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1. 发明专利

TW201707124A 次微米晶圓對準审中-公开
简体标题：次微米晶圆对准
公开(公告)号：TW201707124A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：TW105120056
申请日：2016-06-24
申请人：高通公司 , QUALCOMM INCORPORATED
发明人：格奧爾基耶夫格奧爾基耶夫圖德爾 , GEORGIEV, TODOR GEORGIEV
IPC分类号： H01L21/68
CPC分类号： G02B13/0085 , B32B7/005 , B32B2307/412 , B32B2551/00 , B32B2559/00 , G01B11/14 , G02B7/003 , G02B27/1073 , G02B27/144 , G02B27/32 , G02B27/62 , H01L27/14625 , H01L27/14632
摘要：某些態樣係關於用於晶圓光學件中之次微米對準之系統及技術。一種用以產生一整合式透鏡堆疊之所揭示晶圓間對準方法使用一光束分光器(亦即，一50%透明鏡面)，該光束分光器在顯微鏡物鏡聚焦於底部晶圓之對準標記上時反射頂部晶圓之對準標記。另一種用以產生一整合式透鏡堆疊之所揭示晶圓間對準方法實施互補圖案，該等互補圖案可在未對準時產生一波紋效應以便輔助視覺上判定該等晶圓之間的適當對準。在一些實施例中，可組合該等方法以增加精確度。
简体摘要：某些态样系关于用于晶圆光学件中之次微米对准之系统及技术。一种用以产生一集成式透镜堆栈之所揭示晶圆间对准方法使用一光束分光器(亦即，一50%透明镜面)，该光束分光器在显微镜物镜聚焦于底部晶圆之对准标记上时反射顶部晶圆之对准标记。另一种用以产生一集成式透镜堆栈之所揭示晶圆间对准方法实施互补图案，该等互补图案可在未对准时产生一波纹效应以便辅助视觉上判定该等晶圆之间的适当对准。在一些实施例中，可组合该等方法以增加精确度。

2. 发明专利

TW201133034A 具有一基標的光學傳導基板及對準光學傳導基板的方法 OPTICALLY TRANSMISSIVE SUBSTRATE HAVING A FIDUCIAL MARK AND METHODS OF ALIGNINE OPTICALLY TRANSMISSIVE SUBSTRATES 审中-公开
简体标题：具有一基标的光学传导基板及对准光学传导基板的方法 OPTICALLY TRANSMISSIVE SUBSTRATE HAVING A FIDUCIAL MARK AND METHODS OF ALIGNINE OPTICALLY TRANSMISSIVE SUBSTRATES
公开(公告)号：TW201133034A
公开(公告)日：2011-10-01
申请号：TW099132877
申请日：2010-09-28
申请人： 3M新設資產公司
发明人：督普馬克羅南德 , 哈特薩爾安卓凱西 , 史派瑟史提夫馬克 , 希耶凱薩琳布利爾麗 , 布爾克詹姆士派翠克
IPC分类号： G02B , G06K
CPC分类号： G02B27/32 , G06T7/73 , G06T2207/30204
摘要：本發明揭示一種物件，其包括一包括複數個功能元件與一一體式基標之光學透射基板。該基板具有一全內反射臨界角，與界定一參考平面之一長度與一寬度。該基板包括一設置於主面上之一體式基標。該一體式基標包括由第一截頭圓錐表面與第二截頭圓錐表面所形成的至少一大體上橢圓狀特徵部，該第一截頭圓錐表面與該第二截頭圓錐表面連同垂直於該參考平面之一參考線一起界定各自第一半角與第二半角。該第一半角與該第二半角係小於或等於90度減去以度數表示之該全內反射臨界角。本發明揭示一種方法，其包括：根據本揭示內容提供一光學透射基板；在一機器視覺系統之輔助下，精確地偵測該基標之位置；及視情況精確對準該基板。
简体摘要：本发明揭示一种对象，其包括一包括复数个功能组件与一一体式基标之光学透射基板。该基板具有一全内反射临界角，与界定一参考平面之一长度与一宽度。该基板包括一设置于主面上之一体式基标。该一体式基标包括由第一截头圆锥表面与第二截头圆锥表面所形成的至少一大体上椭圆状特征部，该第一截头圆锥表面与该第二截头圆锥表面连同垂直于该参考平面之一参考线一起界定各自第一半角与第二半角。该第一半角与该第二半角系小于或等于90度减去以度数表示之该全内反射临界角。本发明揭示一种方法，其包括：根据本揭示内容提供一光学透射基板；在一机器视觉系统之辅助下，精确地侦测该基标之位置；及视情况精确对准该基板。

