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1. 发明专利

TW201738319A 硬化性組合物、硬化性組合物的製造方法、硬化物、硬化性組合物的使用方法以及光裝置审中-公开
简体标题：硬化性组合物、硬化性组合物的制造方法、硬化物、硬化性组合物的使用方法以及光设备
公开(公告)号：TW201738319A
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW105142412
申请日：2016-12-21
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：七島祐 , NANASHIMA, YUTAKA , 中山秀一 , NAKAYAMA, HIDEKAZU , 宮脇学 , MIYAWAKI, MANABU , 樫尾幹広 , KASHIO, MIKIHIRO
IPC分类号： C08L83/08 , C08K5/544 , C08G77/24 , C09J183/08 , C09J11/06 , C09K3/10 , H01L33/56
CPC分类号： C08K5/544 , C08G77/385 , C08L83/08 , C09J11/06 , C09J183/04 , C09K3/10
摘要：本發明係含有：(A)成分：具式：R1-D-SiO3/2所示重複單元的硬化性聚倍半矽氧烷化合物〔式中，R1係表示組成式：CxH(2x-y+1)Fy所示氟烷基；x係表示1~10之整數，y係表示2以上且(2x+1)以下的整數；D係表示將R1與Si予以鍵結的連接基(但，伸烷基除外)或單鍵。〕、及(B)成分：分子內具氮原子的矽烷偶合劑；的硬化性組合物、及其製造方法，以及由上述硬化性組合物硬化形成的硬化物，暨將上述硬化性組合物使用為光元件固定材用接著劑或光元件固定材用密封材的方法、及光裝置。根據本發明可提供接著性與耐熱性均優異、且低折射率硬化物的硬化性組合物及其製造方法，使上述硬化性組合物硬化形成的硬化物，將上述硬化性組合物使用為光元件固定材用接著劑或光元件固定材用密封材的方法、及光裝置。
简体摘要：本发明系含有：(A)成分：具式：R1-D-SiO3/2所示重复单元的硬化性聚倍半硅氧烷化合物〔式中，R1系表示组成式：CxH(2x-y+1)Fy所示氟烷基；x系表示1~10之整数，y系表示2以上且(2x+1)以下的整数；D系表示将R1与Si予以键结的连接基(但，伸烷基除外)或单键。〕、及(B)成分：分子内具氮原子的硅烷偶合剂；的硬化性组合物、及其制造方法，以及由上述硬化性组合物硬化形成的硬化物，暨将上述硬化性组合物使用为光组件固定材用接着剂或光组件固定材用密封材的方法、及光设备。根据本发明可提供接着性与耐热性均优异、且低折射率硬化物的硬化性组合物及其制造方法，使上述硬化性组合物硬化形成的硬化物，将上述硬化性组合物使用为光组件固定材用接着剂或光组件固定材用密封材的方法、及光设备。

2. 发明专利

TW201803945A 硬殼劑以及積層膜审中-公开
简体标题：硬壳剂以及积层膜
公开(公告)号：TW201803945A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW106105697
申请日：2017-02-21
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：七島祐 , NANASHIMA, YUTAKA
IPC分类号： C09D7/12 , C09D183/04 , C08J7/04 , B32B27/00 , B32B27/20
CPC分类号： B32B9/00 , B32B27/00 , B32B27/20 , C08J7/04 , C09D7/40 , C09D183/04
摘要：本發明為包含下列成分(A)、成分(B)、成分(C)及成分(D)的硬殼劑，以及具有使用此硬殼劑所形成之硬殼層的積層膜。成分(A)：具有反應性官能基及水解性基團的有機矽化合物；成分(B)：聚硫醇化合物；成分(C)：具有反應性官能基的無機充填物；成分(D)：具有反應性官能基及聚矽氧烷側鏈的聚合物。本發明係提供可有效形成具高硬度、且耐曲性、耐擦傷性、防污性及滑動性佳之硬殼層的硬殼劑，以及具有使用此硬殼劑所形成之硬殼層的積層膜。
简体摘要：本发明为包含下列成分(A)、成分(B)、成分(C)及成分(D)的硬壳剂，以及具有使用此硬壳剂所形成之硬壳层的积层膜。成分(A)：具有反应性官能基及水解性基团的有机硅化合物；成分(B)：聚硫醇化合物；成分(C)：具有反应性官能基的无机充填物；成分(D)：具有反应性官能基及聚硅氧烷侧链的聚合物。本发明系提供可有效形成具高硬度、且耐曲性、耐擦伤性、防污性及滑动性佳之硬壳层的硬壳剂，以及具有使用此硬壳剂所形成之硬壳层的积层膜。

