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1. 发明专利

TWI676810B 檢查裝置及檢查方法有权
简体标题：检查设备及检查方法
公开(公告)号：TWI676810B
公开(公告)日：2019-11-11
申请号：TW105101419
申请日：2016-01-18
申请人：日商濱松赫德尼古斯股份有限公司 , HAMAMATSU PHOTONICS K. K.
发明人：鈴木信介 , SUZUKI, SHINSUKE , 寺田浩敏 , TERADA, HIROTOSHI , 松田俊輔 , MATSUDA, SHUNSUKE
IPC分类号： G01R31/302 , G01R31/26

2. 发明专利

TWI527138B 吸附器、半導體元件觀察裝置、及半導體元件觀察方法有权
简体标题：吸附器、半导体组件观察设备、及半导体组件观察方法
公开(公告)号：TWI527138B
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：TW100122057
申请日：2011-06-23
申请人：濱松赫德尼古斯股份有限公司 , HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
发明人：寺田浩敏 , TERADA, HIROTOSHI , 松浦浩幸 , MATSUURA, HIROYUKI
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9501 , G01N21/01 , H01L21/6838 , H01L21/68757 , H01L21/68785 , H01L22/12

3. 发明专利

TWI370243B 固浸透鏡保持器 HOLDER FOR THE SUPPORT OF A SOLID IMMERSIBLE LENS 失效
简体标题：固浸透镜保持器 HOLDER FOR THE SUPPORT OF A SOLID IMMERSIBLE LENS
公开(公告)号：TWI370243B
公开(公告)日：2012-08-11
申请号：TW093132877
申请日：2004-10-29
申请人：濱松赫德尼古斯股份有限公司
发明人：田邊浩 , 荒田育男 , 寺田浩敏
IPC分类号： G01N
CPC分类号： G02B7/14 , G02B21/33
摘要：本發明係做成具備有：使固浸透鏡3之底面通過開口9b，而使固浸透鏡3朝向自重方向被支持之保持器9的構成。因而，固浸透鏡3被載置於觀察對象物之時，做成由該觀察對象物而將固浸透鏡3提上之狀態，而對保持器9做成自由的狀態。並且，此時，做成不會對觀察對象物施加過度的壓力，並且，固浸透鏡緊密地(倣效)密著於觀察對象物上，而且，保持器9側或觀察對象物側之溫度飄移可對相反側切斷，因而可消除溫度飄移造成的影響。因而，可獲得不會對觀察對象物造成損傷，並且可進行高精度觀察之固浸透鏡。
简体摘要：本发明系做成具备有：使固浸透镜3之底面通过开口9b，而使固浸透镜3朝向自重方向被支持之保持器9的构成。因而，固浸透镜3被载置于观察对象物之时，做成由该观察对象物而将固浸透镜3提上之状态，而对保持器9做成自由的状态。并且，此时，做成不会对观察对象物施加过度的压力，并且，固浸透镜紧密地(仿效)密着于观察对象物上，而且，保持器9侧或观察对象物侧之温度飘移可对相反侧切断，因而可消除温度飘移造成的影响。因而，可获得不会对观察对象物造成损伤，并且可进行高精度观察之固浸透镜。

4. 发明专利

TWI484238B 浸沒透鏡支持裝置有权
简体标题：浸没透镜支持设备
公开(公告)号：TWI484238B
公开(公告)日：2015-05-11
申请号：TW099118009
申请日：2010-06-03
申请人：濱松赫德尼古斯股份有限公司 , HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
发明人：荒田育男 , ARATA, IKUO , 寺田浩敏 , TERADA, HIROTOSHI , 石塚利道 , ISHIZUKA, TOSHIMICHI
IPC分类号： G02B7/02
CPC分类号： G02B21/33 , G02B7/16 , G02B21/248 , G02B27/32

