射位置，將電子束照射至修正後的照射位置。
简体摘要：本发明有关电子束照射方法、电子束照射设备及可借由记录了进程的电脑读取之非暂态性的记录媒体。本发明的一个态样之电子束照射方法，使用示意形成于基板之图样的复杂度之指针，演算当电子束照射于基板上的情形下之带电量分布，使用得到的带电量分布，演算起因于电子束的照射而形成之照射图样的位置偏差量，使用位置偏差量，修正照射位置，将电子束照射至修正后的照射位置。

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