3. 发明专利

TWI690571B 防污性組成物、及防污性薄片有权
简体标题：防污性组成物、及防污性薄片
公开(公告)号：TWI690571B
公开(公告)日：2020-04-11
申请号：TW105100946
申请日：2016-01-13
申请人：日商琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：廣永麻貴 , HIRONAGA, MAKI , 宮田壮 , MIYATA, SOU , 小野義友 , ONO, YOSHITOMO , 七島祐 , NANASHIMA, YUTAKA , 杉野貴志 , SUGINO, TAKASHI
IPC分类号： C09D5/16 , C09D183/04 , B32B27/00 , C09K3/18

4. 发明专利

TW201641617A 防污性組成物、及防污性薄片审中-公开
简体标题：防污性组成物、及防污性薄片
公开(公告)号：TW201641617A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW105100946
申请日：2016-01-13
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：廣永麻貴 , HIRONAGA, MAKI , 宮田壮 , MIYATA, SOU , 小野義友 , ONO, YOSHITOMO , 七島祐 , NANASHIMA, YUTAKA , 杉野貴志 , SUGINO, TAKASHI
IPC分类号： C09D5/16 , C09D183/04 , B32B27/00 , C09K3/18
CPC分类号： C09D183/04 , B32B27/00 , B32B27/283 , C08G77/24 , C08L83/00 , C09D5/1675 , C09D5/1693 , C09K3/18
摘要：本發明係提供一種防污性組成物，其係包含具有特定構造之4官能的矽烷系化合物(A)、具有特定構造之3官能的矽烷系化合物(B)、以及選自由鈦系觸媒、鋁系觸媒、錫系觸媒、及鋅系觸媒所構成之群組中之1種以上的金屬觸媒(C)，係滿足下述關係式(1)式(1)：1.5≦y≦2x+1〔上述式中，x係表示選擇作為表示矽烷系化合物(B)之式(b)中之R2之烷基的碳數，為4~22之數；y係表示以矽烷系化合物(A)與矽烷系化合物(B)之莫耳比的摻合量比((A)/(B))〕。
简体摘要：本发明系提供一种防污性组成物，其系包含具有特定构造之4官能的硅烷系化合物(A)、具有特定构造之3官能的硅烷系化合物(B)、以及选自由钛系触媒、铝系触媒、锡系触媒、及锌系触媒所构成之群组中之1种以上的金属触媒(C)，系满足下述关系式(1)式(1)：1.5≦y≦2x+1〔上述式中，x系表示选择作为表示硅烷系化合物(B)之式(b)中之R2之烷基的碳数，为4~22之数；y系表示以硅烷系化合物(A)与硅烷系化合物(B)之莫耳比的掺合量比((A)/(B))〕。

5. 发明专利

TW201842111A 阻氣性接著薄膜和電子構件及光學構件审中-公开
简体标题：阻气性接着薄膜和电子构件及光学构件
公开(公告)号：TW201842111A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107106792
申请日：2018-03-01
申请人：日商琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：七島祐 , NANASHIMA, YUTAKA , 樫尾幹広 , KASHIO, MIKIHIRO , 佐藤慶一 , SATO, KEIICHI
IPC分类号： C09J7/29 , C09J7/40 , C09J123/00
摘要：本發明係具有由保護薄膜/阻氣層組成的阻氣性單元及由接著性樹脂層/剝離薄膜組成的接著性單元，上述接著性樹脂層，在上述阻氣層上直接或經由其他的層層積而成，上述保護薄膜與上述剝離薄膜分別構成最外層的阻氣性接著薄膜，上述保護薄膜的阻氣層側的表面的表面電阻率為5.0×1011Ω/□以下，上述剝離薄膜的至少任何一方面的表面的表面電阻率為5.0×1011Ω/□以下的阻氣性接著薄膜；以及包括該阻氣性接著薄膜的電子構件及光學構件。根據本發明，可提供防止帶電性優良的阻氣性接著薄膜、以及包括該阻氣性接著薄膜的電子構件及光學構件。
简体摘要：本发明系具有由保护薄膜/阻气层组成的阻气性单元及由接着性树脂层/剥离薄膜组成的接着性单元，上述接着性树脂层，在上述阻气层上直接或经由其他的层层积而成，上述保护薄膜与上述剥离薄膜分别构成最外层的阻气性接着薄膜，上述保护薄膜的阻气层侧的表面的表面电阻率为5.0×1011Ω/□以下，上述剥离薄膜的至少任何一方面的表面的表面电阻率为5.0×1011Ω/□以下的阻气性接着薄膜；以及包括该阻气性接着薄膜的电子构件及光学构件。根据本发明，可提供防止带电性优良的阻气性接着薄膜、以及包括该阻气性接着薄膜的电子构件及光学构件。