5. 发明专利

TWI363867B 顯微鏡及試料觀察方法 MICROSCOPE AND SAMPLE OBSERVATION METHOD 有权
简体标题：显微镜及试料观察方法 MICROSCOPE AND SAMPLE OBSERVATION METHOD
公开(公告)号：TWI363867B
公开(公告)日：2012-05-11
申请号：TW094105722
申请日：2005-02-25
申请人：濱松赫德尼古斯股份有限公司
发明人：寺田浩敏 , 荒田育男 , 常盤正治 , 田邊浩 , 坂本繁
IPC分类号： G01N , H01L
CPC分类号： G02B21/0016 , G02B21/33 , Y10S359/90
摘要：一種顯微鏡及試料觀察方法，對於檢查對象之半導體裝置S，設置：圖像取得部1、包含對物透鏡20的光學系統2、及可在包含從半導體裝置S朝向對物透鏡20之光軸之插入位置及偏離光軸的等待位置之間移動的固態沈浸透鏡(SIL)3。而且，以2個控制模式進行觀察：第1模式，將SIL3來配置在等待位置，根據半導體裝置S之基板的折射率n0及厚度t0，修正焦點及像差；及第2模式，將SIL3配置在插入位置，根據基板的折射率n0、厚度t0、SIL3之折射率n1、厚度d1及曲率半徑R1，修正焦點及像差。藉此，可獲得一種顯微鏡及試料觀察方法，對半導體裝置的微細構造解析等可容易地進行必要之試料觀察。
简体摘要：一种显微镜及试料观察方法，对于检查对象之半导体设备S，设置：图像取得部1、包含对物透镜20的光学系统2、及可在包含从半导体设备S朝向对物透镜20之光轴之插入位置及偏离光轴的等待位置之间移动的固态沈浸透镜(SIL)3。而且，以2个控制模式进行观察：第1模式，将SIL3来配置在等待位置，根据半导体设备S之基板的折射率n0及厚度t0，修正焦点及像差；及第2模式，将SIL3配置在插入位置，根据基板的折射率n0、厚度t0、SIL3之折射率n1、厚度d1及曲率半径R1，修正焦点及像差。借此，可获得一种显微镜及试料观察方法，对半导体设备的微细构造解析等可容易地进行必要之试料观察。

6. 发明专利

TW201107812A 浸沒透鏡支持裝置审中-公开
简体标题：浸没透镜支持设备
公开(公告)号：TW201107812A
公开(公告)日：2011-03-01
申请号：TW099118009
申请日：2010-06-03
申请人：濱松赫德尼古斯股份有限公司
发明人：荒田育男 , 寺田浩敏 , 石塚利道
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B21/33 , G02B7/16 , G02B21/248 , G02B27/32
摘要：本發明係由透鏡固持器30以及透鏡蓋40構成固浸透鏡支持裝置，其中該透鏡固持器30係將固浸透鏡20於其透鏡下表面22通過下部開口32向下方突出之狀態下以自由而不固定之狀態加以保持者，該透鏡蓋40係相對於透鏡固持器30之上部開口31而設置，成為固浸透鏡20側之蓋下表面42位於垂直於光軸之平面上，與固浸透鏡20之球面狀之透鏡上表面21以一點接觸。又，於透鏡蓋40中，設有可參照經由物鏡而觀察到之透鏡蓋40之像，進行固浸透鏡20相對於物鏡之定位的定位部。藉此，可實現能夠有效率地實施浸沒透鏡向試樣上之移動、設置以及定位的浸沒透鏡支持裝置。
简体摘要：本发明系由透镜固持器30以及透镜盖40构成固浸透镜支持设备，其中该透镜固持器30系将固浸透镜20于其透镜下表面22通过下部开口32向下方突出之状态下以自由而不固定之状态加以保持者，该透镜盖40系相对于透镜固持器30之上部开口31而设置，成为固浸透镜20侧之盖下表面42位于垂直于光轴之平面上，与固浸透镜20之球面状之透镜上表面21以一点接触。又，于透镜盖40中，设有可参照经由物镜而观察到之透镜盖40之像，进行固浸透镜20相对于物镜之定位的定位部。借此，可实现能够有效率地实施浸没透镜向试样上之移动、设置以及定位的浸没透镜支持设备。