3. 发明专利

TW201741646A 測量裝置、壓印設備、製造產品的方法、光量確定方法及光量調整方法审中-公开
简体标题：测量设备、压印设备、制造产品的方法、光量确定方法及光量调整方法
公开(公告)号：TW201741646A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：TW106112636
申请日：2017-04-14
申请人：佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：八重樫憲司 , YAEGASHI, KENJI , 岩井俊樹 , IWAI, TOSHIKI , 古卷貴光 , KOMAKI, TAKAMITSU
IPC分类号： G01N21/25 , G01B9/02 , G01J9/00 , G03F7/20
CPC分类号： G01B11/272 , G02B27/32 , G02B27/60 , G03F9/7042 , G03F9/7088
摘要：一種用於測量對準標記之間的相對位置的測量裝置包括能夠以複數個波長照明對準標記的照明單元、檢測來自對準標記的光的檢測單元、獲得對準標記之間的相對位置的處理單元、以及調整單元，該調整單元調整複數個波長的光量之間的相對量，使得來自對準標記的光的檢測光量之間的相對值落在預定範圍內。
简体摘要：一种用于测量对准标记之间的相对位置的测量设备包括能够以复数个波长照明对准标记的照明单元、检测来自对准标记的光的检测单元、获得对准标记之间的相对位置的处理单元、以及调整单元，该调整单元调整复数个波长的光量之间的相对量，使得来自对准标记的光的检测光量之间的相对值落在预定范围内。

4. 发明专利

TW200607982A 雙十字線元件及其組裝方法 DUAL RETICLE DEVICE AND ASSEMBLING METHOD THEREOF 失效
简体标题：双十字线组件及其组装方法 DUAL RETICLE DEVICE AND ASSEMBLING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW200607982A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：TW093124768
申请日：2004-08-18
申请人：亞洲光學股份有限公司 ASIA OPTICAL CO., INC.
发明人：梁尚勇 LIANG, SHANG YUNG , 張嘉淳 CHANG, CHIA CHUN
IPC分类号： F41G
CPC分类号： F41G1/38 , G02B27/32
摘要：一種雙十字線元件，主要是由環狀結構、第一十字線以及第二十字線所構成。其中，環狀結構之外側表面上具有四個平行環狀結構之軸心方向的定位槽，而第一十字線係配設於環狀結構的第一環狀端面，第二十字線則係配設於環狀結構的第二環狀端面。在組裝此雙十字線元件的過程中，這些定位槽可使第一十字線與第二十字線分別定位在環狀結構的第一環狀端面與第二環狀端面，進而使第一十字線與第二十字線在環狀結構的軸心方向上互相重合。以此雙十字線元件作為瞄準器來瞄準遠距離的目標物，可具有較佳的準確度。
简体摘要：一种双十字线组件，主要是由环状结构、第一十字线以及第二十字线所构成。其中，环状结构之外侧表面上具有四个平行环状结构之轴心方向的定位槽，而第一十字线系配设于环状结构的第一环状端面，第二十字线则系配设于环状结构的第二环状端面。在组装此双十字线组件的过程中，这些定位槽可使第一十字线与第二十字线分别定位在环状结构的第一环状端面与第二环状端面，进而使第一十字线与第二十字线在环状结构的轴心方向上互相重合。以此双十字线组件作为瞄准器来瞄准远距离的目标物，可具有较佳的准确度。

5. 发明专利

TWI484238B 浸沒透鏡支持裝置有权
简体标题：浸没透镜支持设备
公开(公告)号：TWI484238B
公开(公告)日：2015-05-11
申请号：TW099118009
申请日：2010-06-03
申请人：濱松赫德尼古斯股份有限公司 , HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
发明人：荒田育男 , ARATA, IKUO , 寺田浩敏 , TERADA, HIROTOSHI , 石塚利道 , ISHIZUKA, TOSHIMICHI
IPC分类号： G02B7/02
CPC分类号： G02B21/33 , G02B7/16 , G02B21/248 , G02B27/32

