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热词
    • 1. 发明专利
    • 互連結構的形成方法
    • 互链接构的形成方法
    • TW201545299A
    • 2015-12-01
    • TW103117335
    • 2014-05-16
    • 盛美半導體設備(上海)有限公司ACM RESEARCH (SHANGHAI) INC.
    • 王堅WANG, JIAN賈照偉JIA, ZHAOWEI王暉WANG, DAVID
    • H01L23/52H01L21/28
    • 本發明揭示了一種互連結構的形成方法,包括:提供具有介質層的矽片;在介質層上形成第一凹槽區,第一凹槽區用於形成互連結構;在介質層上形成第二凹槽區,第二凹槽區用於形成虛擬結構;在介質層上沈積阻擋層,阻擋層覆蓋介質層的第一凹槽區、第二凹槽區和介質層的非凹槽區;在阻擋層上沈積金屬層,金屬層填滿第一凹槽區和第二凹槽區並覆蓋在非凹槽區上;將非凹槽區上的金屬層去除;將非凹槽區上的阻擋層去除。本發明透過在矽片的介質層上形成虛擬結構,當對非凹槽區上的金屬層進行過度抛光時,電流將更多的從虛擬結構傳導,避免阻擋層被氧化,從而能夠均勻地、完全地去除非凹槽區上的阻擋層。
    • 本发明揭示了一种互链接构的形成方法,包括:提供具有介质层的硅片;在介质层上形成第一凹槽区,第一凹槽区用于形成互链接构;在介质层上形成第二凹槽区,第二凹槽区用于形成虚拟结构;在介质层上沉积阻挡层,阻挡层覆盖介质层的第一凹槽区、第二凹槽区和介质层的非凹槽区;在阻挡层上沉积金属层,金属层填满第一凹槽区和第二凹槽区并覆盖在非凹槽区上;将非凹槽区上的金属层去除;将非凹槽区上的阻挡层去除。本发明透过在硅片的介质层上形成虚拟结构,当对非凹槽区上的金属层进行过度抛光时,电流将更多的从虚拟结构传导,避免阻挡层被氧化,从而能够均匀地、完全地去除非凹槽区上的阻挡层。
    • 2. 发明专利
    • 晶圓位置檢測裝置及檢測方法
    • 晶圆位置检测设备及检测方法
    • TW201417210A
    • 2014-05-01
    • TW102134805
    • 2013-09-26
    • 盛美半導體設備(上海)有限公司ACM RESEARCH (SHANGHAI) INC.
    • 王堅WANG, JIAN何增華HE, ZENGHUA賈照偉JIA, ZHAOWEI王暉WANG, HUI
    • H01L21/68
    • 本發明揭示了一種晶圓位置檢測裝置及檢測方法,該裝置包括:載置台、驅動裝置、攝影裝置及圖像處理裝置。其中,載置台用於載置晶圓;驅動裝置與載置台相連,用於驅動載置台旋轉;攝影裝置設置在載置台的上方,用於給載置台上的晶圓拍攝圖像,並將拍攝的圖像發送至圖像處理裝置;圖像處理裝置接收攝影裝置拍攝的圖像後,將圖像中晶圓外周邊緣部上一部分區域內的圖像轉換成圖元,並將該圖元與該部分區域內的圖像參考圖元比較,若二者一致,則晶圓被正確的放置於載置台上,若二者不一致,則晶圓在載置台上的位置偏離了正確位置。
    • 本发明揭示了一种晶圆位置检测设备及检测方法,该设备包括:载置台、驱动设备、摄影设备及图像处理设备。其中,载置台用于载置晶圆;驱动设备与载置台相连,用于驱动载置台旋转;摄影设备设置在载置台的上方,用于给载置台上的晶圆拍摄图像,并将拍摄的图像发送至图像处理设备;图像处理设备接收摄影设备拍摄的图像后,将图像中晶圆外周边缘部上一部分区域内的图像转换成图元,并将该图元与该部分区域内的图像参考图元比较,若二者一致,则晶圆被正确的放置于载置台上,若二者不一致,则晶圆在载置台上的位置偏离了正确位置。
    • 4. 发明专利
    • 載鎖腔及使用該載鎖腔處理基板的方法
    • 载锁腔及使用该载锁腔处理基板的方法
    • TW201408569A
    • 2014-03-01
    • TW102127451
    • 2013-07-31
    • 盛美半導體設備(上海)有限公司ACM RESEARCH (SHANGHAI) INC.
    • 王堅WANG, JIAN何增華HE, ZENGHUA方志友FANG, ZHIYOU賈照偉JIA, ZHAOWEI王暉WANG, HUI
    • B65G49/07
    • 本發明公開了一種載鎖腔,包括:腔室,所述腔室具有第一真空閥門和第二真空閥門;夾盤,所述夾盤具有收容於所述腔室的夾座,所述夾座用於放置基板,所述夾座的外邊緣設有至少兩個凹槽;支撐架,所述支撐架收容於所述腔室並位於所述夾座的上方,所述支撐架具有至少兩個連接部,每個連接部向所述支撐架的軸心方向水平凸伸出數個支撐台,每一支撐台具有一承載部,所述承載部位於所述夾座的凹槽內,各連接部上同一層的承載部與所述夾座平行並能托住一片基板;以及至少一升降機構,用於升高或降低所述支撐架的連接部。本發明載鎖腔結構簡單,能夠處理多片基板,因此提高了工藝效率。本發明還公開了使用該載鎖腔處理基板的方法。
    • 本发明公开了一种载锁腔,包括:腔室,所述腔室具有第一真空阀门和第二真空阀门;夹盘,所述夹盘具有收容于所述腔室的夹座,所述夹座用于放置基板,所述夹座的外边缘设有至少两个凹槽;支撑架,所述支撑架收容于所述腔室并位于所述夹座的上方,所述支撑架具有至少两个连接部,每个连接部向所述支撑架的轴心方向水平凸伸出数个支撑台,每一支撑台具有一承载部,所述承载部位于所述夹座的凹槽内,各连接部上同一层的承载部与所述夹座平行并能托住一片基板;以及至少一直升电梯构,用于升高或降低所述支撑架的连接部。本发明载锁腔结构简单,能够处理多片基板,因此提高了工艺效率。本发明还公开了使用该载锁腔处理基板的方法。