7. 发明专利

TWI336777B 固浸透鏡及利用該透鏡的試料觀察方法及裝置 SOLID IMMERSION LENS (SIL) AND SPECIMEN OBSERVATION METHOD BY SIL 有权
简体标题：固浸透镜及利用该透镜的试料观察方法及设备 SOLID IMMERSION LENS (SIL) AND SPECIMEN OBSERVATION METHOD BY SIL
公开(公告)号：TWI336777B
公开(公告)日：2011-02-01
申请号：TW093107467
申请日：2004-03-19
申请人：濱松赫德尼古斯股份有限公司
发明人：荒田育男 , 寺田浩敏
IPC分类号： G01N , G02B
CPC分类号： G02B21/02 , G02B3/00 , G02B21/33
摘要：使用由折射率nL之材質形成之具有曲率半徑RL之球面狀之透鏡面10之固浸透鏡(SIL)1，用來觀察試料2之像。在該試料觀察時，使用指定之光學系用來評估SIL 1所產生之幾何學像差特性。然後，將係數k(0
简体摘要：使用由折射率nL之材质形成之具有曲率半径RL之球面状之透镜面10之固浸透镜(SIL)1，用来观察试料2之像。在该试料观察时，使用指定之光学系用来评估SIL 1所产生之几何学像差特性。然后，将系数k(0

8. 发明专利

TW202008009A 固態浸沒式透鏡單元、半導體檢查裝置审中-公开
简体标题：固态浸没式透镜单元、半导体检查设备
公开(公告)号：TW202008009A
公开(公告)日：2020-02-16
申请号：TW108114250
申请日：2019-04-24
申请人：日商濱松赫德尼古斯股份有限公司 , HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
发明人：毛祥光 , MAO, XIANGGUANG , 小林正典 , KOBAYASHI, MASANORI , 寺田浩敏 , TERADA, HIROTOSHI , 荒田育男 , ARATA, IKUO , 活洲政敬 , IKESU, MASATAKA
IPC分类号： G02B3/00 , G02B13/00 , H01L21/66
摘要：本發明之固態浸沒式透鏡單元具備：固態浸沒式透鏡，其具有用於抵接於包含矽基板之半導體器件之抵接面、及配置為與物鏡相向之球面，且使具有200 nm以上1100 nm以下範圍內之至少一部分之波長之光透射；固持件，其保持固態浸沒式透鏡；及光學元件，其以位於物鏡與固態浸沒式透鏡之間之方式藉由固持件保持，並修正因矽基板與固態浸沒式透鏡之間之折射率差所引起之像差。
简体摘要：本发明之固态浸没式透镜单元具备：固态浸没式透镜，其具有用于抵接于包含硅基板之半导体器件之抵接面、及配置为与物镜相向之球面，且使具有200 nm以上1100 nm以下范围内之至少一部分之波长之光透射；固持件，其保持固态浸没式透镜；及光学组件，其以位于物镜与固态浸没式透镜之间之方式借由固持件保持，并修正因硅基板与固态浸没式透镜之间之折射率差所引起之像差。

9. 发明专利

TWI437305B 固態浸沒式透鏡保持器有权
简体标题：固态浸没式透镜保持器
公开(公告)号：TWI437305B
公开(公告)日：2014-05-11
申请号：TW097122762
申请日：2008-06-18
申请人：濱松赫德尼古斯股份有限公司 , HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
发明人：寺田浩敏 , TERADA, HIROTOSHI , 田邊浩 , TANABE, HIROSHI
IPC分类号： G02B7/04 , G02B21/00
CPC分类号： G02B21/33 , G01N21/9501 , G02B7/022 , G02B21/0016 , G02B21/02 , G02B21/248

10. 发明专利

TWI397105B 半導體不良解析裝置、不良解析方法、以及不良解析程式有权
简体标题：半导体不良解析设备、不良解析方法、以及不良解析进程
公开(公告)号：TWI397105B
公开(公告)日：2013-05-21
申请号：TW095140067
申请日：2006-10-30
申请人：濱松赫德尼古斯股份有限公司 , HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
发明人：真島敏幸 , MAJIMA, TOSHIYUKI , 嶋瀨朗 , SHIMASE, AKIRA , 寺田浩敏 , TERADA, HIROTOSHI , 堀田和宏 , HOTTA, KAZUHIRO
IPC分类号： H01L21/00 , G06F17/50
CPC分类号： G01R31/311 , G01N21/95607 , G01R31/2894

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