6. 发明专利

TW201803944A 積層膜审中-公开
简体标题：积层膜
公开(公告)号：TW201803944A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW106105696
申请日：2017-02-21
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：七島祐 , NANASHIMA, YUTAKA , 泉達矢 , IZUMI, TATSUYA , 樫尾幹広 , KASHIO, MIKIHIRO , 宮田壮 , MIYATA, SOU
IPC分类号： C09D7/12 , C09D183/04 , C08J7/04 , B32B27/00 , B32B27/20
CPC分类号： B32B27/00 , B32B27/20 , C08J7/04 , C09D5/00 , C09D7/40 , C09D183/04
摘要：本發明為包含基材層與硬殼層的積層膜，此硬殼層使用含有下列成分(A)、成分(B)、及成分(C)的硬殼劑形成，使用原子力顯微鏡測定硬殼層表面的楊氏係數，楊氏係數1~5GPa的區域為連續結構，且楊氏係數6~10GPa的區域為獨立分散。成分(A)：具有反應性官能基及水解性基團的有機矽化合物；成分(B)：聚硫醇化合物；成分(C)：具有反應性官能基的無機充填物。本發明係提供具有高硬度、耐擦傷性及耐曲性良好之硬殼層的積層膜。
简体摘要：本发明为包含基材层与硬壳层的积层膜，此硬壳层使用含有下列成分(A)、成分(B)、及成分(C)的硬壳剂形成，使用原子力显微镜测定硬壳层表面的杨氏系数，杨氏系数1~5GPa的区域为连续结构，且杨氏系数6~10GPa的区域为独立分散。成分(A)：具有反应性官能基及水解性基团的有机硅化合物；成分(B)：聚硫醇化合物；成分(C)：具有反应性官能基的无机充填物。本发明系提供具有高硬度、耐擦伤性及耐曲性良好之硬壳层的积层膜。

7. 发明专利

TW201800519A 硬殼劑以及積層膜审中-公开
简体标题：硬壳剂以及积层膜
公开(公告)号：TW201800519A
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW106105698
申请日：2017-02-21
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION
发明人：七島祐 , NANASHIMA, YUTAKA , 樫尾幹広 , KASHIO, MIKIHIRO , 泉達矢 , IZUMI, TATSUYA
IPC分类号： C09D181/02 , C08G75/045 , C09D7/12 , C09D5/00 , B32B27/28 , G02B1/14 , G06F3/041
CPC分类号： B32B9/00 , B32B27/20 , C08J7/04 , C09D7/40 , C09D183/04
摘要：本發明為含有下列成分(A)、成分(B)、及成分(C)的硬殼劑，以及具有使用此硬殼劑所形成之硬殼層的積層膜。成分(A)：具有反應性官能基及水解性基團的有機矽化合物；成分(B)：聚硫醇化合物；成分(C)：具有反應性官能基的無機充填物。本發明係提供可有效形成具高硬度、且耐擦傷性及耐曲性佳之硬殼層的硬殼劑，以及具有使用此硬殼劑所形成之硬殼層的積層膜。
简体摘要：本发明为含有下列成分(A)、成分(B)、及成分(C)的硬壳剂，以及具有使用此硬壳剂所形成之硬壳层的积层膜。成分(A)：具有反应性官能基及水解性基团的有机硅化合物；成分(B)：聚硫醇化合物；成分(C)：具有反应性官能基的无机充填物。本发明系提供可有效形成具高硬度、且耐擦伤性及耐曲性佳之硬壳层的硬壳剂，以及具有使用此硬壳剂所形成之硬壳层的积层膜。

8. 发明专利

TW201726856A 黏著片审中-公开
简体标题：黏着片
公开(公告)号：TW201726856A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105132997
申请日：2016-10-13
申请人：琳得科股份有限公司 , LINTEC CORPORATION , 住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：高麗洋佑 , KOMA, YOSUKE , 七島祐 , NANASHIMA, YUTAKA , 小野義友 , ONO, YOSHITOMO , 西岡聖司 , NISHIOKA, KIYOSHI , 八軒静香 , HACHIKEN, SHIZUKA
IPC分类号： C09J7/02 , C09J169/00 , C09J133/00 , C09J11/06 , C09J5/00 , H01L21/683
CPC分类号： C09J7/00 , C09J7/20 , C09J11/06 , C09J133/00 , C09J169/00 , C09J201/00
摘要：一種黏著片，係具備由黏著劑組合物所形成的黏著劑層之黏著片，其特徵在於：黏著劑組合物係含有脂肪族聚碳酸酯、及前述脂肪族聚碳酸酯以外的黏著性樹脂。此種黏著片係藉由新穎的作用機構，而能夠在需要的時序使黏著力降低且被黏著物的剝離成為容易。上述黏著劑組合物，係以含有藉由施加能量而產生酸或鹼之酸．鹼產生劑為佳。
简体摘要：一种黏着片，系具备由黏着剂组合物所形成的黏着剂层之黏着片，其特征在于：黏着剂组合物系含有脂肪族聚碳酸酯、及前述脂肪族聚碳酸酯以外的黏着性树脂。此种黏着片系借由新颖的作用机构，而能够在需要的时序使黏着力降低且被黏着物的剥离成为容易。上述黏着剂组合物，系以含有借由施加能量而产生酸或碱之酸．碱产生剂为佳。

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