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1. 发明专利

TWI490450B 表面微細構造測量方法，表面微細構造測量資料解析方法及表面微細構造測量系統有权
简体标题：表面微细构造测量方法，表面微细构造测量数据解析方法及表面微细构造测量系统
公开(公告)号：TWI490450B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW099111567
申请日：2010-04-14
申请人：理學股份有限公司 , RIGAKU C0RPORATION
发明人：表和彥 , OMOTE, KAZUHIKO , 伊藤義泰 , ITO, YOSHIYASU
IPC分类号： G01B15/04 , G01N23/201
CPC分类号： G01B15/04

2. 发明专利

TWI449904B Ｘ射線散射測定裝置及Ｘ射線散射測定方法有权
简体标题：Ｘ射线散射测定设备及Ｘ射线散射测定方法
公开(公告)号：TWI449904B
公开(公告)日：2014-08-21
申请号：TW099113049
申请日：2010-04-26
申请人：理學股份有限公司 , RIGAKU C0RPORATION
发明人：表和彥 , OMOTE, KAZUHIKO
IPC分类号： G01N23/20 , G01N23/201
CPC分类号： G21K1/06 , G01N23/201

3. 发明专利

TW201423819A Ｘ射線產生裝置审中-公开
简体标题：Ｘ射线产生设备
公开(公告)号：TW201423819A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW102134248
申请日：2013-09-24
申请人：理學股份有限公司 , RIGAKU C0RPORATION
发明人：霍瓦特馬丁 , HORVARTH, MARTIN , 馬爾斯克吉利 , MARSIK, JIRI , 平納拉迪斯拉芙 , PINA, LADISLAV , 杰利內克瓦克拉芙 , JELINEK, VACLAV , 大坂尚久 , OSAKA, NAOHISA , 表和彥 , OMOTE, KAZUHIKO , 神部亮 , KAMBE, MAKOTO , 姜立財 , JIANG, LICAI , 金鳳來 , KIM, BONGLEA
IPC分类号： H01J35/14
CPC分类号： H01J35/14 , H01J2235/081 , H01J2235/083
摘要：本發明提供一種X射線產生裝置，其能夠以較小且輕量化之裝置構成進行電子束之焦點位置之微細之調整。本發明之X射線產生裝置100係使電子束e1撞擊於靶150而產生X射線x1者，其包括：永久磁鐵透鏡120，其使電子束e1聚焦；修正線圈130，其相對於永久磁鐵透鏡120而設置於電子束e1側，並對藉由永久磁鐵透鏡120而所產生之電子束e1之前進方向之焦點位置進行修正；及靶150，其被經聚焦之電子束所撞擊。如此，由於使用永久磁鐵作為電子透鏡，故而與通常之裝置相比，可實現極小且輕量化之裝置構成。又，可藉由修正線圈130對磁場強度進行微調整，從而進行電子束e1之前進方向之焦點位置之細微之調整。
简体摘要：本发明提供一种X射线产生设备，其能够以较小且轻量化之设备构成进行电子束之焦点位置之微细之调整。本发明之X射线产生设备100系使电子束e1撞击于靶150而产生X射线x1者，其包括：永久磁铁透镜120，其使电子束e1聚焦；修正线圈130，其相对于永久磁铁透镜120而设置于电子束e1侧，并对借由永久磁铁透镜120而所产生之电子束e1之前进方向之焦点位置进行修正；及靶150，其被经聚焦之电子束所撞击。如此，由于使用永久磁铁作为电子透镜，故而与通常之设备相比，可实现极小且轻量化之设备构成。又，可借由修正线圈130对磁场强度进行微调整，从而进行电子束e1之前进方向之焦点位置之细微之调整。

4. 发明专利

TWI576885B Ｘ射線產生裝置有权
简体标题：Ｘ射线产生设备
公开(公告)号：TWI576885B
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW102134248
申请日：2013-09-24
申请人：理學股份有限公司 , RIGAKU C0RPORATION
发明人：霍瓦特馬丁 , HORVARTH, MARTIN , 馬爾斯克吉利 , MARSIK, JIRI , 平納拉迪斯拉芙 , PINA, LADISLAV , 杰利內克瓦克拉芙 , JELINEK, VACLAV , 大坂尚久 , OSAKA, NAOHISA , 表和彥 , OMOTE, KAZUHIKO , 神戶亮 , KAMBE, MAKOTO , 姜立財 , JIANG, LICAI , 金鳳來 , KIM, BONGLEA
IPC分类号： H01J35/14
CPC分类号： H01J35/14 , H01J2235/081 , H01J2235/083