6. 发明专利

TW201107812A 浸沒透鏡支持裝置审中-公开
简体标题：浸没透镜支持设备
公开(公告)号：TW201107812A
公开(公告)日：2011-03-01
申请号：TW099118009
申请日：2010-06-03
申请人：濱松赫德尼古斯股份有限公司
发明人：荒田育男 , 寺田浩敏 , 石塚利道
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B21/33 , G02B7/16 , G02B21/248 , G02B27/32
摘要：本發明係由透鏡固持器30以及透鏡蓋40構成固浸透鏡支持裝置，其中該透鏡固持器30係將固浸透鏡20於其透鏡下表面22通過下部開口32向下方突出之狀態下以自由而不固定之狀態加以保持者，該透鏡蓋40係相對於透鏡固持器30之上部開口31而設置，成為固浸透鏡20側之蓋下表面42位於垂直於光軸之平面上，與固浸透鏡20之球面狀之透鏡上表面21以一點接觸。又，於透鏡蓋40中，設有可參照經由物鏡而觀察到之透鏡蓋40之像，進行固浸透鏡20相對於物鏡之定位的定位部。藉此，可實現能夠有效率地實施浸沒透鏡向試樣上之移動、設置以及定位的浸沒透鏡支持裝置。
简体摘要：本发明系由透镜固持器30以及透镜盖40构成固浸透镜支持设备，其中该透镜固持器30系将固浸透镜20于其透镜下表面22通过下部开口32向下方突出之状态下以自由而不固定之状态加以保持者，该透镜盖40系相对于透镜固持器30之上部开口31而设置，成为固浸透镜20侧之盖下表面42位于垂直于光轴之平面上，与固浸透镜20之球面状之透镜上表面21以一点接触。又，于透镜盖40中，设有可参照经由物镜而观察到之透镜盖40之像，进行固浸透镜20相对于物镜之定位的定位部。借此，可实现能够有效率地实施浸没透镜向试样上之移动、设置以及定位的浸没透镜支持设备。

7. 发明专利

TW200951491A ３Ｄ影像顯示器、調準系統及其方法 3D IMAGE DISPLAY, ALINGING SYSTEM AND METHOD THEREOF 审中-公开
简体标题：３Ｄ影像显示器、调准系统及其方法 3D IMAGE DISPLAY, ALINGING SYSTEM AND METHOD THEREOF
公开(公告)号：TW200951491A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：TW098118240
申请日：2009-06-02
申请人： LG顯示器股份有限公司
发明人：盧壽東 , 白因修
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B27/32 , G02B27/26 , H04N13/327 , H04N13/337
摘要：實施例涉及用於調準3D影像顯示裝置的系統。用於調準3D影像顯示裝置的系統包含：顯示面板、複數個3D濾光器、複數個3D濾光器調準標記以及視覺系統。顯示面板顯示左眼影像和右眼影像，並在顯示面板周圍具有顯示面板調準標記。該等3D濾光器包括透明基板以及延遲器，延遲器在透明基板上將左眼影像轉換為第一偏極光，並將右眼影像轉換為第二偏極光。3D濾光器調準標記在3D濾光器的透明基板上，具有形成在3D濾光器周圍的延遲圖形、以及形成在延遲圖形上的反射板。視覺系統擷取顯示面板調準標記和3D濾光器調準標記的圖片。
简体摘要：实施例涉及用于调准3D影像显示设备的系统。用于调准3D影像显示设备的系统包含：显示皮肤、复数个3D滤光器、复数个3D滤光器调准标记以及视觉系统。显示皮肤显示左眼影像和右眼影像，并在显示皮肤周围具有显示皮肤调准标记。该等3D滤光器包括透明基板以及延迟器，延迟器在透明基板上将左眼影像转换为第一偏极光，并将右眼影像转换为第二偏极光。3D滤光器调准标记在3D滤光器的透明基板上，具有形成在3D滤光器周围的延迟图形、以及形成在延迟图形上的反射板。视觉系统截取显示皮肤调准标记和3D滤光器调准标记的图片。

8. 发明专利

TW201423035A 光耦合透鏡檢測系統及其檢測方法审中-公开
简体标题：光耦合透镜检测系统及其检测方法
公开(公告)号：TW201423035A
公开(公告)日：2014-06-16
申请号：TW101147654
申请日：2012-12-14
申请人：鴻海精密工業股份有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO., LTD.
发明人：洪毅 , HUNG, YI
IPC分类号： G01B11/26 , G02B6/26
CPC分类号： G01M11/30 , G02B17/0876 , G02B19/0028 , G02B19/0085 , G02B27/32 , H04B10/00
摘要：一種光耦合透鏡檢測系統，其包括光耦合透鏡及反射鏡。光耦合透鏡包括垂直的光入射面及光出射面、與光入射面及光出射面均相連且呈45度夾角的反射面、對應的第一及第二會聚透鏡、第一定位柱、翻轉90度後在光入射面上的投影的中心與第一定位柱的中心完全重合的第二定位柱、對應的第一及第二對位柱。第一定位柱、第一對位柱及第一會聚透鏡位於光入射面。第二定位柱、第二對位柱及第二會聚透鏡位於光出射面。反射鏡的一端抵觸於反射面與光出射面的交線上，另一端遠離光出射面。反射鏡與光出射面之間的夾角為45度，反射鏡的鏡面朝向光出射面。
简体摘要：一种光耦合透镜检测系统，其包括光耦合透镜及反射镜。光耦合透镜包括垂直的光入射面及光出射面、与光入射面及光出射面均相连且呈45度夹角的反射面、对应的第一及第二会聚透镜、第一定位柱、翻转90度后在光入射面上的投影的中心与第一定位柱的中心完全重合的第二定位柱、对应的第一及第二对位柱。第一定位柱、第一对位柱及第一会聚透镜位于光入射面。第二定位柱、第二对位柱及第二会聚透镜位于光出射面。反射镜的一端抵触于反射面与光出射面的交在线，另一端远离光出射面。反射镜与光出射面之间的夹角为45度，反射镜的镜面朝向光出射面。

