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1. 发明专利

TW201638985A 複合靶材以及具有該複合靶材的X光管审中-公开
简体标题：复合靶材以及具有该复合靶材的X光管
公开(公告)号：TW201638985A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105111984
申请日：2016-04-18
申请人：和鑫生技開發股份有限公司 , NANORAY BIOTECH CO., LTD.
发明人：鄭積杰 , CHENG, CHI-CHIEH
IPC分类号： H01J35/08
CPC分类号： H01J35/08 , G21K1/10 , H01J35/14 , H01J2235/081 , H01J2235/083 , H01J2235/086 , H01J2235/087
摘要：一種複合靶材，與電子產生相互作用而產生X光，且至少能透過控制管電壓而改變電子的能量。複合靶材包括：靶體以及中間介層。中間介層連接於靶體。中間介層使X光的能譜的最高峰值往高能方向移動。中間介層可為單一金屬、也可為金屬混合物。除了可以藉由中間介層來濾除X光的低能量光子，也能藉由增加中間介層的厚度來增加低能量X光光子分佈。並且，隨著提高管電壓，所產生的X光的高能量光子的數量也大幅增加。此外，還提供一種具有所述複合靶材的X光管。
简体摘要：一种复合靶材，与电子产生相互作用而产生X光，且至少能透过控制管电压而改变电子的能量。复合靶材包括：靶体以及中间介层。中间介层连接于靶体。中间介层使X光的能谱的最高峰值往高能方向移动。中间介层可为单一金属、也可为金属混合物。除了可以借由中间介层来滤除X光的低能量光子，也能借由增加中间介层的厚度来增加低能量X光光子分布。并且，随着提高管电压，所产生的X光的高能量光子的数量也大幅增加。此外，还提供一种具有所述复合靶材的X光管。

2. 发明专利

TW201543964A Ｘ射線產生裝置、Ｘ射線裝置以及結構物之製造方法审中-公开
简体标题：Ｘ射线产生设备、Ｘ射线设备以及结构物之制造方法
公开(公告)号：TW201543964A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：TW104109517
申请日：2015-03-25
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：遠藤剛 , ENDO, TAKESHI , 三浦聰 , MIURA, SATOSHI
IPC分类号： H05G1/08 , H05G1/10 , G01B15/04
CPC分类号： H05G1/32 , G01N23/04 , G05B19/4097 , G05B2219/35134 , G05B2219/49007 , H01J35/14 , H05G1/10
摘要： X射線產生裝置係藉由自陰極發射之電子束到達靶材而發射X射線者，且具有於陰極及靶材之間相互串聯連接且分別使電子束加速之第1及第2高電壓電源，且第2高電壓電源係以使第2高電壓電源產生之第2高電壓之變動成分之相位相對於第1高電壓電源產生之第1高電壓之變動成分之相位成為特定關係之方式輸出第2高電壓。
简体摘要： X射线产生设备系借由自阴极发射之电子束到达靶材而发射X射线者，且具有于阴极及靶材之间相互串联连接且分别使电子束加速之第1及第2高电压电源，且第2高电压电源系以使第2高电压电源产生之第2高电压之变动成分之相位相对于第1高电压电源产生之第1高电压之变动成分之相位成为特定关系之方式输出第2高电压。