5. 发明专利

TW201100789A Ｘ射線散射測定裝置及Ｘ射線散射測定方法 X-RAY SCATTERING MEASUREMENT DEVICE AND X-RAY SCATTERING MEASUREMENT METHOD 审中-公开
简体标题：Ｘ射线散射测定设备及Ｘ射线散射测定方法 X-RAY SCATTERING MEASUREMENT DEVICE AND X-RAY SCATTERING MEASUREMENT METHOD
公开(公告)号：TW201100789A
公开(公告)日：2011-01-01
申请号：TW099113049
申请日：2010-04-26
申请人：理學股份有限公司
发明人：表和彥
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G21K1/06 , G01N23/201
摘要：本發明提供一種可以高解析度測定經反射型小角散射或繞射之X射線强度,可簡便且正確地計測試料表面之微細構造之X射線散射測定裝置及X射線散射測定方法。本發明為一種適用於試料表面上微細構造之計測之X射線散射測定裝置100,其具備有:X射線源140,產生X射線;第1反射鏡及第2反射鏡,連續反射所產生之X射線;試料台110,支持被照射經反射之X射線之試料S;及2次元檢測器170,檢測經試料表面散射之X射線;而第1反射鏡將所產生之X射線在與試料表面平行之面內聚光在2次元檢測器170上,第2反射鏡將經第1反射鏡反射之X射線在與試料表面上垂直之面內聚光在試料表面。
简体摘要：本发明提供一种可以高分辨率测定经反射型小角散射或绕射之X射线强度,可简便且正确地计测试料表面之微细构造之X射线散射测定设备及X射线散射测定方法。本发明为一种适用于试料表面上微细构造之计测之X射线散射测定设备100,其具备有:X射线源140,产生X射线;第1反射镜及第2反射镜,连续反射所产生之X射线;试料台110,支持被照射经反射之X射线之试料S;及2次元检测器170,检测经试料表面散射之X射线;而第1反射镜将所产生之X射线在与试料表面平行之面内聚光在2次元检测器170上,第2反射镜将经第1反射镜反射之X射线在与试料表面上垂直之面内聚光在试料表面。

6. 发明专利

TWI638996B Ｘ射線薄膜檢查裝置有权
简体标题：Ｘ射线薄膜检查设备
公开(公告)号：TWI638996B
公开(公告)日：2018-10-21
申请号：TW104120715
申请日：2015-06-26
申请人：理學股份有限公司 , RIGAKU CORPORATION
发明人：尾形潔 , OGATA, KIYOSHI , 表和彥 , OMOTE, KAZUHIKO , 伊藤義泰 , ITO, YOSHIYASU , 本野寬 , MOTONO, HIROSHI , 吉田宗生 , YOSHIDA, MUNEO , 高橋秀明 , TAKAHASHI, HIDEAKI
IPC分类号： G01N23/223

8. 发明专利

TW201809646A 複合檢查系統审中-公开
简体标题：复合检查系统
公开(公告)号：TW201809646A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106123661
申请日：2017-07-14
申请人：日商理學股份有限公司 , RIGAKU CORPORATION
发明人：尾形潔 , OGATA, KIYOSHI , 表和彥 , OMOTE, KAZUHIKO , 伊藤義泰 , ITO, YOSHIYASU
IPC分类号： G01N23/223 , G01R31/26
CPC分类号： G01N23/201 , G01N23/203
摘要：本發明之複合檢查系統包含有：第一檢查裝置1，其根據對試料11照射X射線所得到之X射線測量資料來檢查試料11；及第二檢查裝置2，其藉由不使用X射線之測量方法來檢查試料11。將藉由第一檢查裝置1所得到之X射線測量資料或該X射線測量資料之解析結果朝向第二檢查裝置2輸出。而且，在第二檢查裝置2中，利用自第一檢查裝置1所輸入之X射線測量資料或該X射線測量資料之解析結果，來解析試料11之構造。
简体摘要：本发明之复合检查系统包含有：第一检查设备1，其根据对试料11照射X射线所得到之X射线测量数据来检查试料11；及第二检查设备2，其借由不使用X射线之测量方法来检查试料11。将借由第一检查设备1所得到之X射线测量数据或该X射线测量数据之解析结果朝向第二检查设备2输出。而且，在第二检查设备2中，利用自第一检查设备1所输入之X射线测量数据或该X射线测量数据之解析结果，来解析试料11之构造。

