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1. 发明专利

TW201123252A 微影機器及基板處理的配置 LITHOGRAPHY MACHINE AND SUBSTRATE HANDLING ARRANGEMENT 审中-公开
简体标题：微影机器及基板处理的配置 LITHOGRAPHY MACHINE AND SUBSTRATE HANDLING ARRANGEMENT
公开(公告)号：TW201123252A
公开(公告)日：2011-07-01
申请号：TW099105121
申请日：2010-02-22
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：迪包爾古伊杜 , 迪將亨卓克傑 , 柏圖森山德
IPC分类号： H01J , H01L
摘要：一種包括複數個帶電粒子微影設備的配置，每一帶電粒子微影設備皆具有一真空反應室(400)。該配置進一步包括：一共用機器人(305)，用以將晶圓運送到該等複數個微影設備；以及一晶圓裝載單元(303)，用於每一帶電粒子微影設備，經配置在每一個別真空反應室(400)的正面。該等複數個微影設備會被配置在一列中，俾讓該等微影設備的正面面向一通道(310)用以讓該共用機器人(305)通過，以便將晶圓運送至每一設備；以及，每一微影設備的背面則面向一接取廊道(306)，且每一真空反應室的後壁部皆具備一接取出入門，用以接取該個別的微影設備。
简体摘要：一种包括复数个带电粒子微影设备的配置，每一带电粒子微影设备皆具有一真空反应室(400)。该配置进一步包括：一共享机器人(305)，用以将晶圆运送到该等复数个微影设备；以及一晶圆装载单元(303)，用于每一带电粒子微影设备，经配置在每一个别真空反应室(400)的正面。该等复数个微影设备会被配置在一列中，俾让该等微影设备的正面面向一信道(310)用以让该共享机器人(305)通过，以便将晶圆运送至每一设备；以及，每一微影设备的背面则面向一接取廊道(306)，且每一真空反应室的后壁部皆具备一接取出入门，用以接取该个别的微影设备。

2. 发明专利

TW201100972A 真空腔中產生真空的帶電粒子微影設備及方法 CHARGED PARTICLE LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD OF GENERATING VACUUM IN A VACUUM CHAMBER 审中-公开
简体标题：真空腔中产生真空的带电粒子微影设备及方法 CHARGED PARTICLE LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD OF GENERATING VACUUM IN A VACUUM CHAMBER
公开(公告)号：TW201100972A
公开(公告)日：2011-01-01
申请号：TW099105109
申请日：2010-02-22
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：柏圖森山德 , 迪包爾古伊杜 , 亭潘提斯法蘭斯 , 瑪金克胡歌馬丁
IPC分类号： G03F , H01J , H01L
CPC分类号： H01J37/16 , H01J37/18 , H01J2237/166 , H01L21/67161 , H01L21/6719
摘要：本發明提供一種包含用於封閉一內部空間之複數個壁板(510)的真空腔(400),其中該等壁板使用複數個用於以預定配置對該等壁板定位之連接部件(504、524、528)而可卸除地連接以形成腔室。該真空腔另外包含一或多個在該等壁板之邊緣處提供之密封部件(522)。該等壁板經配置,使得因該內部空間形成一真空而在該等壁板之邊緣處形成一真空緊密密封。
简体摘要：本发明提供一种包含用于封闭一内部空间之复数个壁板(510)的真空腔(400),其中该等壁板使用复数个用于以预定配置对该等壁板定位之连接部件(504、524、528)而可卸除地连接以形成腔室。该真空腔另外包含一或多个在该等壁板之边缘处提供之密封部件(522)。该等壁板经配置,使得因该内部空间形成一真空而在该等壁板之边缘处形成一真空紧密密封。