3. 发明专利

TW201526024A Ｘ光產生裝置审中-公开
简体标题：Ｘ光产生设备
公开(公告)号：TW201526024A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW103132856
申请日：2014-09-23
申请人：濱松赫德尼古斯股份有限公司 , HAMAMATSU PHOTONICS K. K.
发明人：石井淳 , ISHII, ATSUSHI , 鈴木直伸 , SUZUKI, NAONOBU
IPC分类号： G21K5/08 , G01N23/04 , G21K5/02 , H05G1/52
CPC分类号： H01J35/08 , A61B6/547 , H01J1/88 , H01J1/92 , H01J1/94 , H01J3/26 , H01J19/32 , H01J19/46 , H01J19/48 , H01J21/36 , H01J35/14 , H01J35/32 , H01J37/1472 , H01J2235/08 , H01J2235/081 , H01J2235/086 , H01J2235/087 , H01J2235/088 , H01J2235/186 , H01J2237/032 , H01J2237/036 , H01J2893/0003 , H01J2893/0051 , H01J2893/0052 , H05G1/52
摘要：本發明提供一種可有效率地使用之X光產生裝置。X光產生裝置1包括電子槍部3、靶部T、筒狀部5、反射電子檢測器31、及線圈部9，靶部T配置有複數個靶23，且配置有複數個標記部27，該標記部27相對於靶23具有特定之位置關係，且自靶部T之主面之對向方向觀察，該標記部27之表面積大於靶23之表面積。
简体摘要：本发明提供一种可有效率地使用之X光产生设备。X光产生设备1包括电子枪部3、靶部T、筒状部5、反射电子检测器31、及线圈部9，靶部T配置有复数个靶23，且配置有复数个标记部27，该标记部27相对于靶23具有特定之位置关系，且自靶部T之主面之对向方向观察，该标记部27之表面积大于靶23之表面积。

4. 发明专利

TW200746214A X光管审中-公开
公开(公告)号：TW200746214A
公开(公告)日：2007-12-16
申请号：TW096115376
申请日：2007-04-30
申请人：濱松赫德尼古斯股份有限公司 HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
发明人：岡田知幸 OKADA, TOMOYUKI , 藤田澄 FUJITA, TORU , 山本徹 YAMAMOTO, TOORU , 仲村龍彌 NAKAMURA, TATSUYA
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J35/065 , H01J35/14 , H01J35/16 , H01J35/18 , H01J2235/062 , H01J2235/068 , H01J2235/087 , H01J2235/164 , H01J2235/18 , H01J2235/186
摘要： X光管1,係具備有:真空外圍器5;和電子源8a、8b、8c,其係包含有具備碳系電子放出材料6a、6b、6c之金屬線7a、7b、7c,並經由將兩端以真空外圍器5來作保持,而被配置於真空外圍器5內;和標靶材15,其係在真空外圍器5內對向於電子源8a、8b、8c而被設置,並因應於從電子源8a、8b、8c而來之電子的射入而產生X光;和貫通孔13以及矽薄膜14,其係被安裝於真空外圍器5上,而用以將從標靶材15所產生之X光取出至外部;和拉出電極11,其係在真空外圍器5之內面3a上,被設置於電子源8a、8b、8c與標靶材15之間。
简体摘要： X光管1,系具备有:真空外围器5;和电子源8a、8b、8c,其系包含有具备碳系电子放出材料6a、6b、6c之金属线7a、7b、7c,并经由将两端以真空外围器5来作保持,而被配置于真空外围器5内;和标靶材15,其系在真空外围器5内对向于电子源8a、8b、8c而被设置,并因应于从电子源8a、8b、8c而来之电子的射入而产生X光;和贯通孔13以及硅薄膜14,其系被安装于真空外围器5上,而用以将从标靶材15所产生之X光取出至外部;和拉出电极11,其系在真空外围器5之内面3a上,被设置于电子源8a、8b、8c与标靶材15之间。