9. 发明专利

TW201614227A Ｘ射線薄膜檢查裝置审中-公开
简体标题：Ｘ射线薄膜检查设备
公开(公告)号：TW201614227A
公开(公告)日：2016-04-16
申请号：TW104120715
申请日：2015-06-26
申请人：理學股份有限公司 , RIGAKU CORPORATION
发明人：尾形潔 , OGATA, KIYOSHI , 表和彥 , OMOTE, KAZUHIKO , 伊藤義泰 , ITO, YOSHIYASU , 本野寬 , MOTONO, HIROSHI , 吉田宗生 , YOSHIDA, MUNEO , 高橋秀明 , TAKAHASHI, HIDEAKI
IPC分类号： G01N23/223
CPC分类号： G01N23/223 , G01N2223/304 , G01N2223/306 , G01N2223/31 , G01N2223/61 , H01L22/12
摘要：本發明之X射線薄膜檢查裝置，其具備有：X射線照射單元40，其係搭載於第1旋轉臂32；X射線檢測器50，其係搭載於第2旋轉臂33；螢光X射線檢測器60，其藉由X射線之照射來檢測自檢查對象所產生之螢光X射線；溫度測量單元110，其測量相當於X射線薄膜檢查裝置之溫度的溫度；及溫度修正系統(中央委處理裝置100)，其根據藉由溫度測量單元110所測量之溫度來修正檢查位置。
简体摘要：本发明之X射线薄膜检查设备，其具备有：X射线照射单元40，其系搭载于第1旋转臂32；X射线检测器50，其系搭载于第2旋转臂33；萤光X射线检测器60，其借由X射线之照射来检测自检查对象所产生之萤光X射线；温度测量单元110，其测量相当于X射线薄膜检查设备之温度的温度；及温度修正系统(中央委处理设备100)，其根据借由温度测量单元110所测量之温度来修正检查位置。

10. 发明专利

TW201807407A Ｘ射線檢查裝置、Ｘ射線薄膜檢查方法及搖擺曲線測定方法审中-公开
简体标题：Ｘ射线检查设备、Ｘ射线薄膜检查方法及摇摆曲线测定方法
公开(公告)号：TW201807407A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106123663
申请日：2017-07-14
申请人：理學股份有限公司 , RIGAKU CORPORATION
发明人：尾形潔 , OGATA, KIYOSHI , 表和彥 , OMOTE, KAZUHIKO , 吉原正 , YOSHIHARA, SEI , 伊藤義泰 , ITO, YOSHIYASU , 本野寬 , MOTONO, HIROSHI , 高橋秀明 , TAKAHASHI, HIDEAKI , 杵渕隆男 , KINEFUCHI, TAKAO , 樋口明房 , HIGUCHI, AKIFUSA , 梅垣志朗 , UMEGAKI, SHIRO , 淺野繁松 , ASANO, SHIGEMATSU , 山口僚太郎 , YAMAGUCHI, RYOTARO , 洞田克隆 , HORADA, KATSUTAKA , 神戶亮 , KAMBE, MAKOTO , 姜立財 , JIANG, LICAI , 韋爾曼鮑里斯 , VERMAN, BORIS
IPC分类号： G01N23/083 , G01N23/04 , G01N23/201
CPC分类号： G01N23/207 , G21K1/06 , G21K5/02
摘要：本發明之X射線檢查裝置中，X射線照射單元40，包含將特性X射線朝縱向聚光之第1X射線光學元件42、及將特性X射線朝橫向聚光之第2X射線光學元件43。第1X射線光學元件42，係由具有高結晶性之結晶材料構成。此外，第2X射線光學元件43，係由多層膜鏡構成。
简体摘要：本发明之X射线检查设备中，X射线照射单元40，包含将特性X射线朝纵向聚光之第1X射线光学组件42、及将特性X射线朝横向聚光之第2X射线光学组件43。第1X射线光学组件42，系由具有高结晶性之结晶材料构成。此外，第2X射线光学组件43，系由多层膜镜构成。

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