9. 发明专利

TWI245109B 雙十字線元件及其組裝方法 DUAL RETICLE DEVICE AND ASSEMBLING METHOD THEREOF 失效
简体标题：双十字线组件及其组装方法 DUAL RETICLE DEVICE AND ASSEMBLING METHOD THEREOF
公开(公告)号：TWI245109B
公开(公告)日：2005-12-11
申请号：TW093124768
申请日：2004-08-18
申请人：亞洲光學股份有限公司 ASIA OPTICAL CO., INC.
发明人：梁尚勇 LIANG, SHANG YUNG , 張嘉淳 CHANG, CHIA CHUN
IPC分类号： F41G
CPC分类号： F41G1/38 , G02B27/32
摘要：一種雙十字線元件，主要是由環狀結構、第一十字線以及第二十字線所構成。其中，環狀結構之外側表面上具有四個平行環狀結構之軸心方向的定位槽，而第一十字線係配設於環狀結構的第一環狀端面，第二十字線則係配設於環狀結構的第二環狀端面。在組裝此雙十字線元件的過程中，這些定位槽可使第一十字線與第二十字線分別定位在環狀結構的第一環狀端面與第二環狀端面，進而使第一十字線與第二十字線在環狀結構的軸心方向上互相重合。以此雙十字線元件作為瞄準器來瞄準遠距離的目標物，可具有較佳的準確度。
简体摘要：一种双十字线组件，主要是由环状结构、第一十字线以及第二十字线所构成。其中，环状结构之外侧表面上具有四个平行环状结构之轴心方向的定位槽，而第一十字线系配设于环状结构的第一环状端面，第二十字线则系配设于环状结构的第二环状端面。在组装此双十字线组件的过程中，这些定位槽可使第一十字线与第二十字线分别定位在环状结构的第一环状端面与第二环状端面，进而使第一十字线与第二十字线在环状结构的轴心方向上互相重合。以此双十字线组件作为瞄准器来瞄准远距离的目标物，可具有较佳的准确度。

10. 发明专利

TW202481B 引導紅黴素多酮之生物合成的方法失效
简体标题：引导红霉素多酮之生物合成的方法
公开(公告)号：TW202481B
公开(公告)日：1993-03-21
申请号：TW081100185
申请日：1992-01-13
申请人：亞寶特化工廠
发明人：史蒂芬諾.唐狄奧 , 理昂德.凱茲 , 詹姆士.麥艾爾派
IPC分类号： C12N
CPC分类号： G02B27/32 , G02B23/00 , Y10S359/90
摘要：本發明是有關產製新穎的多酮（polyketide）結構之方法，係於決定多酮合成之ＤＮＡ處進行設計並引入特異的變化。特異多酮類似物之生合成，由多酮產製菌之遺傳操作來完成，係分離出含有多酮生合成基因之ＤＮＡ序列，鑑定ＤＮＡ序列內有關之酵素活性，將一個以上之特異變化引入ＤＮＡ序列中，而其係指導合成酵素活性之一而造成變化的ＤＮＡ序列，將經變化之ＤＮＡ序列引入多酮產製菌中以更換原先之序列，於適合特異多酮類似物形成之條件下培養經改變微生物，自培養物中分離出特異多酮類似物。本方法於經處理條飾之染色體片段涉及於與多酮生合成有關之酵素活性時最為有用，特別是自糖多孢菌（Saccharapolyspora）或鏈黴菌（St－ reptomyces）中操作多酮合成基團。
简体摘要：本发明是有关产制新颖的多酮（polyketide）结构之方法，系于决定多酮合成之ＤＮＡ处进行设计并引入特异的变化。特异多酮类似物之生合成，由多酮产制菌之遗传操作来完成，系分离出含有多酮生合成基因之ＤＮＡ串行，鉴定ＤＮＡ串行内有关之酶活性，将一个以上之特异变化引入ＤＮＡ串行中，而其系指导合成酶活性之一而造成变化的ＤＮＡ串行，将经变化之ＤＮＡ串行引入多酮产制菌中以更换原先之串行，于适合特异多酮类似物形成之条件下培养经改变微生物，自培养物中分离出特异多酮类似物。本方法于经处理条饰之染色体片段涉及于与多酮生合成有关之酶活性时最为有用，特别是自糖多孢菌（Saccharapolyspora）或链霉菌（St－ reptomyces）中操作多酮合成基团。

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