5. 发明专利

TW200538721A 電腦斷層掃描系統及利用場發射X射線源之方法 COMPUTED TOMOGRAPHY SCANNING SYSTEM AND METHOD USING A FIELD EMISSION X-RAY SOURCE 审中-公开
简体标题：电脑断层扫描系统及利用场发射X射线源之方法 COMPUTED TOMOGRAPHY SCANNING SYSTEM AND METHOD USING A FIELD EMISSION X-RAY SOURCE
公开(公告)号：TW200538721A
公开(公告)日：2005-12-01
申请号：TW094104235
申请日：2005-02-14
申请人：美國北卡羅利那大學 THE UNIVERSITY OF NORTH CAROLINA AT CHAPEL HILL
发明人：歐圖Z 周 ZHOU, OTTO Z. , 程遠 CHENG, YUAN , 章健 ZHANG, JIAN , 月李 LEE, YUEH , 江平陸 LU, JIANPING , 偉立林 LIN, WEILI
IPC分类号： G01N
CPC分类号： A61B6/032 , A61B6/4028 , A61B6/4488 , A61B6/508 , A61B6/541 , B82Y10/00 , G01N23/046 , G01N2223/419 , G01N2223/612 , H01J35/065 , H01J35/14
摘要：本發明揭示一種電腦斷層掃描系統及利用一場發射X射線源之方法。一示範性微電腦斷層掃描器包含：一微焦點場發射X射線源；一X射線偵測器；一物件台，其係放置在該X射線源與該偵測器之間；一電子控制系統與一電腦，其控制該X射線輻射及偵測器資料收集；以及電腦軟體，其利用從不同投影角所收集的一系列投影影像而重建該物件之三維影像。示範性方法利用該微電腦斷層掃描器而獲得振盪運動中的一物件之一電腦斷層影像。
简体摘要：本发明揭示一种电脑断层扫描系统及利用一场发射X射线源之方法。一示范性微电脑断层扫描仪包含：一微焦点场发射X射线源；一X射线侦测器；一对象台，其系放置在该X射线源与该侦测器之间；一电子控制系统与一电脑，其控制该X射线辐射及侦测器数据收集；以及电脑软件，其利用从不同投影角所收集的一系列投影影像而重建该对象之三维影像。示范性方法利用该微电脑断层扫描仪而获得振荡运动中的一对象之一电脑断层影像。

6. 发明专利

TW200510691A 輻射源及具有改善均勻的輻射强度之輻射掃描系統 RADIATION SOURCES AND RADIATION SCANNING SYSTEMS WITH IMPROVED UNIFORMITY OF RADIATION INTENSITY 失效
简体标题：辐射源及具有改善均匀的辐射强度之辐射扫描系统 RADIATION SOURCES AND RADIATION SCANNING SYSTEMS WITH IMPROVED UNIFORMITY OF RADIATION INTENSITY
公开(公告)号：TW200510691A
公开(公告)日：2005-03-16
申请号：TW093110860
申请日：2004-04-19
申请人：維芮恩醫療系統科技股份有限公司 VARIAN MEDICAL SYSTEMS TECHNOLOGIES, INC.
发明人：保羅鮑喬克翰 BJORKHOLM, PAUL , 詹姆士克萊頓 CLAYTON, JAMES E.
IPC分类号： G01B
CPC分类号： H01J35/24 , G21K1/093 , H01J35/14
摘要：一種輻射源被揭是包含一種經過一條路徑之帶電粒子的源。目標物質放置在沿著該路徑來產生該束撞擊的輻射。在撞擊該目標之前，一個磁鐵被提供來折射束。該磁鐵可以產生時變磁場恆定磁場。恆定磁場可以空間性的橫跨該束來變化。該磁鐵可以是一個電磁鐵或著一個永久磁鐵。在一個例子中，該束的折射導致該束沿著數個軸在該目標上的撞擊。在另一個例子中，該束的部分被不同的折射。該源因此可以照射一個物件，該物件被更均勻的輻射掃描。該帶電粒子可以是電子或質子，並且該輻射可以是X-射線或著伽馬射線輻射，或著中子。附帶如此的輻射源的掃描系統，產生輻射的方法和檢驗物件的方法同樣的被揭示。
简体摘要：一种辐射源被揭是包含一种经过一条路径之带电粒子的源。目标物质放置在沿着该路径来产生该束撞击的辐射。在撞击该目标之前，一个磁铁被提供来折射束。该磁铁可以产生时变磁场恒定磁场。恒定磁场可以空间性的横跨该束来变化。该磁铁可以是一个电磁铁或着一个永久磁铁。在一个例子中，该束的折射导致该束沿着数个轴在该目标上的撞击。在另一个例子中，该束的部分被不同的折射。该源因此可以照射一个对象，该对象被更均匀的辐射扫描。该带电粒子可以是电子或质子，并且该辐射可以是X-射线或着伽马射线辐射，或着中子。附带如此的辐射源的扫描系统，产生辐射的方法和检验对象的方法同样的被揭示。

