基本信息:
- 专利标题： 帶電粒子束裝置及帶電粒子束的位置偏差修正方法
- 专利标题（英）：Charged particle beam apparatus and positional displacement correcting method of charged particle beam
- 专利标题（中）：带电粒子束设备及带电粒子束的位置偏差修正方法
- 申请号：TW106132898 申请日：2017-09-26
- 公开(公告)号：TW201826317A 公开(公告)日：2018-07-16
- 发明人： 中山田憲昭 , NAKAYAMADA, NORIAKI
- 申请人： 日商紐富來科技股份有限公司 , NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
- 专利权人： 日商紐富來科技股份有限公司,NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
- 当前专利权人： 日商紐富來科技股份有限公司,NUFLARE TECHNOLOGY, INC.
- 代理人： 林志剛
- 优先权： 2016-190258 20160928;2017-026945 20170216
- 主分类号： H01J37/302
- IPC分类号： H01J37/302 ; H01J37/317 ; G03F7/20
摘要：
本發明的一個態樣之帶電粒子束裝置，其特徵為，具備：霧化帶電粒子量分布演算部，將偏離了霧化帶電粒子的設計上的分布中心之分布函數、與未偏離帶電粒子束的設計上的照射中心之照射量分布予以摺積積分，藉此演算霧化帶電粒子量分布；及位置偏差量演算部，演算基於霧化帶電粒子量分布之位置偏差量；及修正部，使用位置偏差量，修正照射位置；及鏡柱，具有放出帶電粒子束之放出源、及將前述帶電粒子束偏向之偏向器，將帶電粒子束照射至修正後的照射位置。
摘要（中）：
本发明的一个态样之带电粒子束设备，其特征为，具备：雾化带电粒子量分布演算部，将偏离了雾化带电粒子的设计上的分布中心之分布函数、与未偏离带电粒子束的设计上的照射中心之照射量分布予以卷积积分，借此演算雾化带电粒子量分布；及位置偏差量演算部，演算基于雾化带电粒子量分布之位置偏差量；及修正部，使用位置偏差量，修正照射位置；及镜柱，具有放出带电粒子束之放出源、及将前述带电粒子束偏向之偏向器，将带电粒子束照射至修正后的照射位置。
公开/授权文献:
- TWI680489B 帶電粒子束裝置及帶電粒子束的位置偏差修正方法 公开/授权日：2019-12-21
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01J | 放电管或放电灯 |
| ------H01J37/00 | 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,如为了对其检验或加工的 |
| --------H01J37/02 | .零部件 |
| ----------H01J37/302 | ..用外部信息控制电子管的，如程序控制 |