3. 发明专利

TWI471891B 帶電粒子微影機器及基板處理系統有权
简体标题：带电粒子微影机器及基板处理系统
公开(公告)号：TWI471891B
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW099105121
申请日：2010-02-22
申请人：瑪波微影IP公司 , MAPPER LITHOGRAPHY IP B. V.
发明人：迪包爾古伊杜 , DE BOER, GUIDO , 迪將亨卓克傑 , DE JONG, HENDRIK JAN , 柏圖森山德 , BALTUSSEN, SANDER
IPC分类号： H01J37/16 , H01J37/18 , H01L21/677

4. 发明专利

TW201044118A 真空腔中產生真空的帶電粒子微影設備及方法 CHARGED PARTICLE LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD OF GENERATING VACUUM IN A VACUUM CHAMBER 审中-公开
简体标题：真空腔中产生真空的带电粒子微影设备及方法 CHARGED PARTICLE LITHOGRAPHY APPARATUS AND METHOD OF GENERATING VACUUM IN A VACUUM CHAMBER
公开(公告)号：TW201044118A
公开(公告)日：2010-12-16
申请号：TW099105114
申请日：2010-02-22
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：柏圖森山德 , 迪包爾古伊杜 , 亭潘提斯法蘭斯 , 傑格瑞克 , 佩斯特傑瑞約翰尼斯馬汀納斯 , 凡尼烏史塔德特喬瑞斯安亨利 , 維德威廉莫瑞茲 , 凡賓艾利克山德亨卓克文森
IPC分类号： G03F , H01J , H01L
CPC分类号： H01J37/16 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/165 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J37/305 , H01J37/317 , H01J37/3174 , H01J2237/16
摘要：本發明係關於一種帶電粒子微影設備(100),其具有一用於產生一或多個帶電粒子束(123)之帶電粒子源(101)、一用於將該等射束投影於一晶圓上之帶電粒子投影器(108、109、110)及一用於運載該晶圓(130)之可移動晶圓平台(132)。該帶電粒子源、帶電粒子投影器及可移動晶圓平台係安置於一形成一真空環境之共用真空腔(140)中。該真空腔另外具有一用於將晶圓裝載至該腔室中之開口及一門。
简体摘要：本发明系关于一种带电粒子微影设备(100),其具有一用于产生一或多个带电粒子束(123)之带电粒子源(101)、一用于将该等射束投影于一晶圆上之带电粒子投影器(108、109、110)及一用于运载该晶圆(130)之可移动晶圆平台(132)。该带电粒子源、带电粒子投影器及可移动晶圆平台系安置于一形成一真空环境之共享真空腔(140)中。该真空腔另外具有一用于将晶圆装载至该腔室中之开口及一门。

6. 发明专利

TW201100973A 用於在真空腔中實現真空的方法和配置 A METHOD AND ARRANGEMENT FOR REALIZING A VACUUM IN A VACUUM CHAMBER 审中-公开
简体标题：用于在真空腔中实现真空的方法和配置 A METHOD AND ARRANGEMENT FOR REALIZING A VACUUM IN A VACUUM CHAMBER
公开(公告)号：TW201100973A
公开(公告)日：2011-01-01
申请号：TW099105116
申请日：2010-02-22
申请人：瑪波微影IP公司
发明人：柏圖森山德
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： F17D1/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/18 , H01J37/3174 , H01J2237/1825 , Y10S417/901 , Y10T137/0396 , Y10T137/86083 , Y10T137/86131
摘要：本發明關於一種用於在真空腔(400)中實現真空之方法,該真空腔連接至一抽吸系統(300),該抽吸系統被多個真空腔共用。此方法包括將每個真空腔分別抽成真空。本發明另外包含一配置,此配置具有連接至抽吸系統的複數個真空腔,在此配置中,抽吸系統用於將每個真空腔分別抽成真空。
简体摘要：本发明关于一种用于在真空腔(400)中实现真空之方法,该真空腔连接至一抽吸系统(300),该抽吸系统被多个真空腔共享。此方法包括将每个真空腔分别抽成真空。本发明另外包含一配置,此配置具有连接至抽吸系统的复数个真空腔,在此配置中,抽吸系统用于将每个真空腔分别抽成真空。

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