7. 发明专利

TW201740421A Ｘ射線產生管、Ｘ射線產生設備、和輻射成像系統审中-公开
简体标题：Ｘ射线产生管、Ｘ射线产生设备、和辐射成像系统
公开(公告)号：TW201740421A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW106100735
申请日：2017-01-10
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：辻野和哉 , TSUJINO, KAZUYA
IPC分类号： H01J35/06 , H01J35/08
CPC分类号： H01J35/14 , H01J2235/168 , H01J2235/186
摘要：本揭示內容提供可靠之X射線產生管，其形成一具有穩定尺寸及形狀的焦點。該X射線產生管包括電子槍，其包括電子放射部分、複數個柵極、及支撐該複數個柵極之絕緣支撐構件。該電子槍包括隱藏該絕緣支撐構件的導電區段，以防止該絕緣支撐構件被由電子的電子穿過路徑直接地觀看，該等電子由該電子放射部分所放射及通過該等柵極。
简体摘要：本揭示内容提供可靠之X射线产生管，其形成一具有稳定尺寸及形状的焦点。该X射线产生管包括电子枪，其包括电子放射部分、复数个栅极、及支撑该复数个栅极之绝缘支撑构件。该电子枪包括隐藏该绝缘支撑构件的导电区段，以防止该绝缘支撑构件被由电子的电子穿过路径直接地观看，该等电子由该电子放射部分所放射及通过该等栅极。

8. 发明专利

TW201138556A 平坦輸出響應透射型Ｘ射線管 FLAT OUTPUT RESPONSE TRANSMISSION X-RAY TUBE 审中-公开
简体标题：平坦输出响应透射型Ｘ射线管 FLAT OUTPUT RESPONSE TRANSMISSION X-RAY TUBE
公开(公告)号：TW201138556A
公开(公告)日：2011-11-01
申请号：TW099123805
申请日：2010-07-20
申请人：和鑫生技開發股份有限公司
发明人：濱上寬 , 帕森斯布魯斯
IPC分类号： H05G
CPC分类号： H01J35/14 , H01J35/08 , H01J2235/083 , H01J2235/087
摘要：一種透射型X射線管包含:排空的殼體;陽極,設置在該殼體內,該陽極包括在末端窗上之至少一薄箔的靶;陰極,設置在殼體內,該陰極發射電子,該等電子沿著該殼體內的電子束路徑行進,以撞擊在點內的該陽極,並產生X射線束,該X射線束穿過該末端窗而離開該殼體;和電源,連接至該陰極,該電源提供選定的電子能量,以產生不同光子能量之X射線光譜;其中,在至少一界定能量帶內之韌致輻射光子的總數目不會隨著施加在該陽極和陰極之間數千伏特之電壓的增加而大幅地增加。
简体摘要：一种透射型X射线管包含:排空的壳体;阳极,设置在该壳体内,该阳极包括在末端窗上之至少一薄箔的靶;阴极,设置在壳体内,该阴极发射电子,该等电子沿着该壳体内的电子束路径行进,以撞击在点内的该阳极,并产生X射线束,该X射线束穿过该末端窗而离开该壳体;和电源,连接至该阴极,该电源提供选定的电子能量,以产生不同光子能量之X射线光谱;其中,在至少一界定能量带内之韧致辐射光子的总数目不会随着施加在该阳极和阴极之间数千伏特之电压的增加而大幅地增加。

9. 发明专利

TW201128678A Ｘ射線電子束產生器及其陰極 X-RAY GENERATION DEVICE AND CATHODE THEREOF 审中-公开
简体标题：Ｘ射线电子束产生器及其阴极 X-RAY GENERATION DEVICE AND CATHODE THEREOF
公开(公告)号：TW201128678A
公开(公告)日：2011-08-16
申请号：TW099119880
申请日：2010-06-18
申请人：能資國際股份有限公司 , 賈淑瑜
发明人：李普仁 , 藍文厚
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J1/304 , H01J35/065 , H01J35/14 , H01J2235/062 , H01J2235/068
摘要：本發明提供一種X射線電子束產生器及其陰極。該X射線電子束產生器包含該陰極、一聚焦裝置、一陽極靶以及一玻璃容器。該陰極包含一容器及一電子束發射體。該容器具有一基座及一側壁，該側壁環繞該基座，且該基座及該側壁界定一凹槽。該電子束發射體包含至少一金屬單元，各該至少一金屬單元被以化學氣相沉積法成長一碳膜層，且各該至少一金屬單元被置放於該凹槽之一底部。該至少一金屬單元與該X射線電子束產生器之一外部金屬單元呈電性連接。該玻璃容器依序置放有該陰極、該聚焦裝置及該陽極靶。各該至少一碳膜層面向該陽極靶。該玻璃容器具有一閥門及一窗口，該閥門用以將該玻璃容器抽成真空，該窗口用以射出一X射線。
简体摘要：本发明提供一种X射线电子束产生器及其阴极。该X射线电子束产生器包含该阴极、一聚焦设备、一阳极靶以及一玻璃容器。该阴极包含一容器及一电子束发射体。该容器具有一基座及一侧壁，该侧壁环绕该基座，且该基座及该侧壁界定一凹槽。该电子束发射体包含至少一金属单元，各该至少一金属单元被以化学气相沉积法成长一碳膜层，且各该至少一金属单元被置放于该凹槽之一底部。该至少一金属单元与该X射线电子束产生器之一外部金属单元呈电性连接。该玻璃容器依序置放有该阴极、该聚焦设备及该阳极靶。各该至少一碳膜层面向该阳极靶。该玻璃容器具有一阀门及一窗口，该阀门用以将该玻璃容器抽成真空，该窗口用以射出一X射线。

10. 发明专利

TWI307110B 控制電子光束電流之方法與裝置 METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING ELECTRON BEAM CURRENT 失效
简体标题：控制电子光束电流之方法与设备 METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING ELECTRON BEAM CURRENT
公开(公告)号：TWI307110B
公开(公告)日：2009-03-01
申请号：TW093102622
申请日：2004-02-05
申请人：美國北卡羅利那大學 THE UNIVERSITY OF NORTH CAROLINA AT CHAPEL HILL
发明人：延平盧 LU, JIANPING , 奧圖Z 周 ZHOU, OTTO Z. , 程元 CHENG, YUAN
IPC分类号： H01J
CPC分类号： H01J35/06 , A61B6/032 , A61B6/4021 , A61B6/4028 , A61B6/405 , A61B6/4488 , A61B6/482 , B82Y10/00 , H01J3/021 , H01J35/065 , H01J35/08 , H01J35/105 , H01J35/14 , H01J35/22 , H01J35/28 , H01J35/30 , H01J2201/30469 , H01J2235/06 , H01J2235/062 , H01J2235/064 , H01J2235/068 , H05G1/34
摘要：本發明係揭示一種用於獨立控制電子發射電流及x射線管中的x射線能量之方法與裝置。其可藉由調整陰極與陽極之間的距離來完成該獨立控制。亦可藉由調整該陰極之溫度來完成該獨立控制。亦可藉由該陰極之光學激發來完成該獨立控制。該陰極可包含諸如奈米碳管(carbon nanotubes;CNT)之類的場發射材料。
简体摘要：本发明系揭示一种用于独立控制电子发射电流及x射线管中的x射线能量之方法与设备。其可借由调整阴极与阳极之间的距离来完成该独立控制。亦可借由调整该阴极之温度来完成该独立控制。亦可借由该阴极之光学激发来完成该独立控制。该阴极可包含诸如奈米碳管(carbon nanotubes;CNT)之类的场发射材料。

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